NL8401002A - Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel. - Google Patents

Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel. Download PDF

Info

Publication number
NL8401002A
NL8401002A NL8401002A NL8401002A NL8401002A NL 8401002 A NL8401002 A NL 8401002A NL 8401002 A NL8401002 A NL 8401002A NL 8401002 A NL8401002 A NL 8401002A NL 8401002 A NL8401002 A NL 8401002A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
mirror members
image
reference axis
concave mirror
imaging system
Prior art date
Application number
NL8401002A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Perkin Elmer Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=22553496&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=NL8401002(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Perkin Elmer Corp filed Critical Perkin Elmer Corp
Publication of NL8401002A publication Critical patent/NL8401002A/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
    • G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
    • G02B17/0605—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using two curved mirrors
    • G02B17/0615—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using two curved mirrors off-axis or unobscured systems in wich all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
    • G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
    • G02B17/0626—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using three curved mirrors
    • G02B17/0636—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B23/00—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices
    • G02B23/02—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices involving prisms or mirrors
    • G02B23/06—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices involving prisms or mirrors having a focussing action, e.g. parabolic mirror
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Astronomy & Astrophysics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

. * ' * - 1 -
Buitenassig optisch, afbeeldingsstelsel.
De uitvinding heeft betrekking op een buitenassig, optisch afbeeldingsstelsel, omvattende concave spiegel-organen en convexe spiegelorganen, die beide rotatie-symmetrisch ten opzichte van een referentie-as gelegen 5 zijn, waarbij de concave spiegelorganen en de convexe spiegelorganen zodanig zijn aangebracht, dat lichtstralen bij doorgang door het afbeeldingsstelsel afwisselend aan de concave en de convexe spiegelorganen worden gereflecteerd.
10 Er zijn verschillende optische systemen bekend voor het opwekken van beelden met vergroting een of andere vergrotingen. Bij catoptrische systemen is normaliter een deel van de opening afgedekt. Dit leidt tot een verlies aan contrast van de door deze systemen opgewekte 15 beelden. Men heeft voorgesteld om straaldelers toe te passen ter vermijding van de werkingen van deze centrale afdekking bij catoptrische systemen. Het is evenwel moeilijk deze straaldeler met grote afmetingen in een geschikte kwaliteit te vervaardigen, en de /storing, die 20 door dergelijke straaldelers ingevoerd wordt, vermindert het contrast van het beeld.
Uit het Amerikaanse octrooischrift 3.190.171 is een simulator bekend, door middel waarvan piloten kunnen oefenen in het landen op een vliegdekschip. Deze simulator 25 bevat een optisch stelsel, waardoor een virtueel beeld van een zich in het eindige bevindend voorwerp, namelijk het model van een vliegdekschip, kan worden opgewekt in het oneindige.
Dit optische stelsel is een buitenassig optisch 30 afbeeldingssysteem met een holle spiegel en een convexe spiegel, die beide rotatiesymmetrisch ten opzichte van de referentie-as naar elkaar toegekeerd zijn aangebracht.
De lichtstralen worden bij doorgang door het afbeeldingssysteem eerst aan de holle spiegel, vervolgens aan de 35 convexe spiegel en ten slotte weer aan de holle spiegel gereflecteerd. De spiegels zijn daarbij concentrisch ten opzichte van elkaar. De afstand tussen holle spiegel 8401002 ί Ί - 2 - convexe spiegel is gelijk aan de brandpuntsafstand van de bolle spiegel, dat wil zeggen de straal van de convexe spiegel is gelijk aan de halve straal van de holle spiegel. Daarbij wordt de uittreepupil, namelijk het oog van de 5 piloot, door het afbeeldingsstelsel met de vergroting een afgeheeld op een plaats, die in hetzelfde ten opzichte van de referentie-as loodrechte vlak gelegen is als de uittreepupil zelf, en centraal-symmetrisch ten opzichte van deze laatste. Het gaat daarbij evenwel niet om een 10 afbeeldingsfouten-vrije afbeelding van de uittreepupil.
Een optisch systeem van de in het Amerikaanse octrooischrift 3.190.171 toegepaste soort is bij het opwekken van een afbeelding in het genoemde, loodrecht ten opzichte van de referentie-as gelegen vlak ten op-15 zichte van alle afbeeldingsfouten van derde orde gecorrigeerd. Er blijft evenwel als afbeeldingsfout van vijfde orde een tangentiale beeldveldkromming over.
Aan de uitvinding ligt nu het doel ten grondslag een vervormingsvrij, uitsluitend reflecterend optisch 20 stelsel met de vergroting een te verschaffen, waarbij voorwerps- en beeldvlakken toegankelijk zijn, waarbij het contrast tegelijk hoog en in wezen in alle delen van het formaat constant is, en waarbij het uitrichten van het stelsel onafhankelijk is van het spectraalgebied, dat 25 bij de heeldopwekking wordt gebruikt.
Volgens de uitvinding wordt dit doel bereikt door het verschaffen van een buitenassig, optisch afbeel-dingssysteem zoals in de aanhef omschreven, met het kenmerk, dat 30 ai twee reflecties aan de convexe spiegelorganen en drie reflecties aan de concave spiegelorganen plaatsvinden, bl het afbeeldingsstelsel op aan elkaar geconjugeerde plaatsen op gelijke afstanden van de referentie-35 as een voorwerpsplaats in een ten opzichte van de referentie-as loodrecht vlak, en een beeldplaats eveneens in een ten opzichte van de referentie-as loodrecht vlak bezit, en cl de kromtestraal van de convexe spiegelorganen 40 in wezen tweederde is van de kromtestraal van de holle 8401002 -3-.
r » spiegelorganen.
Bij het optische stelsel volgens de uitvinding gaat het er om een in een ten opzichte van de referentie-as loodrecht vlak aangebracht voorwerp vrij van afbeeldings-5 fouten af te beelden in hetzelfde vlak, een probleem, dat bij het Amerikaanse octrooischrift 3-190.171 geen rol speelt.
