NL8601432A - Metaalfilmweerstanden. - Google Patents

Metaalfilmweerstanden. Download PDF

Info

Publication number
NL8601432A
NL8601432A NL8601432A NL8601432A NL8601432A NL 8601432 A NL8601432 A NL 8601432A NL 8601432 A NL8601432 A NL 8601432A NL 8601432 A NL8601432 A NL 8601432A NL 8601432 A NL8601432 A NL 8601432A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
resistance
metal film
alloy
resistors
nickel
Prior art date
Application number
NL8601432A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NL8601432A priority Critical patent/NL8601432A/nl
Priority to US07/050,827 priority patent/US4774491A/en
Priority to EP87200987A priority patent/EP0248476B1/en
Priority to DE8787200987T priority patent/DE3772108D1/de
Priority to AT87200987T priority patent/ATE66315T1/de
Priority to KR1019870005322A priority patent/KR970004565B1/ko
Priority to CA000538444A priority patent/CA1291885C/en
Priority to JP62134990A priority patent/JP2571227B2/ja
Publication of NL8601432A publication Critical patent/NL8601432A/nl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/02Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for manufacturing resistors with envelope or housing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • H01C7/006Thin film resistors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/06Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
    • H01C17/075Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thin film techniques
    • H01C17/12Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thin film techniques by sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • H01C7/06Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material including means to minimise changes in resistance with changes in temperature

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)

