NL8004988A - HYDROFILE MONOMER-TREATED MICROPOROUS FILMS. - Google Patents

HYDROFILE MONOMER-TREATED MICROPOROUS FILMS. Download PDF

Info

Publication number
NL8004988A
NL8004988A NL8004988A NL8004988A NL8004988A NL 8004988 A NL8004988 A NL 8004988A NL 8004988 A NL8004988 A NL 8004988A NL 8004988 A NL8004988 A NL 8004988A NL 8004988 A NL8004988 A NL 8004988A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
film
microporous film
hydrophilic
microporous
micropores
Prior art date
Application number
NL8004988A
Other languages
Dutch (nl)
Other versions
NL190075C (en
NL190075B (en
Original Assignee
Celanese Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Celanese Corp filed Critical Celanese Corp
Publication of NL8004988A publication Critical patent/NL8004988A/en
Publication of NL190075B publication Critical patent/NL190075B/en
Application granted granted Critical
Publication of NL190075C publication Critical patent/NL190075C/en

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D7/00Producing flat articles, e.g. films or sheets
    • B29D7/01Films or sheets
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D67/00Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
    • B01D67/0081After-treatment of organic or inorganic membranes
    • B01D67/0093Chemical modification
    • B01D67/00931Chemical modification by introduction of specific groups after membrane formation, e.g. by grafting
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12Chemical modification
    • C08J7/16Chemical modification with polymerisable compounds
    • C08J7/18Chemical modification with polymerisable compounds using wave energy or particle radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J9/00Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
    • C08J9/36After-treatment
    • C08J9/40Impregnation
    • C08J9/405Impregnation with polymerisable compounds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M50/00Constructional details or processes of manufacture of the non-active parts of electrochemical cells other than fuel cells, e.g. hybrid cells
    • H01M50/40Separators; Membranes; Diaphragms; Spacing elements inside cells
    • H01M50/409Separators, membranes or diaphragms characterised by the material
    • H01M50/411Organic material
    • H01M50/414Synthetic resins, e.g. thermoplastics or thermosetting resins
    • H01M50/417Polyolefins
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M50/00Constructional details or processes of manufacture of the non-active parts of electrochemical cells other than fuel cells, e.g. hybrid cells
    • H01M50/40Separators; Membranes; Diaphragms; Spacing elements inside cells
    • H01M50/489Separators, membranes, diaphragms or spacing elements inside the cells, characterised by their physical properties, e.g. swelling degree, hydrophilicity or shut down properties
    • H01M50/491Porosity
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2323/00Details relating to membrane preparation
    • B01D2323/38Graft polymerization
    • B01D2323/385Graft polymerization involving radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2323/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers
    • C08J2323/02Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers not modified by chemical after treatment
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10Energy storage using batteries

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Transplantation (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Cell Separators (AREA)

Description

'* 4* 4

Hydrofiele met monomeer behandelde microporeuze films.Hydrophilic monomer-treated microporous films.

De uitvinding heeft betrekking op hydriele met monomeer behandelde microporeuze films met verbeterde water-doorlaatbaarheid en/of verlaagde elektrische weerstand.The invention relates to hydraulic monomer-treated microporous films with improved water permeability and / or reduced electrical resistance.

Recente ontwikkelingen op het gebied van open-5 cellige microporeuze polyrneerfilms zoals b.v. beschreven in de Amerikaanse octrooischriften 3.839.516, 3.801.1*01*, 3.679*538, . 3.558.764βι 3.^26.754, hebben geleid tot onderzoekingen om toepassingen te vinden die de bijzondere eigenschappen van deze nieuwe films zouden kunnen benutten. Dergelijke films, die 10 in wezen een gasdoorlaatbare waterblokkering zijn, kunnen worden gebruikt als aflaten, gas-vloeistof overdrachtmedia, batterij-scheiders en allerlei andere toepassingen.Recent developments in the field of open-celled microporous polymer films such as e.g. described in U.S. Pat. Nos. 3,839,516, 3,801.1 * 01 *, 3,679 * 538,. 3,558,764βι 3, 26,754, have led to investigations to find applications that could exploit the special properties of these new films. Such films, which are essentially a gas-permeable water block, can be used as drains, gas-liquid transfer media, battery separators and a variety of other applications.

Eén nadeel van deze films, dat in het verleden het aantal toepassingen waarvoor ze gebruikt kunnen worden, 15 beperkt heeft, is hun hydrofobe aard. Dit geldt in het bijzonder, wanneer polyolefinefilms, een voorkeurstype polymeermateriaal dat dikwijls gebruikt wordt bij de vervaardiging van microporeuze films, worden gebruikt. Omdat deze films niet "bevochtigd'* worden . niet door water en waterige oplossingen, konden ze^et goed gevolg 20 worden gebruikt voor zulke logische toepassingen als filtermedia elektrochemische scheidingsbestanddelen en dergelijke.One drawback of these films, which has historically limited the number of applications for which they can be used, is their hydrophobic nature. This is especially true when using polyolefin films, a preferred type of polymeric material often used in the manufacture of microporous films. Since these films are not "wetted" not by water and aqueous solutions, they could successfully be used for such logical applications as filter media, electrochemical separators and the like.

Verscheidene voorstellen zijn in het verleden gedaan om deze problemen te overwinnen, zoals b.v. beschreven in de Amerikaanse octrooischriften 3.853.601, 3.231.530, 3.215.½6 25 en Canadees octrooischrift 981.991, waarin verschillende hydrofiele bekledingsmiddelen of impregneringsmiddelen worden gebruikt.Several proposals have been made in the past to overcome these problems, such as e.g. described in U.S. Pat. Nos. 3,853,601, 3,231,530, 3,215,156, and Canadian Patent 981,991, in which various hydrophilic coatings or impregnants are used.

Dergelijke bekledingsmiddelen of impregneringsmiddelen, ofschoon doelmatig gedurende een beperkte tijdsduur, vertonen de neiging 8004988 2 om in een 'betrekkelijk korte tijd te worden verwijderd door oplossingen die met de films of vezels waarin ze aanwezig zijn, in aanraking komen.Such coatings or impregnants, although effective for a limited period of time, tend to be removed in a relatively short time by solutions contacting the films or fibers in which they are present.

Anderen hebben geprobeerd om een hydrofiel karakter 5 te verlenen aan een normaal hydrofobe microporeuze film door gebruik van lage energieplasmabehandelingen. Dergelijke plasma-behandelingen worden tot stand gebracht door eerst oppervlak-plaatsen van de microporeuze film te aktiveren met gebruikmaking van argon of waterstofplasma en dan daarop een geschikt te 10 vrije radicaal polymerisatiegroep, zoals acrylzuur, te enten.Others have attempted to impart a hydrophilic character to a normal hydrophobic microporous film using low energy plasma treatments. Such plasma treatments are accomplished by first activating surface locations of the microporous film using argon or hydrogen plasma and then inoculating a suitable free-radical polymerization group such as acrylic acid thereon.

De plasmabehandelingen leiden tot een film met alleen maar een oppervlak dat weer bevochtigbaar is. Het oppervlak van de film raakt ook in natte toestand verstopt, waardoor dan de vrije stroom van water door het inwendige van de film wordt belemmerd of 15 voorkomen.The plasma treatments result in a film with only a surface that is wettable again. The surface of the film also becomes clogged in a wet state, thereby impeding or preventing the free flow of water through the interior of the film.

Het onvermijdbare verstoppen van de oppervlak-poriën maakt de film ongeschikt voor bepaalde filtreertoepassingen, verhoogt de elektrische weerstand van de film en vermindert de dimensionele stabiliteit van de films zoals blijkt door aan-20 zienlijk krimpen bij drogen.The unavoidable clogging of the surface pores renders the film unsuitable for certain filtering applications, increases the electrical resistance of the film and reduces the dimensional stability of the films as evidenced by significant shrinkage on drying.

Zoals hierboven vermeld is een nadeel van de plasmabehandeling zijn beperkte vermogen om alleen maar het oppervlak van de microporeuze film bevochtigbaar te maken.As mentioned above, a drawback of the plasma treatment is its limited ability to only wettable the surface of the microporous film.

Er is waargenomen, dat ten gevolge van het ongewoon gebruikelijk 25 grote oppervlak van een microporeuze film van het hierin beschreven type alleen maar oppervlak bevochtigbaarheid niet garandeert, dat de film bepaalde funktionele eigenschappen zal vertonen, zoals lage elektrische weerstand en waterstroming-snelheden door de film die vergelijkbaar zijn met bekende opper-30 vlakaktieve systemen zoals hierboven besproken.It has been observed that due to the unusually common large surface area of a microporous film of the type described herein, only surface wettability does not guarantee that the film will exhibit certain functional properties such as low electrical resistance and water flow rates through the film. which are comparable to known surfactant systems as discussed above.