Bij het optische systeem volgens de uitvinding wordt een tangentiale beeldveldkromming van derde orde 10 ingevoerd, die het tegengestelde teken heeft van de genoemde overblijvende tangentiale beeldveldkromming van vijfde orde. Zodoende wordt deze tangentiale beeldveldkromming van vijfde orde gecompenseerd.
Deze compensatie kan steeds slechts voor een 15 bepaalde straal geschieden. Daarom verdient het de voorkeur, dat middelen voorhanden zijn voor het begrenzen van het beeld- en voorwerpsveld op een in wezen ten opzichte van de referentie-as gecentreerd boogvormig gebied of een deel daarvan. Door er daarbij verder voor 20 te zorgen, dat de convexe spiegelorganen zodanig zijn aangebracht, dat het toppunt ervan ligt op een afstand van het toppunt van de concave spiegelorganen ongeveer gelijk aan eenderde van de kromtestraal van dê concave spiegelorganen minus een waarde, die gelijk is aan de 25 longitudinale sferische aberratie van derde orde van de concave spiegelorganen voor een aan de optische referentie-as parallelle, op de genoemde voorvastgestelde afstand daarvan lopende straal, zodat aan de beeldplaats een in wezen afbeeldingsfouten-vrij beeld wordt opgewekt 30 van een voorwerp, dat zich op de door de veldbegrenzings-middelen begrensde voorwerpsplaats bevindt, wordt er voor gezorgd, dat een afbeeldingsfouten-vrije afbeelding wordt opgewekt. Bij voorkeur is er verder in voorzien, dat middelen aanwezig zijn voor het gelijktijdig langs-35 voeren van een uitgebreid voorwerp aan de voorwerpsplaats en een beeldontvangend oppervlak aan de beeldplaats.
Hierdoor kan het beeld streepsgewijs worden afgetast, waarbij de afbeelding van de boogvormige streep op de beschreven wijze steeds vrij van afbeeldingsfouten 40 plaatsvindt.
8401002 i ï - 4 -
Een dergelijke afbeeldingsfouten-vrije afbeelding van een voorwerp in een boogvormige streep vindt bij het optische stelsel volgens het Amerikaanse octrooischrift 3.190.171 niet plaats, en is daar ook niet mogelijk. Er 5 zijn daarbij ook geen speciale kritische voorwaarden, zoals in het bovenstaande omschreven, gesteld, en evenmin is er sprake van een streepsgewijze aftasting.
De uitvinding zal thans nader worden toegelicht aan de hand van een uitvoeringsvoorbeeld onder verwijzing 10 naar de tekening. In de tekening toont: fig. 1 schematisch in..zijaanzicht een afbeeldings-stelsel volgens de uitvinding, en fig. 2 een aanzicht langs de lijn 2“2 van fig. 1.
15 Het afbeeldingsstelsel., getoond in de tekening, bevat twee sferische spiegels, namelijk een convexe spiegel 40 en een concave spiegel 41. De beide spiegels, zijn gelijkassig, dat wil zeggen rotatiesymmetrisch ten opzichte van een referentie-as SA aangebracht. De convexe 20 spiegel is toegekeerd naar de concave spiegel. Beide spiegels 40 en 41 bezitten een •gemeenschappelijk, kromtepunt P, dat op referentie-as is gelegen. De straal van de convexe spiegel 40 bedraagt tweederde van de straal van de concave spiegel 41.
25 In het door het punt P gaande, ten opzichte van de referentie-as SA loodrechte vlak zijn op ten opzichte van elkaar geconjugeerde plaatsen op gelijke afstanden H van de referentie-as SA een voorwerpsplaats O en een beeldplaats I gedefinieerd.
30 Zoals uit fig. 1 blijkt, worden de van de voorwerpsplaats O uitgaande stralen bij 42 een eerste maal gereflecteerd aan de concave spiegel 41 en op de convexe spiegel 40 geworpen. Aan de convexe spiegel 4Q worden zij een eerste maal bij 43 gereflecteerd. De 35 stralen vallen dan weer op de concave spiegel 41. Er vindt een tweede reflectie plaats aan de concave spiegel 41 bij 44, waardoor de stralen een tweede maal op de convexe spiegel 40 worden geleid. Door deze worden zij bij 45 gereflecteerd en teruggekaatst naar de concave 40 spiegel 41. Daar ondergaan zij bij 46 een derde reflectie 8401002 * - 5 - ff % en wekken dan aan de beeldplaats I een beeld van de voorwerpsplaats O op. De lichtstralen worden zodoende bij doorgang door het afbeeldingsstelsel afwisselend aan de concave en convexe spiegels 40, 41 gereflecteerd, 5 waarbij twee reflecties aan de convexe spiegel 40 en drie reflecties aan de concave spiegel 41 plaatsvinden.
Bij de aangegeven keuze van de stralen en het beschreven aantal reflecties is de algebraïsche som. van brekings-krachten van de toegepaste reflecterende oppervlakken nul.
10 Zoals in fig. 2 is weergegeven, is in het, het punt P en voorwerps- en beeldplaats O resp. X bevattende, ten opzichte van de referentie-as loodrechte vlak een masker 47 aangebracht, dat een gekromde spleet met de straal H vertoont. Het masker 47 is zodanig aangebracht, 15 dat het kromtemiddelpunt van de spleet samenvalt met het punt P, waarover de reflecterende vlakken van de spiegels 40, 41 zijn gekromd. Daardoor wordt het beeld- en voorwerpsveld op een de beeldplaats I resp. de voorwerpsplaats O bevattend, ten opzichte van de referentie-as SA 20 gecentreerd, boogvormig gebied begrensd. Het door het masker 47 vrijgegeven deel van het voorwerpsveld wordt stigmatisch op een overeenkomstig gekromd, de beeldplaats I bevattend vlak in het beeldveld af geheeld. Dat komt, omdat alle delen van het voorwerp en het beeld, die in 25 de spleet of in het beeld van de spleet liggen, op dezelfde afstand H van het punt P gelegen zijn, voor welk het afbeeldingssysteem is gecorrigeerd. Het masker 47 kan ook zijn aangebracht in een beeldveld bij I, ook is het mogelijk om een masker aan te brengen zowel aan de 30 voorwerpsplaats Q als aan de beeldplaats I.
Zoals uit fig. X te zien is, is onder de in het bovenstaande aangegeven condities de convexe spiegel 40 op een zodanige plaats aangebracht, dat lichtstralen 48, die op de referentie-as SA bij 49 op de concave 35 spiegel vallen en in de ruimte tussen de concave spiegel 41 en de voorwerpsplaats 0 of de beeldplaats I parallel een de referentie-as SA zijn, door het door het masker 47 begrensde beeld- en voorwerpsveld heen treden. Zodoende wordt het afbeeldingsstelsel voor de voorwerpsplaats 40 avocaal. Aan de beeldplaats I wordt een in wezen afbeel- 8401002 - 6 - . «· -¾ dingsfouten-vrij beeld van een zich aan de voorwerps-plaats 0 bevindend voorwerp opgewekt.
- conclusies - 8401002

