NL8701871A - Geladen deeltjes apparaat met bundelontmenger. - Google Patents

Geladen deeltjes apparaat met bundelontmenger. Download PDF

Info

Publication number
NL8701871A
NL8701871A NL8701871A NL8701871A NL8701871A NL 8701871 A NL8701871 A NL 8701871A NL 8701871 A NL8701871 A NL 8701871A NL 8701871 A NL8701871 A NL 8701871A NL 8701871 A NL8701871 A NL 8701871A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
deflection
source
particle
magnetic
electrostatic
Prior art date
Application number
NL8701871A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NL8701871A priority Critical patent/NL8701871A/nl
Priority to EP88201676A priority patent/EP0304114A1/en
Priority to US07/229,591 priority patent/US4962308A/en
Priority to KR1019880010086A priority patent/KR890004383A/ko
Priority to JP63196210A priority patent/JPS6465759A/ja
Publication of NL8701871A publication Critical patent/NL8701871A/nl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/05Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/08Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Description

* *
V
4 PHN 12.217 1 N.V. Philips' Gloeilampenfabriekenfabrieken te Eindhoven.
Geladen deeltjes apparaat met bundelontmenger.
De uitvinding heeft betrekking op een geladen deelt jesbundel. apparaat met een deeltjesbron voor het opwekken van een deeltjesbundel, een meervoudige elektrodenstelsel voor collimatie en of versnelling van de deeltjesbundel en met een inrichting voor ruimtelijke 5 scheiding elektronen en ionen.
Een dergelijk apparaat is bekend uit EP 209389. In een aldaar beschreven apparaat worden door de elektronenbundel gevormde ionen met behulp van een cascade stelsel van electroden uit de bundelbaan van de elektronenbundel verwijderd. Voor de scheiding wordt 10 gebruik gemaakt van een verschil in kinetische energie tussen hier voor verder gebruik gewenste electronen en niet gewenste ionen.
Een dërgelijk electrodenstelsel zal evenwel ook invloed hebben op de elektronenbundel. Juist om nadelige gevolgen van deze beïnvloeding te vermijden wordt gebruik gemaakt van een cascade stelsel 15 van bijvoorbeeld 8 afwisselend positief en negatief geladen paren afbuigplaten. Hoewel de nadelige beïnvloeding van de electronen bundel aldus kan worden gereduceerd, is die hierdoor niet geheel op te heffen.
Bovendien is het scheidingsstelsel relatief ingewikkeld van opbouw en vraagt het een grote precisie in positionering en besturing.
20 De uitvinding beoogt de genoemde bezwaren te ondervangen en daartoe heeft een apparaat van de in de aanhef genoemde soort volgens de uitvinding tot kenmerk, dat de deeltjes scheidende inrichtng een met een elektrostatisch afbuiginrichting samenwerkend magnetisch afbuiginrichting bevat.
25 Een bundelafbuigsysteem opgenomen in een meervoudig electrodenstelsel van een apparaat volgens de uitvinding buigt de gehele bundel geladen deeltjes van een optische as af terwijl de bundel door een magnetisch beam alignment systeem de elektronenbundel zodanig terug wordt gebogen, dat deze, bij voorkeur relatief kort voor een te 30 bestralen object, weer tot verloop langs de optische as wordt gebracht.
Het is voor de uitvinding niet van belang of het magneetveld en het elektrostatische veld in dezelfde ruimte of op 870 1 87.1 '4 f ‘ i PHN 12.217 2 verschillende plaatsen actief zijn en in welke volgorde die zijn opgesteld. Een opstelling met eerst een elektrostatisch afbuigveld en relatief dicht bij het object een magnetisch terugbuigveld heeft het voordeel dat de effectief te gebruiken bundel slechts over een geringe 5 afstand weer langs de optische as verloopt ofwel een hoofdstraal van de teruggebogen bundel dwars op een te bestralen object is gericht.
In een voorkeursuitvoering wordt het electrostatisch afbuigsysteem gevormd door een aangepaste elektroden constructie in een meervoudige versnellingssysteem van het apparaat, In het bijzonder bevat 10 het elektrostatisch afbuigsysteem een conisch opgesteld elektrodenstelsel. In het bijzonder door is dit gevormd door aan een van de elektrodenstelsels een conisch verloop te geven. Het is voor de uitvinding niet van belang of de effectief te gebruiken geladen deeltjes bundel een elektronen of een ionenbundel is. Het is gunstig de totale 15 bundel van de optische as af te buigen en de bundel te gebruiken deeltjes weer tot verloop langs de optische as terug te brengen. Het laatste is overigens geen voorwaarde voor de uitvinding daar ook met een scheef invallende bundel of met een scheef, bijvoorbeeld dwars op de invallende bundel, opgesteld object kan worden gewerkt.