Het voornaamste nadeel van de plasmabehandeling, n.l. het verstoppen van de poriën en alleen maar oppervlak-bevochtigbaarheid, worden geacht het gevolg te zijn van een combinatie van faktoren, zoals de neiging van het lage energie-35 plasma om gemakkelijk te worden gedesaktiveerd door het grote 8004988 \ < 4 3 oppervlak van de microporeuze film. Dit verlaagt de waarschijnlijkheid, dat een inwendige plaats in de microporeuze film geaktiveerd wordt. Dienovereenkomstig is hg een strijd voor de intredende enthare monomeren met de vrije radicaal polymeerentingen die 5 oorspronkelijk aan het oppervlak van de film-worden gevormd, wanneer het enfbare monomeer voor het eerst in aanraking komt met het door plasma geaktiveerde microporeuze filmoppervlak. Derhalve vermenigvuldigen de entpolymeerketens die oorspronkelijk op het filmoppervlak aanwezig zijn zich met een voortdurend 10 hogere snelheid naarmate de reaktie verloopt. Als gevolg daarvanraken de gevormde verlengde entcopolymeerketens, die aan het oppervlak van de film voorkomen met elkaar verwikkelt en verstoppen de oppervlak microporiën in aanwezigheid van water.The main drawback of plasma treatment, viz. the clogging of the pores and only surface wettability are believed to result from a combination of factors, such as the tendency of the low energy plasma to be easily deactivated by the large surface area of the 8004988 microporous film. This decreases the probability that an internal site in the microporous film is activated. Accordingly, hg competes for the entering enthare monomers with the free-radical polymer grafts originally formed on the surface of the film when the extensible monomer first contacts the plasma-activated microporous film surface. Therefore, the graft polymer chains originally present on the film surface multiply at a continuously higher rate as the reaction proceeds. As a result, the formed elongated graft copolymer chains, which occur on the surface of the film, become entangled and clog the surface micropores in the presence of water.

Andere pogingen om hydrofiele film te ver-15 schaffen met behulp van een plasmabehandeling worden beschreven in de Amerikaanse octrooischriften 3.992Λ95 en U.0^6.8U3.Other attempts to provide hydrophilic film using a plasma treatment are described in U.S. Pat. Nos. 3,992,995 and U0-6.8U3.

Een andere techniek om polyethyleenfilm bevochtig-baar te maken en geschikt te maken voor gebruik in elektrische batterijscheidingen wordt beschreven door V. D'Agostino en J. Lee, 20 Manufacturing Methods for High Performance Grafted-Polyethylene Battery Separators, U.S. National Technical Information Service, A.D. Report no. 7^5.571 (1972) samengevat in 78 C.A. 5031f (1973); V. D'Agostino en J. Lee, Low Temperature Alka. line Battery Separators, 27 Power Sources Syrap. 87-91 (1976) samengevat 25 in 86 C.A. 158277f; 19 V. D'Agostino, J. Lee en G. Orban,Another technique for wettable polyethylene film and rendering it suitable for use in electrical battery separations is described by V. D'Agostino and J. Lee, Manufacturing Methods for High Performance Grafted-Polyethylene Battery Separators, U.S. Pat. National Technical Information Service, A.D. Report no. 7 ^ 5,571 (1972) summarized in 78 C.A. 5031f (1973); V. D'Agostino and J. Lee, Low Temperature Alka. line Battery Separators, 27 Power Sources Syrap. 87-91 (1976) summarized 25 in 86 C.A. 158277f; 19 V. D'Agostino, J. Lee and G. Orban,

Zinc-Silver Oxide Batteries, (A. Fleischer en J. Lander, ed, 1971)·Zinc-Silver Oxide Batteries, (A. Fleischer and J. Lander, ed, 1971)

Deze artikelen bespreken of houden verband met een handelsprodukt dat bekend staat als Permion (handelsmerk) ontwikkeld door RAI Research Corp. Kortgezegd bestaat de wijze van 30 vervaardiging van dit materiaal uit verknopen van een polyethyleen-vel met een dikte van 0,025 mm met behulp van β stralen, gevolgd door enten met methacrylzuur in een geschikte oplossing onder C060 γ stralen. Het geënte materiaal wordt gewassen om het homo-polymeer te verwijderen, daarna omgezet in zoutvorm in warm Κ0Η, 35 opnieuw gewassen om de resterende base te verwijderen, gedroogd 8004988 !* en verpakt. De oorspronkelijke verknopingstrap veroorzaakt microbarstjes of lengtespleten in niet poreuze ethyleenfilm, die zo klein zijn, dat ze niet zichtbaar zijn, zelfs niet onder een elektronenmicroscoop. De middellijn van deze microbarstjes 5 wordt geschat op ongeveer 20 j? (10“® cm). De microbarstjes worden dan geënt met het methacrylzuur. De verkregen film is derhalve niet microporeus in de zin van de microporeuze films die gebruikt worden volgens de uitvinding, en die een gemiddelde grootte bezitten van 100-5000 S. De bijzonder geringe afmeting 10 van de microbarstjes van Permion (handelsmerk) verhinderenin het algemeen een massaoverdracht van bewegelijke elektronen bevattende species die gevormd worden door oxydatie- reduktie-reakties door de film met een aanmerkelijke snelheid. Dit vindt zijn weerslag in de betrekkelijk hoge ( b.v. 30 - 1*0 milli-15 ohm-6,2l* cm ) elektrische weerstanden die films van dit type vertonen. Bovendien is Permion (handelsmerk) niet dimensioneel stabiel in meer dan een richting, zoals blijkt uit aanzienlijk zwellen.These articles discuss or relate to a commercial product known as Permion (trademark) developed by RAI Research Corp. Briefly, the method of manufacture of this material consists of cross-linking a 0.025 mm thick polyethylene sheet using β-blasting followed by seeding with methacrylic acid in a suitable solution under C060 γ blasting. The grafted material is washed to remove the homopolymer, then converted to salt form in warm Κ0Η, washed again to remove the residual base, dried 8004988 * and packaged. The original cross-linking step causes micro-cracks or longitudinal slits in non-porous ethylene film that are so small that they are not visible even under an electron microscope. The diameter of these micro cracks 5 is estimated to be approximately 20 µm. (10 “® cm). The micro cracks are then inoculated with the methacrylic acid. The film obtained is therefore not microporous in the sense of the microporous films used according to the invention, and which have an average size of 100-5000 S. The particularly small size of the micro-cracks of Permion (trademark) generally prevent a mass transfer of moving electron-containing species formed by oxidation reduction reactions through the film at a significant rate. This is reflected in the relatively high (e.g., 30-1 * 0 milli-15 ohm-6.2l * cm) electrical resistances exhibited by films of this type. In addition, Permion (trademark) is not dimensionally stable in more than one direction, as evidenced by significant swelling.

Het is bekend, dat niet poreuze polymere 20 substraten, zoals polyethyleen en polypropyleen, tot reaktie gebracht kunnen worden met verschillende monomeren, zoals acryl-zuur, met gebruikmaking van verschillende typen ioniserende straling, zoals beschreven in Amerikaanse octrooischriften 2.999.056, 3.281.263, 3.372.100 en 3.709.718. Omdat geen van 25 deze octrooischriften gericht is op microporeuze films zijn ze echter nietgericht op de bepaalde problemen die daarmee gepaard gaan.It is known that non-porous polymeric substrates, such as polyethylene and polypropylene, can be reacted with different monomers, such as acrylic acid, using different types of ionizing radiation, as described in U.S. Patents 2,999,056, 3,281,263 , 3,372,100 and 3,709,718. However, since none of these patents are directed to microporous films, they are not directed to the particular problems associated therewith.

Derhalve is het zoeken voortgezet naar een betrekkelijk blijvend bevochtigbare hydrofiele microporeuze film, 30 die een lage elektrische weerstand bezit alsmede een verbeterde waterstromingssnelheid door de microporeuze film. Als gevolg van dit onderzoek kwam de uitvinding tot stand.Therefore, the search has continued for a relatively persistently wettable hydrophilic microporous film, which has a low electrical resistance as well as an improved water flow rate through the microporous film. As a result of this research, the invention was accomplished.

De uitvinding heeft derhalve ten doel een werkwijze te verschaffen om een normaal hydrofobe microporeuze 35 film betrekkelijk blijvend hydrofiel te maken en daardoor de 80 0 4 98 8 ♦ λ 5 waterdoorlaatbaarheid daarvan te verbeteren.The object of the invention is therefore to provide a method to render a normally hydrophobic microporous film relatively permanently hydrophilic and thereby to improve its water permeability.

De uitvinding heeft verder ten doel een werkwijze te verschaffen voor het verlagen van de elektrische weerstand van een normaal hydrofobe microporeuze film.Another object of the invention is to provide a method for lowering the electrical resistance of a normally hydrophobic microporous film.

5 Tevens heeft de uitvinding ten doel een hydrofiele microporeuze film te verschaffen met verlaagde elektrische weerstand.Another object of the invention is to provide a hydrophilic microporous film with reduced electrical resistance.

Daarenboven heeft de uitvinding ten doel de problemen van de hierboven besproken stand van de techniek te 10 overwinnen.In addition, the invention aims at overcoming the problems of the prior art discussed above.