Claims (2)

1. Buitenassig, optisch, afbeeldingsstelsel, omvattende concave spiegelorganen en convexe spiegelorganen, die beide rotatiesymmetrisch. ten opzichte van een referentie-as gelegen zijn, waarbij de concave spiegelorganen en de 5 convexe spiegelorganen zodanig zijn aangebracht, dat lichtstralen bij doorgang door het afbeeldingsstelsel afwisselend aan de concave en de convexe spiegelorganen worden gereflecteerd, met het kenmerk, dat a) twee reflecties aan de convexe spiegelorganen 10 en drie reflecties aan de concave spiegelorganen plaatsvinden, b) het afbeeldingsstelsel op aan elkaar geconjugeerde plaatsen op gelijke afstanden van de referentie-as (SA} een voorwerpsplaats (0) in een ten opzichte 15 van de referentie-as (SA) loodrecht vlak, en een beeldplaats (L) eveneens in een ten opzichte van de referentie-as (SA) loodrecht vlak bezit, en c) de kromtestraal van de convexe spiegelorganen (40) in wezen tweederde is van de kromtestraal van de 20 holle spiegelorganen (41).
2. Buitenassig, optisch afbeeldingsstelsel volgens conclusie l,met het kenmerk, dat a) middelen (15) voorhanden zijn voor het begrenzen van het beeld- en voorwerpsveld op een in wezen 25 ten opzichte van referentie-as (SA) gecentreerd boogvormig gebied of een deel daarvan, b) de convexe spiegelorganen (40) zodanig zijn aangebracht, dat het toppunt ervan ligt op een afstand van het toppunt van de concave spiegelorganen (41) 30 ongeveer gelijk aan eenderde van de kromtestraal van de concave spiegelorganen minus een waarde, die gelijk is aan de longitudinale sferische aberratie van derde orde van de concave spiegelorganen (41) voor een aan de optische referentie-as (SA) parallelle, op de genoemde 35 voorvastgestelde afstand (H) daarvan lopende straal, zodat aan de beeldplaats (L) een in wezen afbeeldings-fouten-vrij beeld wordt opgewekt van een voorwerp, 8401002 v*· ^ r - 8 - dat zich op de door de veldbegrenzingsmiddelen (15) begrensde voorwerpsplaats (0) bevindt, en c) middelen aanwezig zijn voor het gelijktijdig langsvoeren van een uitgebreid voorwerp aan de voorwerps-5 plaats (0) en een beeldontvangend oppervlak aan de beeldplaats (L) . 8401002
NL8401002A 1971-06-21 1984-03-29 Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel. NL8401002A (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15494871A 1971-06-21 1971-06-21
US15494871 1971-06-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL8401002A true NL8401002A (nl) 1984-07-02

Family

ID=22553496

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7208478,A NL176711C (nl) 1971-06-21 1972-06-21 Buitenassig catoptrisch optisch afbeeldingsstelsel.
NL8401002A NL8401002A (nl) 1971-06-21 1984-03-29 Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel.
NL8401001A NL8401001A (nl) 1971-06-21 1984-03-29 Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel.

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7208478,A NL176711C (nl) 1971-06-21 1972-06-21 Buitenassig catoptrisch optisch afbeeldingsstelsel.

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8401001A NL8401001A (nl) 1971-06-21 1984-03-29 Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel.

Country Status (13)

Country Link
US (1) US3748015A (nl)
JP (3) JPS5751083B1 (nl)
KR (1) KR790000468B1 (nl)
BR (1) BR7203998D0 (nl)
CA (1) CA970611A (nl)
CH (1) CH552222A (nl)
DE (1) DE2230002C2 (nl)
FR (1) FR2143493B1 (nl)
GB (1) GB1401687A (nl)
IL (1) IL39693A (nl)
IT (1) IT956732B (nl)
NL (3) NL176711C (nl)
SE (1) SE383423B (nl)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111665688A (zh) * 2016-10-14 2020-09-15 佳能株式会社 投影光学系统、曝光装置及物品制造方法