20 Aan de hand van de tekening zullen in het navolgende enkele voorkeursuitvoeringen volgens de uitvinding nader worden beschreven.
De enkele figuur van de tekening toont, zeer schematisch, een apparaat volgens de uitvinding met een deeltjesbron 2 opgenomen in 25 een bronbehuizing 4 en uitgerust met een emitter 6, bijvoorbeeld een gloeidraad, een emissienaald, een lanthaan hexabromide emitter, een halfgeleider emitter en dergelijke als elektronenbron. Zie bijvoorbeeld EP 192244, of een ionenbron, bijvoorbeeld zoals beschreven in EP 80170, EP 37455 of US 3,731,089. Van de bron is verder enkel een eerste anode 8 30 met een opening 10 aangegeven. Met behulp van de anode en een eventueel rooster kan de bundelstroom worden gestuurd. De bronbehuizing 4 is met een flensverbinding 12 koppelbaar met een elektrodensysteemhuis 14 dat op gelijke wijze via een flensverbinding 16 met een objecthuis 18 is verbonden. Een elektrodensysteem 19 omvat hier een stelsel 35 versnellings-, deflectie- of collimatie elektroden 20 waarvan een meest nabij de bron gelegen exemplaar 201 is voorzien van een anode 22 met een opening 24 waardoor een deeltjesbundel 25 het apparaat binnentreedt.
8701871 \ PHN 12.217 3
Voor afbuiging van de bundel 25 is tussen twee opvolgende elektroden 20 een conisch elektrodenstelsel 26 opgenomen. Het electrodenstelsel 26 bevat hier een conisch verlopende schijf 28 en een conisch verlopende schijf 29 die zijn gemonteerd tegen elkaar opvolgende elektroden 202 en 5 203 van het elektrodenstelsel 19. Naar elkaar toegekeerde oppervlakken van de conische schijven verlopen daarbij bij voorkeur parallel. De conische schijven kunnen, ook galvanisch gezien, een geheel met de betreffende elektroden 20 vormen en zullen dan overeenkomstige potentialen voeren. Hiermede is een bundelafbuiging gerealiseerd met 10 overigens mimimale veranderingen in het versnellingssysteem en de besturing daarvan.
De mate van bundelafbuiging wordt hierbij bepaald door de conushoek die bijvoorbeeld 10°-15° bedraagt en de doorsnede van de gevormde opening voor de bundel die bijvoorbeeld 20 mm bedraagt.
15 Elektrostatische besturingen zijn daar verder niet voor nodig en de potentialen van de twee omgevormde electroden 20 behoeven in principe geen wijzigingen.
De conische schijven 28 en 29 kunnen ook galvanisch geïsoleerd van de elektroden 20 zijn opgesteld en van elektrische 20 toevoerleidingen zijn voorzien voor een elektrostatisch stuurbare mate van bundelafbuiging. Met een conisch elektrodenstelsel wordt de bundel 25 bijvoorbeeld over een hoek 30 afgebogen en komt dan ook onder die hoek met de optische as 31 van het apparaat, via een laatste elektrode 204 een objectruimte 33 binnen. De laatste elektrode kan om 25 bundelverstoring te vermijden ook niet axiaal zijn opgesteld of van een grotere opening 34 zijn voorzien. Bedacht moet hierbij worden, dat de bundelafbuighoek 30 relatief klein is en bijvoorbeeld slechts enkele graden bedraagt. De bundelverplaatsing ten opzichte van de optische as 31 ter plaatse van de electrode 204 is dan, bij een geringe afstand van 30 bijvoorbeeld 10 mm tussen de electrode 204 en het afbuigpunt 32 van de bundel, ten hoogste ongeveer 1 mm.
Met een magnetisch beam alignment systeem 40 mét twee in onderling loodrechte richting werkende afbuigspoelen 42 en 44 wordt bijvoorbeeld de elektronenbundel uit de afgebogen bundel 25 als zuivere 35 elektronenbundel 45 naar een object 46 gericht. Het object 46 is gemonteerd op een objectdrager 48 waarmede het object kan worden getransleerd en eventueel ook kan worden geroteerd en gekanteld. Met 8701871 ♦ f' PHN 12.217 4 behulp van detectoren 50 kunnen door de bundel 45 opgewekte signalen, zoals secundaire electronen, röntgenstralen, gereflecteerde elektronen en doorgelaten elektronen worden gemeten. Via de objectdrager kunnen ook door het object ingevangen elektronen worden gemeten.
5 In de bundel 25 aanwezige ionen worden door het beam alignement systeem niet of slechts in zeer geringe mate afgebogen en kunnen bijvoorbeeld met een diafragma 52 worden ingevangen.
Voor selectie van een zuivere ionenbundel uit een bundel waarin zich bijvoorbeeld ook elektronen bevinden kan in principe 10 dezelfde weg worden gevolgd maar daarbij geniet het de voorkeur om toch weer de elektronen af te buigen en eventueel door een diagragma op te vangen en een te bestralen object om een hoofdstraal van de elektrostatisch afgebogen bundel te oriënteren. Ook kan het daarbij gunstig zijn de positie van de elektrostatische en magnetische 15 afbuiging, in de stralengang gezien, van positie om te keren.
8701871