Description

«... - V
PHN 11.781 1 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken te Eindhoven.
Metaalfilaweerstanden.
De uitvinding heeft betrekking op elektrische metaalfilaweerstanden met een nikkel-legering als weerstandsmateriaal. Dergelijke weerstanden zijn bekend uit het GB-PS
1 338 735 met als weerstandsmateriaal een Ni-Cr-Al-legering, waarbij 5 15 i Ni v< 55 10 i Cr i 68 en 2 i Al { 60, uitgedrukt in gew.%.
Deze weerstanden, die vervaardigd worden door de legering op een substraatoppervlak door sputteren aan te brengen en ze vervolgens 10 te stabiliseren door ze in een zuurstofhoudende atmosfeer te verhitten, kunnen uitstekend op industriële schaal worden gerealiseerd in het traject vanaf ongeveer 5 Ohm tot 1 M Ohm. Zij bezitten een temperatuurcoefficient van de elektrische weerstand met een waarde tussen ±25 x 10"6/°C in het temperatuurgebied van -55 tot +155°C.
15 Veerstanden van dit materiaal met een waarde beneden 5
Ohm kunnen weliswaar door verstuiven gemaakt worden, doch dan moet zeer lang verstoven worden, bijvoorbeeld gedurende 10 uur om een weerstand van 0,5 Ohm te verkrijgen en hiervoor is dan een arbeidsvermogen van 8 kW per 40.000 stuks nodig. Dit is in de praktijk onacceptabel. Men 20 heeft daarom voor deze waarde zijn toevlucht genomen tot nikkel-fosfor als weerstandsmateriaal, dat door middel van een stroomloos werkend vernikkelbad op een bekiemd substraat wordt neergeslagen. De kwaliteitseisen, die men hanteert voor de weerstanden boven 5 Ohm, die door sputteren worden vervaardigd, kunnen met deze stroomloos 25 vernikkelde weerstanden bij lange na niet worden gerealiseerd.
Weerstandslichamen voor toepassingen waarbij hoge vermogens (> 1W) gedissipeerd worden kunnen bij gebruik opwarmen tot ongeveer 300°C. Zij moeten echter, ook na langdurig gebruik, waarbij deze werktemperatuur herhaalde malen wordt bereikt, enige tijd 30 gehandhaafd blijft en het weerstandslichaam weer naar kamertemperatuur afkoelt, stabiel blijven. Een andere categorie laagohmige weerstanden zijn de z.g. precisieweerstanden. Deze weerstanden moeten een 8601432
-J
PHN 11.781 2 temperatuurcoefficient van de weerstandswaarde tussen + 25 x 10~®/°C bezitten.
Voorts moet de door sputteren opgebrachte laag een hoge slijtvastheid bezitten. Het sputteren vindt namelijk plaats in een 5 draaiende trommel, waarin zich de te bedekken dragers los bevinden en met enige kracht langs elkaar schuren. Wanneer de laag uit materiaal met een lage slijtvastheid bestaat, betekent dit dat de sputtertijd door de slijtage wordt verlengd en bovendien, dat de homogeniteit van de afzetting wordt verstoord en dat daardoor het uiterlijk van de 10 'produkten wordt geschaad.
De bekende, door sputteren aan te brengen, weerstandsmaterialen, zoals de hierboven genoemde Ni-Cr-Al-legering, maar ook Ni-Cr of Ni-Cu legeringen kunnen aan al deze eisen niet voldoen.
15 Zo heeft bijvoorbeeld NiCr een lager niveau van de specifieke weerstand dan een NiCrAl-legering, doch een temperatuurcoefficient van de weerstand van ongeveer 140x10”^/°C.
Beide legeringen hebben een vrij lage slijtvastheid.
Ook een andere binaire legering, NiCu, met een lage 20 soortelijke weerstand voldoet niet. NiCu (30/70 gew.%) kan wel met een magnetron sputterapparaat verstoven worden, doch bleek een temperatuurcoefficient van de weerstand van 100-150x10~6/°C te • hebben en bovendien een groot verloop bij ouderen te vertonen. Er werd bij het sputteren zeer veel stof gevormd door de grote slijtage bij het 25 trommelen en de laag hechtte slecht aan de keramiek.
De uitvinding verschaft een weerstandsmateriaal voor de lage weerstandswaarden met een absolute waarde van de temperatuurcoefficient van de weerstand in het temperatuurtraject van -55 tot +150°C beneden 50x10”®/°C en zelfs beneden 25x10“®/°C 30 en met een slijtvastheid die voor de vervaardigingswijze door sputteren in een trommel op los bewegende weerstandsdragers een aanvaardbare waarde bezit.
Volgens de uitvinding is een filmweerstand voor weerstandswaarden beneden 10 Ohm en een temperatuurcoefficient van de 35 weerstand daardoor gekenmerkt, dat de filmweerstand bestaat uit een legering van nikkel en aluminium met een aluminiumgehalte van ten minste 14,5 en ten hoogste 22 gew.%, waarbij de rest bestaat uit nikkel, 8501432 > PHN 11.781 3 afgezien van compatibele verontreinigingen met een maximum van totaal 2.5 gew.%.
Voor toepassing als precisieweerstand wordt geeist, dat de absolute waarde van de temperatuurcoefficient van de weerstand 5 beneden 25x10~®/°C tussen -55 en +150°C ligt. Volgens een voorkeursuitvoering,van de weerstand wordt dit bereikt, wanneer de legering van nikkel en aluminium een aluminiumgehalte van ten minste 16.5 en ten hoogste 18,5 gew.% bezit.
De weerstandslagen worden aangebracht door sputteren, bij 10 voorkeur met behulp van magnetron-verstuiving.
Een uitstekende stabiliteit van de weerstanden verkrijgt men door op zich bekende wijze te ouderen in een zuurstofhoudende atmosfeer, bijvoorbeeld in lucht, op een temperatuur boven 300°C Bij wijze van voorbeeld volgt thans de beschrijving van 15 de vervaardiging van een aantal soorten weerstanden volgens de uitvinding.
In een magnetron-verstuivingsapparaat met een roterende trommel werden een aantal porceleinen staafjes met een diameter van 1,7 mm en een lengte van 6 mm met een trefplaat uit NiAl met een variërend 20 gehalte aan Al met een laag van deze legering bedekt. Na aanbrengen van de NiAl-laag worden de weerstanden gedurende 3 uur op verschillende temperaturen geouderd.
Een aldus verkregen Ni-Al weerstandslichaam met een gehalte aan Al van 19,2% bezat een weerstandswaarde van 0,76 Ohm, die na 25 3 uur ouderen op 350°C opliep tot 0,86 Ohm. De temperatuurcoefficient van de weerstand in het traject van +25 tot +150°C bedroeg 40 x 10‘6/°C.
Een weerstandslichaam met een Al-gehalte van 17,2 % bezat een weerstandswaarde van 1,1 Ohm en een temperatuurcoefficient 30 tussen 25 en 150°C van -22 x 10~^/°C. Na 3 uur ouderen op 300°C
verhoogde de weerstandswaarde zich tot 1,2 Ohm, terwijl de TCR in het traject -55 -» +25°C: +5 x 10"®/°C en in het traject +25 +150°C: -17 x 10-6/°C bedroeg.
Een Ni-Al lichaam met 14,2% Al, buiten het 35 samenstellingsgebied van de uitvinding bezat een weerstandswaarde van 1,1 Ohm, na 3 h ouderen op 300°C oplopend tot 1,3 Ohm met een TCR in het traject van 25 150°C van 350 x 10~®/°C.
8601432 PHN 11.781 4 . *
Een eveneens onbruikbaar hoge waarde van de TCR werd verkregen met Ni-AX weerstandslichamen met Al-gehalten boven 22 gew.%. De verkregen weerstanden werden onderworpen aan een aantal proeven.
Een duurproef op +70°C gaf bij alle weerstandslichamen 5 na 1000 uur een verandering in de weerstandswaarde die binnen 11/4 % bleef.
Ook een temperatuurwisselproef, bestaande uit 5 cycli van een verblijf van de weerstandslichamen gedurende 1/2 uur op +155°C, gevolgd door een verblijf gedurende 1/2 uurop -55°C gaf voor alle 10 weerstandslichamen een verandering van de waarde binnen 11/4 %.
Bij de bekende opgedampte metaalfilmweerstanden op basis van NiCr of NiCu gaven deze tests een grotere verandering van de weerstandswaarde.
§601432