Families Citing this family (192)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4011011A (en) * 1973-03-09 1977-03-08 The Perkin-Elmer Corporation Optical projection apparatus
US3951546A (en) * 1974-09-26 1976-04-20 The Perkin-Elmer Corporation Three-fold mirror assembly for a scanning projection system
JPS6039205B2 (ja) * 1975-07-02 1985-09-05 キヤノン株式会社 反射光学系
CA1090183A (en) * 1976-09-22 1980-11-25 David A. Markle System for illuminating an annular field
CA1103498A (en) * 1977-02-11 1981-06-23 Abe Offner Wide annulus unit power optical system
US4293186A (en) * 1977-02-11 1981-10-06 The Perkin-Elmer Corporation Restricted off-axis field optical system
JPS5453867A (en) * 1977-10-06 1979-04-27 Canon Inc Printing device
JPS5467443A (en) * 1977-11-09 1979-05-30 Canon Inc Observer
US4241390A (en) * 1978-02-06 1980-12-23 The Perkin-Elmer Corporation System for illuminating an annular field
US4205902A (en) * 1978-10-12 1980-06-03 The Perkin-Elmer Corporation Laser beam expander
US4226501A (en) * 1978-10-12 1980-10-07 The Perkin-Elmer Corporation Four mirror unobscurred anastigmatic telescope with all spherical surfaces
US4240707A (en) * 1978-12-07 1980-12-23 Itek Corporation All-reflective three element objective
US4288148A (en) * 1979-08-29 1981-09-08 The Perkin-Elmer Corporation Beam-splitting optical system
FR2466786A1 (fr) * 1979-10-05 1981-04-10 Thomson Csf Dispositif catadioptre et systeme comportant un tel dispositif
US4331390A (en) * 1979-10-09 1982-05-25 The Perkin-Elmer Corporation Monocentric optical systems
US4272152A (en) * 1979-10-15 1981-06-09 The Perkin-Elmer Corporation Unit magnification relay systems
JPS5677815A (en) * 1979-11-28 1981-06-26 Canon Inc Optical reflection system
US4362384A (en) * 1981-05-01 1982-12-07 The Perkin-Elmer Corporation Means for providing uniform illumination to a light sensitive element
US4425037A (en) 1981-05-15 1984-01-10 General Signal Corporation Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
US4391494A (en) * 1981-05-15 1983-07-05 General Signal Corporation Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
JPS57192929A (en) * 1981-05-25 1982-11-27 Hitachi Ltd Projector provided with automatic focusing function
JPS58173836A (ja) * 1982-04-05 1983-10-12 コントロ−ル・デ−タ・コ−ポレ−シヨン 投影整列装置
US4444492A (en) * 1982-05-15 1984-04-24 General Signal Corporation Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
US4469414A (en) * 1982-06-01 1984-09-04 The Perkin-Elmer Corporation Restrictive off-axis field optical system
JPS6093410A (ja) * 1983-10-27 1985-05-25 Canon Inc 反射光学系
JPS612124A (ja) * 1984-06-14 1986-01-08 Canon Inc 結像光学系
US4812028A (en) * 1984-07-23 1989-03-14 Nikon Corporation Reflection type reduction projection optical system
JPS61110214A (ja) * 1984-11-05 1986-05-28 Yoshida Kogyo Kk <Ykk> 自動扉の開口幅制御装置
US4779966A (en) * 1984-12-21 1988-10-25 The Perkin-Elmer Corporation Single mirror projection optical system
US4711535A (en) * 1985-05-10 1987-12-08 The Perkin-Elmer Corporation Ring field projection system
JPH0524404Y2 (nl) * 1985-08-23 1993-06-22
JPS6235732U (nl) * 1985-08-23 1987-03-03
US4734829A (en) * 1985-11-12 1988-03-29 The Perkin-Elmer Corporation Short arc lamp image transformer
DE3787035T2 (de) * 1986-03-12 1994-03-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optisches Projektionssystem für Präzisionskopien.
US4757354A (en) * 1986-05-02 1988-07-12 Matsushita Electrical Industrial Co., Ltd. Projection optical system
US4707711A (en) * 1986-05-15 1987-11-17 Lumonics Inc. Character imaging system
GB8612609D0 (en) * 1986-05-23 1986-07-02 Wynne C G Optical imaging systems
EP0947882B1 (en) * 1986-07-11 2006-03-29 Canon Kabushiki Kaisha X-ray reduction projection exposure system of reflection type
US4747678A (en) * 1986-12-17 1988-05-31 The Perkin-Elmer Corporation Optical relay system with magnification
US4746205A (en) * 1987-01-30 1988-05-24 Westinghouse Electric Corp. High energy laser beam replica producing method and system
JPS6450004U (nl) * 1987-09-24 1989-03-28
JPH01226684A (ja) * 1988-03-04 1989-09-11 Toshiba Corp エレベーター装置
US4913524A (en) * 1988-05-12 1990-04-03 The Perkin-Elmer Corporation Synthetic imaging technique
US4933714A (en) * 1988-05-31 1990-06-12 The Perkin-Elmer Corporation Apparatus and method for reproducing a pattern in an annular area
US5040882A (en) * 1988-11-07 1991-08-20 General Signal Corporation Unit magnification optical system with improved reflective reticle
US4964705A (en) * 1988-11-07 1990-10-23 General Signal Corporation Unit magnification optical system
US5078502A (en) * 1990-08-06 1992-01-07 Hughes Aircraft Company Compact afocal reimaging and image derotation device
US5315629A (en) * 1990-10-10 1994-05-24 At&T Bell Laboratories Ringfield lithography
US5212588A (en) * 1991-04-09 1993-05-18 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Reflective optical imaging system for extreme ultraviolet wavelengths
JPH04333011A (ja) * 1991-05-09 1992-11-20 Nikon Corp 反射縮小投影光学装置
US5298939A (en) * 1991-11-04 1994-03-29 Swanson Paul A Method and apparatus for transfer of a reticle pattern onto a substrate by scanning
JPH06118341A (ja) * 1991-11-11 1994-04-28 Topcon Corp 走査型投影装置