Claims (6)

1. Geladen deeltjes bundel apparaat met een deeltjesbron voor het opwekken van een deeltjesbundel, een meervoudige elektrodenstelsel voor collimatie en versnelling van de bundel en een inrichting voor ruimtelijke scheiding van elektronen en ionen met het 5 kenmerk, dat het scheidend stelsel een met een elektrostatisch afbuiginrichting samenwerkend magnetisch afbuiginrichting bevat.
2. Inrichting volgens conclusie 1 met het kenmerk dat de elektristatisch afbuiginrichting wordt gevormd door conisch gevormde elektroden van het collimatie-versnellingselektrodenstelsel.
3. Inrichting volgens conclusie 1 of 2 met het kenmerk, dat de magnetisch afbuiginrichting wordt gevormd door een beam alignement systeem dat een door de elektrostatisch afbuiginrichting opgewekte bundelafbuiging substantieel compenseert.
4. Inrichting volgens conclusie 1, 2 of 3 met het kenmerk, 15 dat de magnetische afbuiginrichting nabij een te bestralen object in de inrichting is geplaatst.
5. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies met het kenmerk, dat de deeltjesbron een elektronenbron is.
6. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies met het 20 kenmerk, dat de deeltjesbron een ionenbron is. 8701871
NL8701871A 1987-08-10 1987-08-10 Geladen deeltjes apparaat met bundelontmenger. NL8701871A (nl)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8701871A NL8701871A (nl) 1987-08-10 1987-08-10 Geladen deeltjes apparaat met bundelontmenger.
EP88201676A EP0304114A1 (en) 1987-08-10 1988-08-03 Charged particle apparatus comprising a beam discriminator
US07/229,591 US4962308A (en) 1987-08-10 1988-08-08 Charged particle apparatus comprising a beam discriminator
KR1019880010086A KR890004383A (ko) 1987-08-10 1988-08-08 빔 변별기를 구비한 대전 입자장치
JP63196210A JPS6465759A (en) 1987-08-10 1988-08-08 Charged powder apparatus with beam discriminator