De uitvinding verschaft nu een werkwijze om een normaal hydrofobe polyolefinische microporeuze film hydrofiel te maken, de waterstromingssnelheid daardoor te verbeteren en de elektrische weerstand daarvan te verminderen, doordat men 15 a) Het oppervlak van de microporiën van een normaal hydrofobe polyolefinische opencellige microporeuze film met een verlaagd stortdichtheid in vergelijking met de stortdichtheid van een voorloperfilm waaruit deze vervaardigd is, een gemiddelde poriegrootte van 200 - 10 000 S, en een oppervlak 20 van tenminste 10 m /g met tenminste éên hydrofiel organisch koolwaterstofraonomeer met 2-18 koolstofatomen, dat tenminste éên ethylenisch onverzadigde binding bevat en tenminste één polaire funktionele groep bevat; en b) op het oppervlak van de microporiën van de 25 microporeuze film een hoeveelheid van dit hydrofiele organische koolwaterstofmonomeer chemisch vast te zetten die voldoende is om de open cel aard van deze microporiën te handhaven en voldoende om een aanhechting te verkrijgen van 0,1-10 gew./», betrokken op het gewicht van de niet beklede microporeuze film te verkrijgen 30 door bestralen van de beklede microporeuze film uit (a) met 1-10 megarad ioniserende straling.The invention now provides a method of rendering a normally hydrophobic polyolefinic microporous film hydrophilic, thereby improving the water flow rate and reducing its electrical resistance by providing a) the surface of the micropores of a normal hydrophobic polyolefinic open cell microporous film having a reduced bulk density compared to the bulk density of a precursor film from which it is made, an average pore size of 200-10,000 S, and a surface area of at least 10 m / g with at least one hydrophilic organic hydrocarbon monomer having 2-18 carbon atoms, containing at least one contains ethylenically unsaturated bond and contains at least one polar functional group; and b) chemically securing to the surface of the micropores of the microporous film an amount of this hydrophilic organic hydrocarbon monomer sufficient to maintain the open cell nature of these micropores and sufficient to obtain an adherence of 0.1- 10% by weight, based on the weight of the uncoated microporous film, is obtained by irradiating the coated microporous film from (a) with 1-10 megarad of ionizing radiation.

De uitvinding verschaft tevens een hydrofiele opencellige microporeuze film die bestaat uit: (a) een open cellige normaal hydrofobe microporeuze film met een verlaagde 35 stortdichtheid in vergelijking met de stortdichtheid van een 8004988 6 voorloperfilm waaruit deze vervaardigd is, een gemiddelde poriegrootte van 200 - 10 000 £ en een oppervlak van tenminste 2 10 m /g; en (b) een deklaag op het oppervlak van de micro-5 poriën van de microporeuze film van tenminste één hydrofiel organisch koolwaterstofmonomeer met 2-18 koolstofatomen, dat tenminste één ethylenisch onverzadigde binding en tenminste één polaire fuhktionele groep bevat, waarbij de hydrofiele organische koolwaterstofmonomeerdeklaag chemisch vastgezet is 10 op het oppervlak van de microporiën van de microporeuze film door blootstelling aan 1-10 megarad ioniserende straling, en in een hoeveelheid die voldoende is om de opencellige aard van de microporeuze film te handhaven en een aanhechting te verkrijgen van 0,1-10 gew.Ji, betrokken op het gewicht van de onbeklede 15 microporeuze film.The invention also provides a hydrophilic open cell microporous film consisting of: (a) an open cell normal hydrophobic microporous film having a reduced bulk density compared to the bulk density of an 8004988 6 precursor film from which it is made, an average pore size of 200 - 10 000 lb and a surface area of at least 2 10 m / g; and (b) a surface coating on the micro-pores of the microporous film of at least one hydrophilic organic hydrocarbon monomer of 2-18 carbon atoms, containing at least one ethylenically unsaturated bond and at least one polar functional group, the hydrophilic organic hydrocarbon monomer coating is chemically attached to the surface of the micropores of the microporous film by exposure to 1-10 megarad of ionizing radiation, and in an amount sufficient to maintain the open-cell nature of the microporous film and obtain an adhesion of 0.1 -10 wt.%, Based on the weight of the uncoated microporous film.

Het wezen van de uitvinding is gelegen in het vinden, dat opencellige microporeuze films betrekkelijk blijvend bevochtigbaar en/of hydrofiel gemaakt kunnen worden, wanneer de poriën daarvan chemisch gebonden zijn met een ingestelde hoeveel-20 heid entbaar hydrofiel monameer door blootstelling aan ioniserende straling terwijl de opencellige aard van de microporeuze film wordt gehandhaafd. Bovendien vindt een dergelijke chemische vastzetting van de hydrofiele monomeren zelfs binnen deze poriën op een inwendige plaats binnen de microporeuze film plaats.The essence of the invention lies in finding that open-cell microporous films can be made relatively permanently wettable and / or hydrophilic when their pores are chemically bonded with a set amount of inoculable hydrophilic monomer by exposure to ionizing radiation while the open-cell nature of the microporous film is maintained. In addition, such chemical fixation of the hydrophilic monomers takes place even within these pores internally within the microporous film.

25 Aangenomen wordt, dat door het regelen van de hoeveelheid monomeer die chemisch wordt vastgezet op het oppervlak van de microporiën, de polymeerketenenting, die plaats vindt bij blootstelling aan straling, langs het oppervlak van de poriën kan worden gelegd. Daardoor wordt verwikkelen en verstoppen van de 30 poriën vermeden.It is believed that by controlling the amount of monomer that is chemically attached to the surface of the micropores, the polymer chain grafting that occurs upon exposure to radiation can be placed along the surface of the pores. This prevents entanglement and clogging of the 30 pores.

De uitvinding is gericht op een hydrofiele microporeuze film en een werkwijze voor de vervaardiging daarvan.The invention is directed to a hydrophilic microporous film and a method for its manufacture.

Poreuze of cellulaire films kunnen worden geklassifieeerd in twee algemene typen: één type waarin de 35 poriën niet onderling verbonden zijn, d.w.z. een gesloten cellige 8004988 λ Λ \ 7 film en het andere type waarin de poriën in wezen onderling verbonden zijn langs ingewikkelde banen, die kunnen lopen van het ene uitwendige oppervlak of oppervlakgebied naar een ander, d.w.z. een opencellige film. De poreuze films volgens de uit-5 vinding zijn van het laatstgenoemde type.Porous or cellular films can be classified into two general types: one type in which the 35 pores are not interconnected, ie a closed cell 8004988 λ Λ \ 7 film, and the other type in which the pores are essentially interconnected along complex paths, which can run from one external surface or surface area to another, ie an open-cell film. The porous films of the invention are of the latter type.

Verder zijn de poriën van de poreuze films volgens de uitvinding microscopisch, d.w.z. de bijzonderheden van hun porieconfiguratie of rangschikking is alleen maar waarneembaar bij microscopisch onderzoek. In de praktijk zijn de open-10 cellige poriën in de films in het algemeen kleiner dan degenen, die gemeten kunnen worden met behulp van een gewone licht-microscoop, omdat de golflengte van zichtbaar licht, die omstreeks 5000 X bedraagt, langer is dan het langste Tlak of oppervlak-afmeting van de open cel of porie. De microporeuze films volgens 15 de uitvinding kunnen echter worden geïdentificeerd met behulp van elektronenmicroscopieche technieken, die in staat zijn om bijzonderheden van de poriestruktuur beneden 5000 X te onderscheiden.Furthermore, the pores of the porous films of the invention are microscopic, i.e. the details of their pore configuration or arrangement is only observable in microscopic examination. In practice, the open-cell pores in the films are generally smaller than those that can be measured using an ordinary light microscope, because the wavelength of visible light, which is about 5000X, is longer than the longest Tlak or surface size of the open cell or pore. However, the microporous films of the invention can be identified by electron microscopic techniques capable of discerning details of the pore structure below 5000 X.

De microporeuze films volgens de uitvinding 20 hebben ook een verlaagde stortdichtheid, die somwtijds hierna eenvoudigweg wordt aangeduid als ’’lage” dichtheid. D.w.z. dat deze films een stort of totale dichtheid bezitten die geringer is dan de stortdichtheid van overeenkomstige films die gevormd zijn uit identiek polymeer materiaal maar geen opencellige of 25 andere van holten voorziene struktuur bezitten. De uitdrukking ’’stortdichtheid” als hierin gebruikt heeft betrekking op het gewicht per bruto of geometrische volumeeenheid van de film waarbij het brutovolume wordt bepaald door een bekend gewicht van de film onder te dompelen in een vat dat gedeeltelijk net 30 kwik gevuld is bij 25°C en atmosferische druk. De volumetrische stijging van het niveau van het kwik is een direkte maat voor het brutovolume. Deze methode staat bekend als de kwik volume-menometermethode en wordt beschreven in de Encyclopedia of Chemical Technology, vol. b3 blz. 892 (interscience 19^9).The microporous films of the invention also have a reduced bulk density, which is sometimes referred to simply as "low" density. I.e. that these films have a bulk density or total density less than the bulk density of corresponding films formed of identical polymeric material but have no open-cell or other hollowed structure. The term "bulk density" as used herein refers to the weight per gross or geometric unit volume of the film where the gross volume is determined by immersing a known weight of the film in a vessel partially filled with 30 mercury at 25 ° C and atmospheric pressure. The volumetric increase in the level of the mercury is a direct measure of the gross volume. This method is known as the mercury volume menometer method and is described in the Encyclopedia of Chemical Technology, vol. b3 p. 892 (interscience 19 ^ 9).