US5255114A (en) * 1991-11-12 1993-10-19 Eastman Kodak Company High resolution scanner
US5221975A (en) * 1991-11-12 1993-06-22 Eastman Kodak Company High resolution scanner
US5225678A (en) * 1991-11-13 1993-07-06 Connecticut Instrument Corporation Spectoscopic sampling accessory having dual measuring and viewing systems
JPH05249379A (ja) * 1992-03-04 1993-09-28 Topcon Corp 広フィールド露光光学系
IL101570A0 (en) * 1992-04-10 1992-12-30 Amir Alon Method and apparatus for reading data
US5822042A (en) * 1992-11-12 1998-10-13 International Business Machines Corporation Three dimensional imaging system
US5323263A (en) * 1993-02-01 1994-06-21 Nikon Precision Inc. Off-axis catadioptric projection system
IL106009A0 (en) * 1993-06-14 1993-10-20 Amir Alon Method and apparatus for the simultaneous writing of data on an optical disk
JPH0756090A (ja) * 1993-08-17 1995-03-03 Topcon Corp 走査型投影光学系
IL107181A0 (en) * 1993-10-04 1994-01-25 Nogatech Ltd Optical disk reader
US5515207A (en) * 1993-11-03 1996-05-07 Nikon Precision Inc. Multiple mirror catadioptric optical system
JPH07191274A (ja) * 1993-12-27 1995-07-28 Canon Inc 画像表示装置
IL113789A (en) * 1994-05-23 1999-01-26 Hughes Aircraft Co A non-focusing device with three hinged mirrors and a corrective mirror
US5625448A (en) * 1995-03-16 1997-04-29 Printrak International, Inc. Fingerprint imaging
US5548394A (en) * 1995-03-16 1996-08-20 Printrak International Inc. Scanning fingerprint reading
JP2565149B2 (ja) * 1995-04-05 1996-12-18 キヤノン株式会社 回路の製造方法及び露光装置
US5512759A (en) * 1995-06-06 1996-04-30 Sweatt; William C. Condenser for illuminating a ringfield camera with synchrotron emission light
US7304792B1 (en) 2003-08-25 2007-12-04 J.A. Woollam Co., Inc. System for sequentially providing aberation corrected electromagnetic radiation to a spot on a sample at multiple angles of incidence
US7317529B1 (en) 1999-10-18 2008-01-08 J.A. Woollam Co., Inc. Aspects of producing, directing, conditioning, impinging and detecting spectroscopic electromagnetic radiation from small spots on samples
US7304737B1 (en) 1995-09-20 2007-12-04 J.A. Woollam Co., Inc Rotating or rotatable compensator system providing aberation corrected electromagnetic raadiation to a spot on a sample at multiple angles of a incidence
US7317530B2 (en) * 2003-08-28 2008-01-08 J.A. Woollam Co., Inc. Combined spatial filter and relay systems
US7245376B2 (en) * 1995-09-20 2007-07-17 J. A. Woollam Co., Inc. Combined spatial filter and relay systems in rotating compensator ellipsometer/polarimeter
US5805365A (en) * 1995-10-12 1998-09-08 Sandia Corporation Ringfield lithographic camera
US5883703A (en) * 1996-02-08 1999-03-16 Megapanel Corporation Methods and apparatus for detecting and compensating for focus errors in a photolithography tool
US5748365A (en) * 1996-03-26 1998-05-05 Hughes Electronics Catadioptric one-to-one telecentric image combining system
US5717518A (en) * 1996-07-22 1998-02-10 Kla Instruments Corporation Broad spectrum ultraviolet catadioptric imaging system
US6403124B1 (en) * 1997-04-16 2002-06-11 Sigma-Tau Industrie Farmaceutiche Riunite S.P.A. Storage and maintenance of blood products including red blood cells and platelets
US5960016A (en) * 1997-06-05 1999-09-28 The Regents Of The University Of California Aberration-free, all-reflective laser pulse stretcher
US5956192A (en) * 1997-09-18 1999-09-21 Svg Lithography Systems, Inc. Four mirror EUV projection optics
US5917594A (en) * 1998-04-08 1999-06-29 Kla-Tencor Corporation Spectroscopic measurement system using an off-axis spherical mirror and refractive elements
DE19923609A1 (de) * 1998-05-30 1999-12-02 Zeiss Carl Fa Ringfeld-4-Spiegelsysteme mit konvexem Primärspiegel für die EUV-Lithographie
US6577443B2 (en) 1998-05-30 2003-06-10 Carl-Zeiss Stiftung Reduction objective for extreme ultraviolet lithography
US6104511A (en) * 1998-07-16 2000-08-15 Siros Technologies, Inc. Reflector-based off-axis optical system for holographic storage
US6331904B1 (en) 1998-07-16 2001-12-18 Siros Technologies, Inc. Reflection optics reference beam telescope
US6426506B1 (en) * 1999-05-27 2002-07-30 The Regents Of The University Of California Compact multi-bounce projection system for extreme ultraviolet projection lithography
US6304315B2 (en) 1999-08-31 2001-10-16 Eastman Kodak Company High speed high resolution continuous optical film printer for duplicating motion films
US6563648B2 (en) 2000-10-20 2003-05-13 Three-Five Systems, Inc. Compact wide field of view imaging system
US6542307B2 (en) 2000-10-20 2003-04-01 Three-Five Systems, Inc. Compact near-eye illumination system
US6522403B2 (en) 2000-12-04 2003-02-18 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Computed tomography imaging spectrometer (CTIS) with 2D reflective grating for ultraviolet to long-wave infrared detection especially useful for surveying transient events
US6416181B1 (en) 2000-12-15 2002-07-09 Eastman Kodak Company Monocentric autostereoscopic optical apparatus and method
KR20040032816A (ko) 2000-12-21 2004-04-17 제테틱 인스티튜트 반사 및 반사굴절 영상장치
DE10115875A1 (de) * 2001-03-30 2002-10-10 Heidelberger Druckmasch Ag Bebilderungseinrichtung für eine Druckform mit einer Makrooptik vom Offner-Typ