Claims (4)

1 Elektrische metaalfilmweerstand met een nikkellegering als weerstandsmateriaal, met het kenmerk, dat het weerstandsmateriaal bestaat uit een legering van nikkel en aluminium met een aluminiumgehalte van ten minste 14,5 en ten hoogste 22 gew.%, waarbij de 5 rest bestaat uit nikkel, afgezien van compatibele verontreinigingen met een maximum van totaal 2,5 gew.%.
2 Metaalfilmweerstand volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het weerstandsmateriaal bestaat uit een legering van nikkel en aluminium met een aluminiumgehalte van ten minste 16,5 en ten hoogste 10 18,5 gew.%.
3. Werkwijze voor de vervaardiging van een metaalfilmweerstand volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat de metaalfilm wordt aangebracht door middel van magnetron-sputteren.
4. Werkwijze volgens 3, met het kenmerk, dat de aangebrachte 15 metaalfilm wordt geouderd door verhitting op een temperatuur van tenminste 300°C in een zuurstofhoudende atmosfeer. 8601432
NL8601432A 1986-06-04 1986-06-04 Metaalfilmweerstanden. NL8601432A (nl)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8601432A NL8601432A (nl) 1986-06-04 1986-06-04 Metaalfilmweerstanden.
US07/050,827 US4774491A (en) 1986-06-04 1987-05-15 Metal film resistors
EP87200987A EP0248476B1 (en) 1986-06-04 1987-05-26 Metal film resistors
DE8787200987T DE3772108D1 (de) 1986-06-04 1987-05-26 Metall-filmwiderstaende.
AT87200987T ATE66315T1 (de) 1986-06-04 1987-05-26 Metall-filmwiderstaende.
KR1019870005322A KR970004565B1 (ko) 1986-06-04 1987-05-28 금속 피막 저항기 및 그 제조방법
CA000538444A CA1291885C (en) 1986-06-04 1987-06-01 Metal film resistors
JP62134990A JP2571227B2 (ja) 1986-06-04 1987-06-01 金属皮膜抵抗器