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8701871 1987-08-10
NL8701871A NL8701871A (nl) 1987-08-10 1987-08-10 Geladen deeltjes apparaat met bundelontmenger.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL8701871A true NL8701871A (nl) 1989-03-01

Family

ID=19850430

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8701871A NL8701871A (nl) 1987-08-10 1987-08-10 Geladen deeltjes apparaat met bundelontmenger.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4962308A (nl)
EP (1) EP0304114A1 (nl)
JP (1) JPS6465759A (nl)
KR (1) KR890004383A (nl)
NL (1) NL8701871A (nl)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5821534A (en) * 1995-11-22 1998-10-13 Bruker Analytical Instruments, Inc. Deflection based daughter ion selector
SG74599A1 (en) * 1997-09-27 2000-08-22 Inst Of Material Res & Enginee Portable high resolution scanning electron microscope column using permanent magnet electron lenses
US5959528A (en) * 1998-07-01 1999-09-28 General Signal Corporation Auto synchronous output module and system
JP4133883B2 (ja) * 2003-12-04 2008-08-13 日新イオン機器株式会社 イオンビーム装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3445650A (en) * 1965-10-11 1969-05-20 Applied Res Lab Double focussing mass spectrometer including a wedge-shaped magnetic sector field
GB1476171A (en) * 1974-04-02 1977-06-10 Nat Res Dev Ion microprobes
DE2937136A1 (de) * 1979-09-13 1981-04-02 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren und vorrichtung zur schnellen ablenkung eines korpuskularstrahls
JPS5975550A (ja) * 1982-10-25 1984-04-28 Jeol Ltd 荷電粒子線の集束方法
JPS6273541A (ja) * 1985-09-27 1987-04-04 Hitachi Ltd 走査形電子顕微鏡及びその類似装置
JPH06101318B2 (ja) * 1985-10-16 1994-12-12 株式会社日立製作所 イオンマイクロビ−ム装置
JPS62108438A (ja) * 1985-11-01 1987-05-19 バリアン・アソシエイツ・インコ−ポレイテツド 空間電荷レンズを使用した高電流質量分光計
US4687940A (en) * 1986-03-20 1987-08-18 Hughes Aircraft Company Hybrid focused-flood ion beam system and method
US4835399A (en) * 1986-08-22 1989-05-30 Hitachi, Ltd. Charged particle beam apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
US4962308A (en) 1990-10-09
KR890004383A (ko) 1989-04-21
JPS6465759A (en) 1989-03-13
EP0304114A1 (en) 1989-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4002912A (en) Electrostatic lens to focus an ion beam to uniform density
US5490193A (en) X-ray computed tomography system
JP2000133194A5 (nl)
US20020153483A1 (en) Detector optics for electron beam inspection system
JP2899629B2 (ja) 荷電二次粒子の検出装置
US5780859A (en) Electrostatic-magnetic lens arrangement
US20100258719A1 (en) Particle-beam microscope
US6730907B1 (en) Charged particle device
US4551599A (en) Combined electrostatic objective and emission lens
JPH02142045A (ja) 荷電粒子線応用装置
JP4084427B2 (ja) 改善された2次電子検出のための多極界を用いた環境制御型sem
US6781123B2 (en) Charged particle beam control element, method of fabricating charged particle beam control element, and charged particle beam apparatus
NL8701871A (nl) Geladen deeltjes apparaat met bundelontmenger.
EP0790634B1 (en) Electrostatic-magnetic lens arrangement
JP2973136B2 (ja) 粒子線装置
US4774408A (en) Time of flight mass spectrometer
GB2079035A (en) Deflection system for charged-particle beam
EP0953202A1 (en) Particle beam device
US4823005A (en) Electron beam apparatus
KR20000034962A (ko) 하전입자의 이중-모드 검출 장치 및 방법
NL8702570A (nl) Geladen deeltjes bundel apparaat.
US6664544B1 (en) Magnetic immersion lense with detection arrangement
US4160905A (en) Electron microscopes
US9202667B2 (en) Charged particle radiation device with bandpass detection
GB2147140A (en) Mass spectrometers

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
BV The patent application has lapsed