NZ511257A (en) * 2001-04-20 2003-05-30 Ind Res Ltd Imaging system having a dual cassegrain-like format
US6752498B2 (en) 2001-05-14 2004-06-22 Eastman Kodak Company Adaptive autostereoscopic display system
US6702442B2 (en) * 2002-03-08 2004-03-09 Eastman Kodak Company Monocentric autostereoscopic optical apparatus using resonant fiber-optic image generation
US6550918B1 (en) 2002-03-19 2003-04-22 Eastman Kodak Company Monocentric autostereoscopic viewing apparatus using resonant fiber-optic image generation
US6768585B2 (en) 2002-05-02 2004-07-27 Eastman Kodak Company Monocentric autostereoscopic optical apparatus using a scanned linear electromechanical modulator
JP2004004256A (ja) * 2002-05-31 2004-01-08 Sony Corp 光走査装置及び２次元画像形成装置
US20030226968A1 (en) * 2002-06-10 2003-12-11 Steve Montellese Apparatus and method for inputting data
US6779892B2 (en) * 2002-07-26 2004-08-24 Eastman Kodak Company Monocentric autostereoscopic optical display having an expanded color gamut
US6678308B1 (en) 2002-09-06 2004-01-13 The Boeing Company Laser resonator system using offner relay
DE10245559A1 (de) * 2002-09-30 2004-04-08 Carl Zeiss Jena Gmbh Kamera
US7199876B2 (en) * 2002-12-31 2007-04-03 Wavefront Research, Inc. Compact hyperspectral imager
US7061611B2 (en) * 2002-12-31 2006-06-13 Wavefront Research, Inc. Refractive relay spectrometer
WO2004068065A2 (en) * 2003-01-27 2004-08-12 Zetetic Institute Leaky guided-wave modes used in interferometric confocal microscopy to measure properties of trenches
US7084983B2 (en) * 2003-01-27 2006-08-01 Zetetic Institute Interferometric confocal microscopy incorporating a pinhole array beam-splitter
JP2006516766A (ja) * 2003-02-04 2006-07-06 ゼテテック インスティテュート 非共焦点、共焦点、および、干渉型共焦点顕微鏡観察で生じる基板−媒体界面における屈折率ミスマッチ作用の補償
US6717736B1 (en) 2003-02-13 2004-04-06 Zetetic Institute Catoptric and catadioptric imaging systems
KR20050098940A (ko) * 2003-02-19 2005-10-12 제테틱 인스티튜트 암시야 간섭계 공초점 현미경을 위한 방법 및 장치
KR20050098952A (ko) * 2003-02-19 2005-10-12 제테틱 인스티튜트 종방향 차분 간섭 공초점 현미경 검사
US7054077B2 (en) 2003-04-01 2006-05-30 Zetetic Institute Method for constructing a catadioptric lens system
EP1608934A4 (en) * 2003-04-01 2007-03-21 Zetetic Inst DEVICE AND METHOD FOR ASSEMBLING FIELDS OF SPLIT OR REFLECTED OR IMPROVED ORTHOGONAL POLARIZED RADIATION THROUGH AN OBJECT IN INTERFEROMETRY
US7064838B2 (en) * 2003-04-03 2006-06-20 Zetetic Institute Apparatus and method for measurement of fields of backscattered and forward scattered/reflected beams by an object in interferometry
US6940645B2 (en) * 2003-04-22 2005-09-06 Eastman Kodak Company Monocentric autostereoscopic optical apparatus with a spherical gradient-index ball lens
US7130020B2 (en) * 2003-04-30 2006-10-31 Whitney Theodore R Roll printer with decomposed raster scan and X-Y distortion correction
US7158215B2 (en) * 2003-06-30 2007-01-02 Asml Holding N.V. Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays
US7084984B2 (en) 2003-07-07 2006-08-01 Zetetic Institute Apparatus and method for high speed scan for detection and measurement of properties of sub-wavelength defects and artifacts in semiconductor and mask metrology
US7324209B2 (en) * 2003-07-07 2008-01-29 Zetetic Institute Apparatus and method for ellipsometric measurements with high spatial resolution
US7355722B2 (en) * 2003-09-10 2008-04-08 Zetetic Institute Catoptric and catadioptric imaging systems with adaptive catoptric surfaces
US20050111007A1 (en) * 2003-09-26 2005-05-26 Zetetic Institute Catoptric and catadioptric imaging system with pellicle and aperture-array beam-splitters and non-adaptive and adaptive catoptric surfaces
WO2005033747A2 (en) * 2003-10-01 2005-04-14 Zetetic Institute Method and apparatus for enhanced resolution of high spatial frequency components of images using standing wave beams in non-interferometric and interferometric microscopy
US7245408B1 (en) 2003-10-10 2007-07-17 Zebra Imaging, Inc. Systems and methods for producing wide field-of-view holographic displays
WO2005108914A2 (en) * 2004-05-06 2005-11-17 Zetetic Institute Apparatus and methods for measurement of critical dimensions of features and detection of defects in uv, vuv, and euv lithography masks
US7298496B2 (en) * 2004-05-21 2007-11-20 Zetetic Institute Apparatus and methods for overlay, alignment mark, and critical dimension metrologies based on optical interferometry
FR2872592B1 (fr) * 2004-07-02 2006-09-15 Thales Sa Chaine amplificatrice pour la generation d'impulsions lumineuses ultracourtes de durees d'impulsions differentes
US7161680B2 (en) * 2004-08-16 2007-01-09 Zetetic Institute Apparatus and method for joint and time delayed measurements of components of conjugated quadratures of fields of reflected/scattered and transmitted/scattered beams by an object in interferometry
WO2006023612A2 (en) * 2004-08-19 2006-03-02 Zetetic Institute Sub-nanometer overlay, critical dimension, and lithography tool projection optic metrology systems based on measurement of exposure induced changes in photoresist on wafers
US7173686B2 (en) * 2004-09-02 2007-02-06 Agilent Technologies, Inc. Offner imaging system with reduced-diameter reflectors
US7315352B2 (en) * 2004-09-02 2008-01-01 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Offner imaging system with reduced-diameter reflectors