35 Poreuze films zijn vervaardigd, die een micro- 8004988 \ 8 poreuze opencellige struktuur bezitten en die ook een verlaagde stortdichtheid hebben. Films met deze microscopische struktuur worden b.v. beschreven in Amerikaans octrooischrift 3.^26.75^.Porous films have been prepared which have a micro-8004988 \ 8 open-cell porous structure and which also have a reduced bulk density. For example, films of this microscopic structure are described in U.S. Patent 3, 26, 75 ^.

De voorkeursmethode voor de vervaardiging die daarin wordt 5 beschreven, omvat onder meer trekken of strekken bij kamertemperatuur, d.w.z. "koud trekken", van een kristallijne, elastische voorloperfilm in een hoeveelheid van 10-300 % van zijn oorspronkelijke lengte, met daarop volgend stabiliseren door warm smelt verharden van de getrokken film onder een 10 zodanige spanning, dat de film niet vrij kan krimpen of slechts in beperkte mate kan krimpen. Andere methoden voor het vervaardigen van microporeuze films worden b.v. beschreven in de Amerikaanse octrooischriften 3.558.76^, 3.8U3.762, 3.920.785, de Britse octrooischriften 1.180.066 en 1.198.695.The preferred method of manufacture described therein includes drawing or stretching at room temperature, ie "cold drawing", a crystalline elastic precursor film in an amount of 10-300% of its original length, with subsequent stabilization by hot melt curing the drawn film under such a tension that the film cannot shrink freely or shrink only to a limited extent. Other methods of making microporous films are e.g. described in U.S. Pat. Nos. 3,558,766, 3,8U3,762, 3,920,785, British Pat. Nos. 1,180,066 and 1,198,695.

15 Ofschoon alle hierboven genoemde octrooischriften werkwijzen beschrijven voor het vervaardigen van normaal hydrofobe microporeuze films die hydrofiel kunnen worden gemaakt overeenkomstig de uitvinding, worden de bij voorkeur gebruikte normaal hydrofobe microporeuze films verschaft overeenkomstig de 20 werkwijzen als beschreven in Amerikaans octrooischrift 3.801.HoU, waarin een werkwijze wordt beschreven voor het vervaardigen van microporeuze films die hierin worden aangeduid als de "droge strek" methode en Amerikaans octrooischrift 3.839.516, dat een werkwijze beschrijft voor het vervaardigen van microporeuze films 25 die hierin worden aangeduid als "oplosmiddelstrek" methode.Although all of the above patents disclose methods of making normally hydrophobic microporous films that can be rendered hydrophilic in accordance with the invention, the preferred normally hydrophobic microporous films are provided in accordance with the methods described in U.S. Pat. No. 3,801,80U, wherein a Method is described for making microporous films referred to herein as the "dry stretch" method and US Pat. No. 3,839,516, which describes a method for making microporous films referred to herein as "solvent drawing" method.

Iedere van deze octrooischriften beschrijft bij voorkeur gebruikte alternatieve wegen voor het verkrijgen van een normaal hydrofobe microporeuze film door het behandelen van een voorloperfilm overeenkomstig specifiek bepaalde verwerkingstrappen.Each of these patents describes preferred alternative routes for obtaining a normal hydrophobic microporous film by treating a precursor film according to specific processing steps.

30 De bij voorkeur gebruikte voorloperfilm die gebruikt kan worden bij het vervaardigen van microporeuze films overeenkomstige "droge strek" en "oplosmiddelstrek" methode worden specifiek in bijzonderheden beschreven in de respectieve octrooischriften als hierboven vermeld. Zo gebruikt de "droge 35 strek" methode een niet poreuze, kristallijne, elastische polymeer- « 8004988 9 film met een elastisch herstel hij nul hersteltijd (hieronder gedefinieerd) indien onderworpen aan een standaardspanning (rek) van 50 % hij 25°C en 65 % relatieve vochtigheid van tenminste Ho #, hij voorkeur tenminste 50 % en liefst tenminste 5 80 %,The preferred precursor film which can be used in the manufacture of microporous films corresponding to "dry stretch" and "solvent stretch" method are specifically described in detail in the respective patents mentioned above. For example, the "dry stretch" method uses a non-porous, crystalline, elastic polymeric film with an elastic recovery and zero recovery time (defined below) when subjected to a standard stress (elongation) of 50% at 25 ° C and 65 ° C. % relative humidity of at least Ho #, preferably at least 50% and most preferably at least 80%,

Elastisch herstel als hierin gebruikt is een maat voor het vermogen van een struktuur of gevormd voorwerp, zoals een film, om tot zijn oorspronkelijke afmeting terug te keren na te zijn gestrekt, en kan als volgt worden berekend: 10 Elastisch herstel (ER)# = lengte lengte in gestrekte toestand —— na het strekken x -joo toegevoegde lengte in gestrekte toestandElastic recovery as used herein is a measure of the ability of a structure or shaped article, such as a film, to return to its original size after being stretched, and can be calculated as follows: 10 Elastic recovery (ER) # = length length in stretched state - after stretching x -you added length in stretched state

Ofschoon een standaardspanning van 50 % gebruikt ^ wordt om de elastische eigenschappen van de uitgangsfilns te identificeren, dient deze spanning alleen maar als voorbeeld.Although a standard tension of 50% is used to identify the elastic properties of the output films, this tension serves only as an example.

In het algemeen hebben dergelijke uitgangsfilms een elastisch herstelvermogen dat hoger is bij spanningen van meer dan 50 % en dat wat lager is bij spanningen die aanzienlijk hoger zijn dan ^ 50 #, in vergelijking met hun elastisch herstelvermogen bij een spanning van 50 %.Generally, such output films have an elastic recovery ability higher at voltages greater than 50% and somewhat lower at voltages significantly greater than 50%, compared to their elastic recovery ability at 50% stress.

Deze uitgangs elastische films bevatten ook een percentage kristallijn van tenminste 20 #, hij voorkeur tenminste 30 % en liefst tenminste 50 #, b.v. 50-90 % of meer.These starting elastic films also contain a percentage crystalline of at least 20 #, preferably at least 30% and most preferably at least 50 #, e.g. 50-90% or more.

^ Het percentage kristallijn wordt bepaald met de röntgenstraal-methode als beschreven door R.G. Quynn c.s. in J.Appl. Polymer Science, vol. 2, no. 5, blz. 166-173 (1959)· Voor een bespreking in bijzonderheden van de kristalliniteit en de betekenis daarvan in polymeren wordt verwezen naar Polymers and Resins, Golding ^ (D. Van ïïostrand, 1959).^ The percentage of crystalline is determined by the X-ray method as described by R.G. Quynn et al. In J.Appl. Polymer Science, vol. 2, No. 5, pp. 166-173 (1959) · For a detailed discussion of crystallinity and its significance in polymers, see Polymers and Resins, Golding, D. (D. Vanïostrand, 1959).

Andere elastische films die geschikt worden geacht voor het vervaardigen van voorloperfilms die gebruikt worden in de droge strekmethode worden beschreven in Brits octrooischrift 1.052.550.Other elastic films that are considered suitable for making precursor films used in the dry drawing method are described in British Patent No. 1,052,550.

^ De voorloper elastische film die gebruikt wordt 80 0 4 98 8 10 bij het vervaardigen van de microporeuze films met de "droge strek" methode dienen te worden onderscheiden van films die gevormd worden uit klassieke elastomeren, zoals de natuurlijke en synthetische rubbers. Bij dergelijke klassieke elastomeren 5 wordt het rekspanning-schuifspanningsgedrag en in het bijzonder het rekspanning-temperatuurverband bepaald door het entropie-mechanisme van de vervorming (rubberelasticiteit). De positieve temperatuurcoëfficient van de terugtrekkracht, d.w.z. afnemende rekspanning bij afnemende temperatuur en volledig verlies van 10 elastische eigenschappen bij de glasovergangstemperatuur zijn bijzondere gevolgen van entropie-elasticiteit. De elasticiteit van de voorloper elastische films die hierin worden gebruikt is anderzijds van een andere aard. Bij kwalitatieve thermo-dynamische proeven met deze elastische voorloperfilms kan 15 toenemende rekspanning bij afnemende temperatuur (negatieve temperatuurcoëfficient) worden verklaard te betekenen, dat de elasticiteit van deze materialen niet bepaald wordt door entropie-effekten maar afhankelijk is van een energieterm.The precursor elastic film used in the manufacture of the microporous films by the "dry stretch" method is to be distinguished from films formed from classic elastomers, such as the natural and synthetic rubbers. With such classic elastomers 5, the tensile stress-shear stress behavior and in particular the tensile stress-temperature relationship are determined by the entropy mechanism of the deformation (rubber elasticity). The positive temperature coefficient of the retraction force, i.e., decreasing tensile stress at decreasing temperature and complete loss of elastic properties at the glass transition temperature, are special effects of entropy elasticity. The elasticity of the precursor elastic films used herein, on the other hand, is of a different nature. In qualitative thermodynamic tests with these elastic precursor films, increasing tensile stress at decreasing temperature (negative temperature coefficient) can be explained to mean that the elasticity of these materials is not determined by entropy effects but depends on an energy term.