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8601432 1986-06-04
NL8601432A NL8601432A (nl) 1986-06-04 1986-06-04 Metaalfilmweerstanden.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL8601432A true NL8601432A (nl) 1988-01-04

Family

ID=19848115

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8601432A NL8601432A (nl) 1986-06-04 1986-06-04 Metaalfilmweerstanden.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4774491A (nl)
EP (1) EP0248476B1 (nl)
JP (1) JP2571227B2 (nl)
KR (1) KR970004565B1 (nl)
AT (1) ATE66315T1 (nl)
CA (1) CA1291885C (nl)
DE (1) DE3772108D1 (nl)
NL (1) NL8601432A (nl)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5170146A (en) * 1991-08-01 1992-12-08 Motorola, Inc. Leadless resistor
US5680092A (en) * 1993-11-11 1997-10-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Chip resistor and method for producing the same
US6830627B1 (en) * 1999-03-23 2004-12-14 International Business Machines Corporation Copper cleaning compositions, processes and products derived therefrom
US6225684B1 (en) 2000-02-29 2001-05-01 Texas Instruments Tucson Corporation Low temperature coefficient leadframe
US6892443B2 (en) * 2002-11-25 2005-05-17 Vishay Intertechnology Method of manufacturing a resistor
US10177506B2 (en) * 2016-08-05 2019-01-08 API Technologies Corporation Connecting conductor

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7102290A (nl) * 1971-02-20 1972-08-22
US3872419A (en) * 1972-06-15 1975-03-18 Alexander J Groves Electrical elements operable as thermisters, varisters, smoke and moisture detectors, and methods for making the same
US3904461A (en) * 1972-10-02 1975-09-09 Bendix Corp Method of manufacturing solderable thin film microcircuit with stabilized resistive films
JPS5658203A (en) * 1979-10-18 1981-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Film resistor
JPS6018122B2 (ja) * 1980-06-13 1985-05-09 松下電器産業株式会社 抵抗薄膜
US4529958A (en) * 1983-05-02 1985-07-16 Dale Electronics, Inc. Electrical resistor

Also Published As

Publication number Publication date
EP0248476A1 (en) 1987-12-09
JP2571227B2 (ja) 1997-01-16
EP0248476B1 (en) 1991-08-14
KR880000991A (ko) 1988-03-30
US4774491A (en) 1988-09-27
ATE66315T1 (de) 1991-08-15
JPS62291101A (ja) 1987-12-17
CA1291885C (en) 1991-11-12
DE3772108D1 (de) 1991-09-19
KR970004565B1 (ko) 1997-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL8006025A (nl) Weerstand.
EP0245900A2 (en) Layered film resistor with high resistance and high stability
US4999049A (en) Thick film electrically resistive track material
US4276535A (en) Thermistor
NL8601432A (nl) Metaalfilmweerstanden.
US2953484A (en) Cobalt-chromium electrical resistance device
GB2091487A (en) Method of making temperature sensitive device and device made thereby
US4338145A (en) Chrome-tantalum alloy thin film resistor and method of producing the same
US2917814A (en) Resistance time measuring devices
GB2050051A (en) Temperature sensitive electrical element and method and material for making the same
US3018198A (en) Film resistor and method of making same
IL36479A (en) Electrical resistance element and its fabrication
US3112222A (en) Precision electrical resistors
JPS5931841B2 (ja) 抵抗材料およびそれにより作られた抵抗器
US3496513A (en) Film resistor with securely soldered leads
US3644188A (en) Anodizable cermet film components and their manufacture
JPH047561B2 (nl)
RU2818204C1 (ru) Способ изготовления тонкопленочного прецизионного резистора
JPS5822379A (ja) スパツタリング用タ−ゲツト
US4205299A (en) Thin film resistor
US3611246A (en) Chromium-carbon and chromium-nickel-carbon resistive films
JPS6018122B2 (ja) 抵抗薄膜
JPS6024561B2 (ja) 抵抗膜薄
JPS63147305A (ja) 金属薄膜抵抗体
JPS6395601A (ja) 抵抗薄膜

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
BV The patent application has lapsed