WO2006034065A2 (en) * 2004-09-20 2006-03-30 Zetetic Institute Catoptric imaging systems comprising pellicle and/or aperture-array beam-splitters and non-adaptive and /or adaptive catoptric surfaces
US7199877B2 (en) * 2004-10-20 2007-04-03 Resonon Inc. Scalable imaging spectrometer
US7184124B2 (en) * 2004-10-28 2007-02-27 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus having an adjustable projection system and device manufacturing method
CN100386662C (zh) * 2005-03-14 2008-05-07 上海理工大学 全息凸面光栅光刻光路设计方法
US7359050B1 (en) 2005-04-08 2008-04-15 Wavefront Research, Inc. Compact triple pass hyperspectral imager
US7330258B2 (en) * 2005-05-27 2008-02-12 Innovative Technical Solutions, Inc. Spectrometer designs
WO2007016502A2 (en) * 2005-08-02 2007-02-08 Wisconsin Alumni Research Foundation Synthesis of arrays of oligonucleotides and other chain molecules
US7545446B2 (en) * 2005-08-27 2009-06-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Offner relay for projection system
DE102005044910B3 (de) * 2005-09-14 2007-03-15 Jena-Optronik Gmbh Schiefspiegler-Teleskop mit drei Spiegelflächen
US20070109520A1 (en) * 2005-11-17 2007-05-17 Whitney Theodore R Modular illuminator for a scanning printer
US8203710B1 (en) 2006-06-12 2012-06-19 Wavefront Research, Inc. Compact wide field fast hyperspectral imager
DE102007033967A1 (de) * 2007-07-19 2009-01-29 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv
DE102008049588B4 (de) * 2008-09-30 2018-04-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Abbildungseinrichtung, Mikroskop und Abbildungsverfahren für die Mikroskopie
DE102008049589A1 (de) * 2008-09-30 2010-04-08 Carl Zeiss Smt Ag Optische Abbildungseinrichtung und Abbildungsverfahren für die Mikroskopie
US8531750B2 (en) 2009-02-15 2013-09-10 Kessler Optics & Photonics Solutions, Ltd. Afocal beam relay
US8274720B2 (en) * 2009-02-15 2012-09-25 Kessler Optics and Photonics Solutions, Ltd. Concentric afocal beam relay
US7929129B2 (en) 2009-05-22 2011-04-19 Corning Incorporated Inspection systems for glass sheets
US8780440B2 (en) * 2009-08-03 2014-07-15 Lawrence Livermore National Security, Llc Dispersion compensation in chirped pulse amplification systems
US8271120B2 (en) * 2009-08-03 2012-09-18 Lawrence Livermore National Security, Llc Method and system for processing optical elements using magnetorheological finishing
DE102009037815B4 (de) 2009-08-18 2016-06-09 Sintermask Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines dreidimensionalen Objektes
DE102009050163A1 (de) * 2009-10-21 2011-04-28 Lfk-Lenkflugkörpersysteme Gmbh Optische Einrichtung für ein Visier
US7933067B1 (en) 2010-03-09 2011-04-26 Raytheon Company Flat field Schmidt telescope with extended field of view
US8139289B2 (en) 2010-07-27 2012-03-20 Corning Incorporated Precision optical mount
US8493670B2 (en) 2010-09-10 2013-07-23 Coherent, Inc. Large-field unit-magnification catadioptric projection system
GB201019181D0 (en) * 2010-11-12 2010-12-29 Univ Leicester Improved optical arrangement
US9268121B2 (en) * 2010-12-01 2016-02-23 Koninklijke Philips N.V. Sensor device with double telecentric optical system
US9409255B1 (en) * 2011-01-04 2016-08-09 Nlight, Inc. High power laser imaging systems
US10095016B2 (en) 2011-01-04 2018-10-09 Nlight, Inc. High power laser system
US9429742B1 (en) * 2011-01-04 2016-08-30 Nlight, Inc. High power laser imaging systems
US8823932B2 (en) 2011-04-04 2014-09-02 Corning Incorporated Multi field of view hyperspectral imaging device and method for using same
US8659823B2 (en) 2011-04-22 2014-02-25 Coherent, Inc. Unit-magnification catadioptric and catoptric projection optical systems
US9720244B1 (en) 2011-09-30 2017-08-01 Nlight, Inc. Intensity distribution management system and method in pixel imaging
US8830580B2 (en) 2011-10-27 2014-09-09 Eastman Kodak Company Low thermal stress catadioptric imaging optics
US8786943B2 (en) 2011-10-27 2014-07-22 Eastman Kodak Company Low thermal stress catadioptric imaging system
DE102012200851B3 (de) * 2012-01-20 2013-07-25 Bruker Optik Gmbh Infrarot(=IR)-Mikroskop mit Bildfeldkrümmungs-Kompensation und zusätzlicher Ausleuchtungsoptimierung im Beobachtunqsstrahlenqang des sichtbaren Lichts
JP5650157B2 (ja) * 2012-05-23 2015-01-07 東芝テック株式会社 結像素子アレイ及び画像形成装置
US9594201B2 (en) 2012-07-13 2017-03-14 The University Of North Carolina At Chapel Hill Curved volume phase holographic (VPH) diffraction grating with tilted fringes and spectrographs using same
US9310248B2 (en) 2013-03-14 2016-04-12 Nlight, Inc. Active monitoring of multi-laser systems
DE102013105205B4 (de) 2013-05-22 2020-06-10 Carl Zeiss Jena Gmbh Abbildungsoptik für Laserstrahlen, Vorrichtung zur Werkstückbearbeitung sowie Verfahren zur Herstellung einer Abbildungsoptik
EP2857810A1 (en) * 2013-10-02 2015-04-08 Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Monolith spectrometer
US9709810B2 (en) 2014-02-05 2017-07-18 Nlight, Inc. Single-emitter line beam system
JP6344933B2 (ja) * 2014-03-03 2018-06-20 株式会社ミツトヨ 光電式エンコーダ
DE102014005790A1 (de) 2014-04-16 2015-10-22 Carl Zeiss Ag Abbildungsoptik für Laserstrahlen