Meer van belang is, dat gevonden is dat de "droge strek" voorloper 20 elastische films hun strekeigenschappen behouden bij temperaturen waarbij normale entropie elasticiteit niet langer werkzaam zou kunnen zijn. Zo wordt het strekmechanisme van de "droge strek" voorloper elastische films geacht te berusten op energie-elasticiteitverband, en deze elastische films kunnen dan worden 25 aangeduid als "niet-klassieke" elastomeren.More importantly, it has been found that the "dry stretch" precursor elastic films retain their stretch properties at temperatures where normal entropy elasticity could no longer be effective. Thus, the stretch mechanism of the "dry stretch" precursor elastic films is considered to be based on energy elasticity bond, and these elastic films can then be referred to as "non-classic" elastomers.

In plaats daarvan benut de "oplosmiddelstrek" methode een voorloperfilm die tenminste twee bestanddelen bevatten, d.w.z. een amorf bestanddeel en een kristallijn bestanddeel. Derhalve werken kristallijne materialen, die 30 van nature twee bestanddelen zijn, goed bij deze werkwijze.Instead, the "solvent stretch" method utilizes a precursor film containing at least two components, i.e., an amorphous component and a crystalline component. Therefore, crystalline materials, which are naturally two components, work well in this process.

De kristalliniteitsgraad van de voorloperfilm dient derhalve tenminste 30 vol.?, bij voorkeur tenminste ^0 vol.? en liefst tenminste 50 vol.? betrokken op de voorloperfilm te bedragen.The degree of crystallinity of the precursor film should therefore be at least 30 vol., Preferably at least 0 vol. and preferably at least 50 vol.? based on the predecessor film.

De polymeren, d.w.z. synthetisch harsmateriaal, 35 waaruit de voorloperfilm die gebruikt wordt in êên van beide 8004988 11 werkwijzen, worden gebruikt, zijn de alkeenpolymeren, zoals polyethyleen, polypropyleen, poly-3-methylbut-1-een, poly-H-methylpent-1-een, alsmede copolymeren van propeen, 3-methylbut-1-een, H-methylpent-1-een of etheen, met elkaar of met ondergeschikte 5 hoeveelheden van andere alkenen, b.v. copolymeren van propeen en etheen, copolymeren van overwegende hoeveelheid 3-methylbut-1-een en een ondergeschikte hoeveelheid van een rechte keten n-alkeen, zoals n-oct-1-een, n-hexadec-1-een, n-octadec-1-een of een ander naar verhouding lange keten alkeen, alsmede copolymeren 10 van 3-methylpent-1-een en één van de hierboven in verband met 3-methylbut-1-een genoemde n-alkenen.The polymers, ie synthetic resin material, from which the precursor film used in either 8004988 11 process are used are the olefin polymers such as polyethylene, polypropylene, poly-3-methylbut-1-one, poly-H-methylpent- 1-ene, as well as copolymers of propylene, 3-methylbut-1-ene, H-methylpent-1-ene or ethylene, with one another or with minor amounts of other olefins, eg copolymers of propylene and ethylene, copolymers of predominant amount of 3-methylbut-1-one and a minor amount of a straight chain n-olefin, such as n-oct-1-one, n-hexadec-1-one, n-octadec- 1-One or another relatively long chain olefin, as well as copolymers of 3-methylpent-1-one and one of the n-olefins mentioned above in connection with 3-methylbut-1-one.

In het algemeen wordt b.v. wanneer propeen-homopolymeren beoogd worden te worden gebruikt in de "droge strek" methode, een isostatisch polypropyleen met een percentage Ί5 kristallijn zoals hierboven aangegeven, een gemiddeld mol.gew.In general, e.g. when propylene homopolymers are intended to be used in the "dry stretch" method, an isostatic polypropylene having a percentage Ί5 crystalline as indicated above, an average molecular weight.

op gewichtsbasis in een trajekt van 100.000-750.000 (b.v.by weight in a range of 100,000-750,000 (e.g.

200.000-500.000) en een smeltindex (ASTM-D-1238-57T, deel 9, blz. 38) van 0,1 - 75 (b.v. 0,5-30), gebruikt teneinde een filmeindprodukt te verschaffen met de vereiste fysische eigen-20 schappen.200,000-500,000) and a melt index (ASTM-D-1238-57T, part 9, p. 38) of 0.1 - 75 (eg 0.5-30), used to provide a film end product with the required physical properties. 20 shelves.

In deze beschrijving wordt met olefinisch polymeer of alkeenpolymeer een polymeeraangeduid dat bereid wordt door het polymeriseren van olefinemonomeren ofwel alkeen-monomeren via hun ethylenische onverzadigdheid.In this specification, olefinic polymer or olefin polymer refers to a polymer which is prepared by polymerizing olefin monomers or olefin monomers via their ethylenic unsaturation.

25 Bij voorkeur gebruikte polymeren ten gebruike in de "oplosmiddelstrek" methode zijn de polymeren die gebruikt worden overeenkomstig de uitvinding als beschreven in Amerikaanse octrooiaanvrage Ser. no. W*.805 van 1 juni 1979.Preferred polymers for use in the "solvent drawing" method are the polymers used in accordance with the invention as described in U.S. Patent Application Ser. No. W * .805 of June 1, 1979.

Zo verdient een polyethyleenhomopolymeer met een dichtheid vanFor example, a polyethylene homopolymer with a density of

OO

30 0,960-0,965 g/cm , een hoge smeltindex van niet minder dan 3 en bij voorkeur 3-20 en een brede mol.gew. verdelingsverhouding (Μ /M ) van niet minder dan 3,8 en bij voorkeur 3,8-13 de voorkeur w n bij het vervaardigen van een microporeuze film volgens de "oplosmiddelstrek” methode. Bovendien kunnen nucleeringsmiddelen 35 worden opgenomen in het polymeer dat gebruikt wordt voor het 8004988 12 vervaardigen van de voorloperfilm zoals beschreven in de bovengenoemde octrooiaanvrage, in welk geval de polymeren met een smeltindex van slechts 0,3 gebruikt kunnen worden.0.960-0.965 g / cm, a high melt index of not less than 3 and preferably 3-20, and a broad molecular weight. distribution ratio (Μ / M) of not less than 3.8 and preferably 3.8-13 is preferred when manufacturing a microporous film by the "solvent stretch" method In addition, nucleating agents can be incorporated into the polymer used for manufacturing the precursor film as described in the above-mentioned patent application, in which case the polymers having a melt index of only 0.3 can be used.

De soorten apparatuur, geschikt voor het ver-5 vaardigen van de voorloperfilms, zijn bekend uit de stand van de techniek.The types of equipment suitable for making the precursor films are known in the art.

Een gebruikelijk filmextrudeerapparaat, voorzien van een ondiepe kanaaldoseerschroef en kleerhangermatrijs is bevredigend. In het algemeen wordt de hars in een hopper van 10 het extrudeerapparaat geleid, die voorzien is van een schroef en een mantel met verwarmingselementen. De hars wordt gesmolten en door de schroef overgebracht naar de matrijs, waaruit hij wordt geextrudeerd door een spleet in de vorm van een film, waaruit hij wordt getrokken met een opneem of gietwals. Meer dan êén 15 opneemwals in verschillende combinaties of trappen kunnen worden gebruikt. De matrijsopening of spleetbreedte kan b.v. liggen in het trajekt van 0,25^-5,08 mm.A conventional film extruder equipped with a shallow channel metering screw and coat hanger die is satisfactory. Generally, the resin is fed into a hopper of the extruder equipped with a screw and jacket with heating elements. The resin is melted and transferred by screw to the mold, from which it is extruded through a slit in the form of a film, from which it is drawn with a take-up or casting roller. More than one take-up roller in different combinations or stages can be used. The die opening or gap width can e.g. are in the range 0.25 ^ -5.08 mm.

Met gebruik van dit type apparaat kan film worden geextrudeerd met een aftrekverhouding van 5:1 tot 200:1, 20 bij voorkeur 10:1 tot 50:1.Using this type of device, film can be extruded with a draw ratio of 5: 1 to 200: 1, preferably 10: 1 to 50: 1.

De uitdrukking "aftrekverhouding” of eenvoudiger "trekverhouding" als hierin gebruikt is de verhouding van de film opwikkel of opnamesnelheid tot de snelheid van de film die uit de extrudeermatrijs treedt.The term "peel ratio" or more simply "draw ratio" as used herein is the ratio of the film take-up or take-up speed to the speed of the film exiting the extruder die.

25 De smelttemperatuur voor filmextruderen ligt in het algemeen niet hoger dan ongeveer 100°C boven het smeltpunt van het polymeer en niet lager dan ongeveer 10°C boven het smeltpunt van het polymeer. Polypropyleen kan b.v. worden geextrudeerd bij een smelttemperatuur van 180-270°C, bij 30 voorkeur 200-2U0°C. Polyethyleen kan worden geextrudeerd bij een smelttemperatuur van 175-225°C.The melting temperature for film extrusion is generally no greater than about 100 ° C above the melting point of the polymer and no less than about 10 ° C above the melting point of the polymer. Polypropylene can e.g. are extruded at a melting temperature of 180-270 ° C, preferably 200-200 ° C. Polyethylene can be extruded at a melting temperature of 175-225 ° C.