DE102014118880A1 (de) 2014-12-17 2016-06-23 Rofin-Baasel Lasertech Gmbh & Co. Kg Optische Einrichtung zur Modulation der spektralen Phase von Laserpulsen
GB2543592B (en) * 2016-03-30 2018-08-01 The Science And Tech Facilities Council Imaging a retina of an eye
US20170329113A1 (en) * 2016-05-12 2017-11-16 Raytheon Company Compact five-reflection optical system as a unity magnification finite conjugate relay
US10816795B2 (en) 2016-11-28 2020-10-27 Amalgamated Vision, Llc Wearable display for near-to-eye viewing
US10345562B2 (en) 2017-02-07 2019-07-09 Raytheon Company All-reflective solar coronagraph sensor and thermal control subsystem
US10845582B2 (en) 2018-06-07 2020-11-24 Raytheon Company All-reflective solar coronagraph sensor and thermal control subsystem
GB201811903D0 (en) 2018-07-20 2018-09-05 Univ Oxford Innovation Ltd Scanning laser ophthalmoscopes
DE102019203560A1 (de) 2019-03-15 2020-09-17 Bruker Optik Gmbh IR-Mikroskop
US11340451B2 (en) 2019-06-19 2022-05-24 Amalgamated Vision, Llc Wearable display for near-to-eye viewing with expanded beam
US11719576B2 (en) 2019-11-01 2023-08-08 California Institute Of Technology Mid-wave and long-wave infrared point spectrometer
US11762181B2 (en) 2019-12-26 2023-09-19 Kessler Optics and Photonics Solutions Ltd. Scanning microscope with enhanced FOV and NA
WO2021146583A1 (en) 2020-01-16 2021-07-22 Magic Leap, Inc. Scanning mirror systems and methods of manufacture
DE102020122449A1 (de) 2020-08-27 2022-03-03 Carl Zeiss Ag Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen von Abbildern eines Lichtquellenarrays
DE102020216123A1 (de) 2020-12-17 2022-06-23 Carl Zeiss Ag Belichtungseinrichtung, Vorrichtung und Verfahren zur additiven Fertigung eines Werkstücks
EP4314927A1 (en) 2021-03-30 2024-02-07 Qioptiq Photonics GmbH & Co. KG Panel inspection device and method for inspecting a panel
DE102021111728A1 (de) 2021-05-05 2022-11-10 General Atomics Synopta GmbH Sphärisches Spiegelsystem für eine Freiraumkommunikation mit Satelliten mit beugungsbegrenzter Abbildungsqualität und hoher Transmission
KR20230099850A (ko) * 2021-12-28 2023-07-05 삼성전자주식회사 이미징 어셈블리 및 이를 포함하는 분광 영상 타원분광기
DE102022201002A1 (de) 2022-01-31 2023-08-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3062101A (en) * 1959-05-29 1962-11-06 Perkin Elmer Corp Anastigmatic catoptric systems
US3190171A (en) * 1960-06-07 1965-06-22 Oxford Corp Viewing device having optical arrangement producing virtual image at infinity
US3527526A (en) * 1965-05-26 1970-09-08 Ernest W Silvertooth Catoptric image-forming system in which light is reflected twice from each surface
NL6701520A (nl) * 1967-02-01 1968-08-02
US3508813A (en) * 1967-03-24 1970-04-28 Instrumentation Labor Inc Adjustable slit system for use in spectroanalysis apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111665688A (zh) * 2016-10-14 2020-09-15 佳能株式会社 投影光学系统、曝光装置及物品制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
NL176711B (nl) 1984-12-17
IL39693A0 (en) 1972-08-30
DE2230002A1 (de) 1973-01-11
NL7208478A (nl) 1972-12-27
US3748015A (en) 1973-07-24
IT956732B (it) 1973-10-10
IL39693A (en) 1975-02-10
FR2143493A1 (nl) 1973-02-02
KR790000468B1 (en) 1979-05-20
JPS5517197A (en) 1980-02-06
JPS5817933B2 (ja) 1983-04-11
NL176711C (nl) 1985-05-17
JPS5817932B2 (ja) 1983-04-11
GB1401687A (en) 1975-07-30
CH552222A (de) 1974-07-31
JPS5517196A (en) 1980-02-06
NL8401001A (nl) 1984-07-02
CA970611A (en) 1975-07-08
JPS5751083B1 (nl) 1982-10-30
DE2230002C2 (de) 1984-11-22
FR2143493B1 (nl) 1977-12-23
BR7203998D0 (pt) 1973-06-05
SE383423B (sv) 1976-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL8401002A (nl) Buitenassig optisch afbeeldingsstelsel.
EP0007039B1 (en) Holographic head-up display system
WO1991006028A1 (en) F-υ lens
US3751136A (en) Variable focal length anamorphotic cinecamera systems
GB1148979A (en) Image-forming system
JPH1020195A (ja) 反射屈折光学系
US4848896A (en) Eye refractometer
KR880700290A (ko) 등급식 인덱스 비구형 결합기 및 이를 사용하는 표시 시스템
NL8000166A (nl) Inrichting voor het door projectie kopieren van maskers op een werkstuk.
WO1988007698A1 (en) Optical scanner
US11363942B2 (en) Angle-selective optical system, stereo video endoscope having such a system, and method for manufacturing same
US2730926A (en) Catadioptric telephoto objective systems
US6661447B2 (en) Image-recording device for a printing form having macrooptics of the offner type
US4234240A (en) Optical scanning system with unwanted reflections controlled
GB1357655A (en) Optical devices
WO2015057306A1 (en) Optical beam scanning system having a synthetic center of beam rotation
EP3760101B1 (en) Ophthalmic optical system, object lens for ophthalmology, and ophthalmic device
US2593724A (en) Microscope with reflecting objective
US6297916B1 (en) Imaging lens for interferometric device
US3603794A (en) Apparatus for transducing infrared images into visible images utilizing a liquid light control layer
JP4388634B2 (ja) スペーサ部材と光路長調整部材を備えるバーチャリ・イメージド・フェーズド・アレイ（ｖｉｐａ）
JPH023168B2 (nl)
SU1053058A1 (ru) Система сканировани
JPH059683Y2 (nl)
JPH0553057A (ja) 反射光学系

Legal Events

Date Code Title Description
A1A A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
A85 Still pending on 85-01-01
BV The patent application has lapsed