Wanneer de voorloperfilm gebruikt moet worden overeenkomstig de "droge strek" methode, wordt de extrudeer-bewerking bij voorkeur uitgevoerd onder snel koelen en snel 35 aftrekken teneinde maximale elasticiteit te verkrijgen. Dit kan 800 4 98 8 * Λ 13 tot stand worden gebracht door de opnamewals betrekkelijk dicht bij de extrudeerspleet op te stellen, b.v. binnen 5 cm en bij voorkeur binnen 2,5 cm. Een "luchtmes" dat werkt bij een temperatuur in het trajekt van b.v. 0-l+0°C, kan worden gebruikt 5 binnen 2,5 cm van de spleet om de film te fixeren, d.w.z.When the precursor film is to be used in accordance with the "dry stretch" method, the extruding operation is preferably performed under rapid cooling and rapid stripping to obtain maximum elasticity. This can be accomplished 800 4 98 8 * Λ 13 by arranging the take-up roller relatively close to the extruder slit, e.g. within 5 cm and preferably within 2.5 cm. An "air knife" operating at a temperature in the range of e.g. 0-1 + 0 ° C, can be used within 2.5 cm of the slit to fix the film, i.e.

snel af te koelen en vast te doen worden. De opname-wals kan b.v. draaien met een snelheid van 3-300 ra/min. bij voorkeur 15-150 m/min.cool quickly and get fixed. The take-up roller can e.g. run at a rate of 3-300 ra / min. preferably 15-150 m / min.

Wanneer de voorloperfilm gebruikt moet worden 10 overeenkomstig de "oplosmiddelstrek"methode, wordt de extrudeer-bewerking bij voorkeur uitgevoerd onder langzaam koelen, teneinde de rekspanning en eventueel daarmee gepaard gaande oriëntatie die het gevolg kan zijn van een snel fixeren, zo gering mogelijk te maken, teneinde maximum kristalliniteit te verkrijgen, maar 15 toch snel genoeg om het ontwikkelen van grote bolletjes te voorkomen. Dit kan geschieden door de afstand van de koelwalsopname van de extrudeerspleet in te stellen.When the precursor film is to be used in accordance with the "solvent drawing" method, the extruding operation is preferably performed under slow cooling to minimize the stretching stress and any associated orientation that may result from a fast fixation. , in order to obtain maximum crystallinity, yet fast enough to prevent the development of large spheres. This can be done by adjusting the distance of the chill roller mount from the extruder gap.

Terwijl de bovenstaande beschrijving gericht is op spleetmatrix extrudeermethoden, bestaat een andere methode 20 voor het vormen van de voorloperfilms die bij de uitvinding worden beoogd, de blaasfilmextrudeermethode, waarbij een hopper en een extrudeerapparaat worden gebruikt, die vrijwel hetzelfde zijn als bij het spleetextrudeerapparaat als hierboven beschreven.While the above description is directed to slit matrix extruding methods, another method of forming the precursor films contemplated in the invention is the blown film extruding method using a hopper and an extruder, which are much the same as in the slit extruder as above described.

25 Uit het extrudeerapparaat komt de smelt in een matrix, waaruit hij geextrudeerd wordt door een cirkelvormige opening onder vorming van een buisvormige film met een oorspronkelijke middellijn D^. Lucht treedt in het systeem door een inlaat in het inwendige van deze buisvormige film en heeft tot gevolg 30 het opblazen van de middellijn van de buisvormige film tot een middellijn Dg. Hulpmiddelen, zoals luchtringen, kunnen ook worden opgesteld voor het richten van de lucht langs de buitenkant van de geextrudeerde buisvormige film, teneinde verschillende koelsnelheden te bewerkstelligen. Hulpmiddelen, zoals een 35 koeldoorn, kunnen worden gebruikt om let inwendige van de buis- 8004988The melt exits the extruder into a matrix, from which it is extruded through a circular opening to form a tubular film of original diameter D ^. Air enters the system through an inlet into the interior of this tubular film and results in inflation of the diameter of the tubular film to a diameter Dg. Aids, such as air rings, can also be arranged to direct the air along the outside of the extruded tubular film to achieve different cooling rates. Tools, such as a crown, can be used to locate the interior of the tube 8004988

1U1U

vormige film te koelen. Na enige afstand, waarover de film volledig kan afkoelen en harden, wordt deze opgewikkeld op een opnamewals.shaped film to cool. After some distance, over which the film can cool and cure completely, it is wound on a take-up roller.

Bij gebruik van de blaasfilmmethode, is de aftrekverhouding bij voorkeur 5:1 tot 100 j1, de spleetopening 5 0,25-5,08 mm, bij voorkeur 1,02-0,25 mm, de Dg/D^ verhotiding b.v. 1,0-14,0 en bij voorkeur 1,0-2,5 en de opnamesnelheid b.v.When using the blown film method, the draw-off ratio is preferably 5: 1 to 100 µl, the gap 5 0.25-5.08 mm, preferably 1.02-0.25 mm, the Dg / D ^ elevation e.g. 1.0-14.0 and preferably 1.0-2.5 and the recording rate e.g.

9-210 m/min. De smelttemperatuur kan liggen in de hierboven vermelde trajekten voor spleetmatrijsextruderen.9-210 m / min. The melting temperature may be in the above slit die extrusion ranges.

De geextrudeerde film kan dan eerst worden onder-10 worpen aan een warmtebehandeling of worden ontlaten teneinde de kristalstruktuur te verbeteren, b.v. door het verhogen van de grootte van de kristallieten en verwijderen van onvolmaaktheden daarin. In het algemeen wordt dit ontlaten uitgevoerd bij een temperatuur in het trajekt van 5-100°C beneden het smeltpunt van het polymeer gedurende enkele seconden tot verscheidene uren, b.v. 5 sec. tot 2k uur, en bij voorkeur 30 sec. tot 2 uur.The extruded film can then first be heat-treated or annealed to improve the crystal structure, e.g. by increasing the size of the crystallites and removing imperfections therein. Generally, this annealing is performed at a temperature in the range of 5-100 ° C below the melting point of the polymer for a few seconds to several hours, e.g. 5 sec. up to 2k hours, and preferably 30 sec. up to 2 hours.

De polypropyleen bedraagt de voorkeursontlaattemperatuur 100-155°C.The polypropylene is the preferred annealing temperature 100-155 ° C.

Een bij wijze van voorbeeld dienende methode voor het uitvoeren van het ontlaten bestaat uit het plaatsen van 20 de geextrudeerde film in een gespannen of spanningsvrije toestand in een oven bij de gewenste temperatuur, in welk geval de verblijftijd bij voorkeur ligt in het trajekt van 30 sec. tot 1 uur.An exemplary method of annealing involves placing the extruded film in a tensed or stress-free state in an oven at the desired temperature, in which case the residence time is preferably in the range of 30 seconds . up to 1 hour.

In de voorkeursuitvoeringsvormen wordt de 25 verkregen gedeeltelijk kristallijne voorloperfilm bij voorkeur onderworpen aan êên van de twee alternatieve methoden als hierboven beschreven voor het verkrijgen van een normaal hydrofobe microporeuze film, die gebruikt kan worden overeenkomstig de uitvinding.In the preferred embodiments, the partially crystalline precursor film obtained is preferably subjected to one of the two alternative methods as described above to obtain a normally hydrophobic microporous film which can be used in accordance with the invention.

30 De eerste voorkeursmethode wordt beschreven in Amerikaans octrooischrift 3.801ΛθΗ, die hierin wordt aangeduid als de "droge strek" methode en berust op de volgende trappen: (1) koud strekken, d.v.z. koud trekken van de elastische film tot poreuze gebieden in het oppervlak worden gevormd die 35 normaal of loodrecht op de strekrichting zijn uitgerekt, worden 80 0 4 98 8 15 gevormd, (2) smeltstrekken, d.w.z. smelttrekken van de koude gestrekte film tot fibrillen en poriën of open cellen, die evenwijdig met de strekrichting zijn uitgerekt, worden gevormd, en daarna (3) verhitten of smeltharden van de verkregen poreuze 5 film onder spanning, d.w.z, hij vrijwel constante lengte, om stabiliteit aan de film te verlenen.The first preferred method is described in U.S. Patent 3,801ΛθΗ, which is referred to herein as the "dry stretch" method and involves the following steps: (1) cold stretch, i.e. cold drawing the elastic film to form porous areas in the surface that are stretched normally or perpendicular to the stretching direction, 80 0 4 98 8 15 are formed, (2) melt drawing, ie melt drawing the cold stretched film into fibrils and pores or open cells which are stretched parallel to the stretching direction are formed, and then (3) heat or melt cure the resulting porous film under tension, ie, its substantially constant length, to impart stability to the film.

De uitdrukking " koud strekken" als hierin gebruikt betekent strekken of trekken van een film tot meer dan zijn oorspronkelijke lengte bij een strektemperatuur, d.w.z.The term "cold stretching" as used herein means stretching or drawing a film beyond its original length at a stretching temperature, i.e.

10 een temperatuur van de film die gestrekt wordt, die lager ligt dan de temperatuur waarbij smelten begint, wanneer de film gelijkmatig verhit wordt van een temperatuur van 25°C en met een snelheid van 20°C/min. De uitdrukking "smeltstrekken" als hierin gebruikt heeft betrekking op strekken boven de temperatuur 15 waarbij het smelten begint wanneer de film gelijkmatig verhit wordt van een temperatuur van 25°C en met een snelheid van 20°C/ min., maar beneden het normale smeltpunt van het polymeer, d.w.z. beneden temperatuur waarbij smelten optreedt. Zoals de vakman bekend, kunnen de temperatuur waarbij smelten begint en de smelt-20 temperatuur worden bepaald met een standaard differentieelwarmte-analysator (DTA) of met een ander bekend apparaat, dat warmte-overgangen van een polymeer kan meten.10 a temperature of the film being stretched is lower than the melting temperature when the film is heated uniformly from a temperature of 25 ° C and at a rate of 20 ° C / min. The term "melt drawing" as used herein refers to stretching above the temperature at which melting begins when the film is heated uniformly from a temperature of 25 ° C and at a rate of 20 ° C / min, but below the normal melting point of the polymer, ie below melting temperature. As known to those skilled in the art, the temperature at which melting begins and the melting temperature can be determined with a standard differential heat analyzer (DTA) or other known device that can measure heat transitions of a polymer.

De temperatuur waarbij het smelten begint varieert afhankelijk van de aard van het polymeer, de mol.gew.verdeling 25 van het polymeer en de kristallijne morfologie van de film.The temperature at which melting begins varies depending on the nature of the polymer, the molecular weight distribution of the polymer, and the crystalline morphology of the film.

POiypropyleen elastische film kan b.v. koud gestrekt worden bij een temperatuur beneden 120°C, bij voorkeur bij 10-70°C en geschikt bij kamertemperatuur, b.v. 25°C. De koud gestrekte polypropyleenfilm kan dan heet gestrekt worden bij een temperatuur 30 van 120°C en beneden de smelttemperatuur en bij voorkeur bij een temperatuur van 130-150°C. De temperatuur van de film zelf, die gestrekt wordt, wordt hierin weer aangeduid als de strektemperatuur. Het strekken in deze twee trappen moet opeenvolgend zijn, in dezelfde richting en in die volgorde, d.w.z. koud en dan 35 warm, maar kan worden uitgevoerd met een continu, semicontinu of 8004988 16 discontinu proces, zolang maar de koud gestrekte film niet de gelegenheid krijgt te krimpen in enige aanmerkelijke mate, d.w.z. minder dan 5 % van zijn koud gestrekte lengte, alvorens hij warm gestrekt wordt.Polypropylene elastic film can e.g. cold stretched at a temperature below 120 ° C, preferably at 10-70 ° C and suitably at room temperature, e.g. 25 ° C. The cold-stretched polypropylene film can then be hot-stretched at a temperature of 120 ° C and below the melting temperature, and preferably at a temperature of 130-150 ° C. The temperature of the film itself being stretched is referred to herein as the stretching temperature. The stretching in these two stages should be consecutive, in the same direction and in that order, ie cold and then warm, but can be done in a continuous, semi-continuous or 8004988 16 discontinuous process, as long as the cold stretched film is not allowed to shrink to any significant degree, ie less than 5% of its cold stretched length before being stretched hot.

5 De totale hoeveelheid strek in de bovengenoemde twee trappen kan liggen in het trajekt van 10-300 % en bij voorkeur bedraagt deze 50-150 %, betrokken op de oorspronkelijke lengte van de elastische film. Verder kan de verhouding van de hoeveelheid smeltstrekken tot de totale hoeveelheid strekken of IQ trekken meer dan 0,10:1 bedragen tot minder dan 0,99:1, bij voorkeur 0,50:1 tot 0,97:1 en liefst 0,50:1-0,95:1. Dit verband tussen het "koude"en "warme" strekken wordt hierin aangeduid als de "rekverhouding (percentage "warme" rek ten opzichte van het percentage "totale" rek).The total amount of stretch in the above two stages can be in the range of 10-300%, and preferably it is 50-150%, based on the original length of the elastic film. Furthermore, the ratio of the amount of melt drawing to the total amount of drawing or IQ drawing can be from more than 0.10: 1 to less than 0.99: 1, preferably 0.50: 1 to 0.97: 1, and most preferably 0. 50: 1-0.95: 1. This relationship between the "cold" and "warm" stretch is referred to herein as the "stretch ratio (percent" warm "stretch to percent" total "stretch).

15 Bij iedere strekbewerking waarbij warmte moet worden toegevoerd, kan de film worden verwarmd met bewegende walsen, die op hun beurt verwarmd kunnen zijn met een elektrische weerstandsmethode, door te lopen over een verwarmde plaat, door een verwarmde vloeistof, een verwarmd gas of dergelijke.In any stretching operation where heat is to be supplied, the film can be heated with moving rollers, which in turn can be heated by an electrical resistance method, by passing over a heated plate, through a heated liquid, a heated gas or the like.

2o Na de hierboven beschreven tweetrapsstrekking wordt de gestrekte film onderworpen aan smeltbarden. Deze warmtebehandeling kan worden uitgevoerd bij een temperatuur in het trajekt van 125°C tot minder dan de smelttemperatuur en bij voorkeur 130-160°C voor polypropyleen; van 75°C tot minder dan 25 de smelttemperatuur^bij voorkeur 115—130°C voor polyethyleen en bij een dergelijk temperatuurtrajekt voor andere bovengenoemde polymeren. Deze warmtebehandeling dient te worden uitgevoerd terwijl de film onder spanning wordt gehouden, d.w.z. zodanig, dat de film niet vrij is om te krimpen of alleen maar kan krimpen 2Q tot een instelbare mate, die niet meer dan 15 % van de gestrekte lengte bedraagt, maar een spanning die niet zo groot is dat de film meer dan een aanvullende 15 % wordt gestrekt. Bij voorkeur is de spanning zodanig, dat vrijwel geen krimp of strek plaats vindt, b.v. minder dan 5 % verandering in de gestrekte lengte.2o After the two-stage stretching described above, the stretched film is subjected to melt-bonding. This heat treatment can be carried out at a temperature in the range of from 125 ° C to less than the melting temperature and preferably 130-160 ° C for polypropylene; from 75 ° C to less than 25, the melting temperature, preferably 115-130 ° C for polyethylene, and at such a temperature range for other above-mentioned polymers. This heat treatment should be carried out while the film is kept under tension, ie, such that the film is not free to shrink or can only shrink 2Q to an adjustable amount not exceeding 15% of the stretched length, but a tension not so great that the film is stretched more than an additional 15%. Preferably, the tension is such that virtually no shrinkage or stretching takes place, e.g. less than 5% change in the stretched length.

25 De duur van de warmtebehandeling, die bij voor- 800 4 98 8 17 keur opvolgend met en na de trekbeverking wordt uitgevoerd, dient niet langer te duren dan 0,1 sec. bij de hogere ontlaat-temperaturen en kan in het algemeen liggen in het trajekt van 5 sec. tot 1 uur en bij voorkeur 1-30 min.The duration of the heat treatment, which is preferably carried out successively with and after the tensile strengthening, should not exceed 0.1 sec. at the higher tempering temperatures and can generally be in the range of 5 sec. up to 1 hour and preferably 1-30 min.

5 De hierboven beschreven hardingstrappen kunnen geschieden aan de lucht of in een ander milieu, zoals stikstof, helium of argon.The curing steps described above can be in the air or in another environment, such as nitrogen, helium or argon.

Een tweede andere methode die de voorkeur geniet voor het omzetten van de voorloperfilm en microporeuze film 10 zoals beschreven in Amerikaans octrooischrift 3.839.516, en hierin aangeduid als de Moplosmiddelstrek" methode bestaat uit de basistrappen van (1) het in aanraking brengen van de voorloperfilm met tenminste 2 bestanddelen (b.v. een amorfe bestanddeel en een kristallijn bestanddeel) van de één een geringe 15 volume heeft dan alle andere bestanddelen, met een zvelmiddel gedurende voldoende tijd om adsorptie van het zwelmiddel in de film mogelijk te maken; (2) strekken van de film in tenminste één richting terwijl deze in aanraking is met het zwelmiddel en (3) het handhaven van de film in zijn gestrekte toestand tijdens 20 verwijdering van het zvelmiddel. Desgewenst kan de film worden gestabiliseerd door smeltharden onder spanning of met ioniserende straling.A second other preferred method of converting the precursor film and microporous film 10 as described in U.S. Patent 3,839,516, and herein referred to as the Mopolvent Stretch "method, consists of the basic steps of (1) contacting the precursor film having at least 2 components (eg an amorphous component and a crystalline component) of one has a small volume than all other components, with a leveling agent for sufficient time to allow adsorption of the swelling agent in the film; (2) stretching of the film in at least one direction while in contact with the swelling agent and (3) maintaining the film in its stretched state during removal of the softening agent If desired, the film can be stabilized by heat-melting or ionizing radiation.

In het algemeen zal een oplosmiddel met een Hildebrand oplosbaarheidsparameter op of nabij die van het 25 polymeer een oplosbaarheid bezitten die geschikt is voor het hierin beschreven trekproces. De Hildebrand oplosbaarheidparameter meet de cohesieenergiedichtheid. Zo berust het ten grondslag liggende principe op het feit dat een oplosmiddel met een overeenkomstige cohesie energiedichtheid als een polymeer een hoge 30 affiniteit zou bezitten voor dat polymeer en geschikt zou zijn voor dit proces.Generally, a solvent with a Hildebrand solubility parameter at or near that of the polymer will have a solubility suitable for the drawing process described herein. The Hildebrand solubility parameter measures the cohesion energy density. Thus, the underlying principle is based on the fact that a solvent with a corresponding cohesion energy density as a polymer would have a high affinity for that polymer and would be suitable for this process.

Algemene klassen van zwelmiddelen waaruit men een geschikte voor de bepaalde polymeerfilm kan kiezen zijn korte keten alifatische ketonen, zoals aceton, methylethylketon, eyolohexanon; korte keten alifatische zure esters, zoals ethyl- 800 4 98 8 18 formiaat, butylacetaat; gehalogeneerde koolwaterstoffen, zoals tetrachloorkoolstof, trichloorethyleen, perchloorethyleen en chloorbenzeen; koolwaterstoffen, zoals heptaan, cyclohexaan, henzeen, xyleen, tetraline endecalien; stikstof bevattende 5 organische verbindingen, zoals pyridine, formamide en dimethyl-formamide; ethers, zoals methylether, ethylether en dioxan.General classes of swelling agents from which one can choose a suitable one for the particular polymer film are short chain aliphatic ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, eyolohexanone; short chain aliphatic acid esters, such as ethyl 800 4 98 8 18 formate, butyl acetate; halogenated hydrocarbons, such as carbon tetrachloride, trichlorethylene, perchlorethylene and chlorobenzene; hydrocarbons, such as heptane, cyclohexane, henzene, xylene, tetralin and decalien; nitrogen containing organic compounds such as pyridine, formamide and dimethylformamide; ethers, such as methyl ether, ethyl ether and dioxane.

Een mengsel van twee of meer van deze organische oplosmiddelen kan ook worden gebruikt.A mixture of two or more of these organic solvents can also be used.

Het verdient de voorkeur, dat de zwelmiddelen een 10 verbinding zijn die bestaat uit koolstof, waterstof, zuurstof, stikstof, halogeen, zwavel en ten hoogste 20 koolstofatomen, bij voorkeur ten hoogste 10 koolstof atomen bevatten.It is preferred that the swelling agents be a compound consisting of carbon, hydrogen, oxygen, nitrogen, halogen, sulfur and contain up to 20 carbon atoms, preferably up to 10 carbon atoms.

De "oplosmiddelstrek" trap kan worden uitgevoerd bij een temperatuur in het trajekt van boven het vriespunt van 15 het oplosmiddel of zwelmiddel, tot het punt beneden de temperatuur waarbij het polymeer oplost (d.w.z. kamertemperatuur tot 50°C).The "solvent stretch" step can be performed at a temperature in the range from above the freezing point of the solvent or swelling agent, to the point below the temperature at which the polymer dissolves (i.e., room temperature to 50 ° C).

De gebruikte voorloperfilm in het "oplosmiddelstrek" proces kan een dikte hebben in het trajekt van 0,0025-0,5 mm of meer.The precursor film used in the "solvent drawing" process may have a thickness in the range of 0.0025-0.5 mm or more.

20 In een voorkeursuitvoeringsvorm wordt de voorloper film biaxiaal gestrekt overeenkomstig de methode als beschreven in Amerikaans octrooiaanvrage Ser. no. 801, ingediend in 1 juni 1979. In dat proces worden voorkeursstrekomstandigheden vermeld in een uniaxiale richting, die leiden tot een verbeterde 25 doorlaatbaarheid van de uniaxiale gestrekte microporeuze film.In a preferred embodiment, the precursor film is biaxially stretched according to the method described in US patent application Ser. No. 801, filed June 1, 1979. In that process, preferred stretching conditions are reported in a uniaxial direction, which lead to improved permeability of the uniaxial stretched microporous film.

De biaxiaal gestrekte microporeuze film kan dan in een dwars-richting worden gestrekt om de doorlaatbaarheid nog verder te verbeteren. Het verdient derhalve de voorkeur dat de voorloperfilm "oplosmiddel gestrekt" wordt in een uniaxiale richting 30 over niet meer dan 350 % en liefst 300 % meer dan zijn oorspronkelijke lengte. Karakteristiek wordt aanvullend strekken in dezelfde richting na verwijdering van het oplosmiddel niet gebruikt.The biaxially stretched microporous film can then be stretched in a transverse direction to further improve permeability. It is therefore preferable that the precursor film be "solvent stretched" in a uniaxial direction 30 by no more than 350% and most preferably 300% more than its original length. Typically, additional stretching in the same direction after solvent removal is not used.

De desgewenste stabilisatietrap kan ofwel een smelthardingstrap of een verknopingstrap zijn. Deze warmte-35 behandeling kan worden uitgevoerd bij een temperatuur in het 800 4 98 8 19 trajekt van 125°C tot minder dan de smelttemperatuur en bij voorkeur 130-150°C voor polypropyleen; van 75°C tot minder dan de smelttemperatuur en bij voorkeur 115-130°C voor polyethyleen en bij een dergelijk temperatuurtrajekt voor andere bovengenoemde 5 polymeren. Deze warmtebehandeling dient te worden uitgevoerd terwijl de film onder spanning wordt gehouden, d.w.z. zodanig dat de film niet vrij is om te krimpen of slechts over een beperkte mate van niet meer dan 15 % van zijn gestrekte lengte kan krimpen, maar niet zo'n grote spanning dat de film meer 10 gestrekt wordt dan een aanvullende 15 %· Bij voorkeur is de spanning zodanig, dat vrijwel geen krimpen of strekken plaats vindt, b.v. minder dan 5 % verandering van de gestrekte lengte.The desired stabilization step can be either a melt curing step or a cross-linking step. This heat treatment can be carried out at a temperature in the range from 125 ° C to less than the melting temperature and preferably 130-150 ° C for polypropylene; from 75 ° C to less than the melting temperature and preferably 115-130 ° C for polyethylene and at such a temperature range for other above-mentioned polymers. This heat treatment should be carried out while the film is kept under tension, ie such that the film is not free to shrink or can shrink only by a limited amount of no more than 15% of its stretched length, but not so great tension that the film is stretched more than an additional 15%. Preferably the tension is such that practically no shrinking or stretching takes place, eg less than 5% change in the stretched length.

De tijdsduur van de warmtebehandeling, die bij voorkeur wordt uitgevoerd opvolgend met en na de '’oplosmiddel 15 strek” bewerking, dient niet langer te bedragen dan 0,1 sec.The time of the heat treatment, which is preferably performed subsequent to and after the "solvent stretch" operation, should not exceed 0.1 sec.

bij de hogere ontlaattemperaturen en ligt in het algemeen in het trajekt van 5 sec. tot 1 uur en bij voorkeur 1-30 min.at the higher annealing temperatures and is generally in the range of 5 sec. up to 1 hour and preferably 1-30 min.

De boven beschreven hardingstrappen kunnen plaats vinden in de lucht of in een ander milieu, zoals stikstof, helium 20 of argon.The above-described curing steps can take place in the air or in another environment, such as nitrogen, helium or argon.

Wanneercb voorloperfilm biaxiaal gestrekt is, dient de stabiliseringstrap te worden uitgevoerd na dwarsstrekken en niet daarvoor.When the precursor film is biaxially stretched, the stabilization step should be performed after cross-stretching and not before.

Ofschoon de beschrijving en de voorbeelden 25 in de eerste plaats gericht zijn op de bovengenoemde alkeen- polymeren, heeft de uitvinding ook betrekking op hoog mol.gew. acetal, b.v. oxymethyleen, polymeren. Ofschoon zowel acetal homopolymeren als copolymeren worden beoogd, is het voorkeurs-acetalpolymeer voor doeleinden van polymeerstabiliteit een 30 "willekeurig" oxymetbyleencopolymeer, dat herhalende oxymethyleen- groepen, d.w.z. -CH^ - 0-, bevat, onderbroken door - 0R - groepen in de hoofdpolymeerketen, waarin R een tweewaardige groep is die tenminste twee koolstofatomen rechtstreeks aan elkaar verbonden bevat en die in de keten tussen de twee valenties 35 gelegen zijn, waarbij eventuele substituenten aan deze R-groep 80 0 4 98 8 20 inert zijn, d.w.z. substituenten die geen storende funktionele groepen bevatten en die geen ongewenste reakties veroorzaken en waarbij een overwegende hoeveelheid van de OR-eenheden voorkomt als enkelvoudige eenheden die aan weerszijden aan oxymethy-5 leengroepen gebonden zijn. Voorbeelden van voorkeurspolymeren zijn copolymeren van trioxan en cyclische ethers die tenminste twee naburige koolstofatomen bevatten, zoals de copolymeren beschreven in Amerikaans octrooischrift 3.027.352. Deze polymeren in filmvorm kunnen ook een kristalliniteit van tenminste 20 %s 10 bij voorkeur tenminste 30 % en liefst tenminste 50 %, b.v. 50-60 % of hoger bezitten. Bovendien bezitten deze polymeren een smeltpunt van tenminste 150°C en een nummeriek gemiddeld mol.gew. van tenminste 10.000. Voor een meer in bijzonderheden gaande bespreking van acetal en oxymethyleenpolymeren zie formaldehyde, Walter, 15 blz. 175-191 (Reinhold 196U).While the description and examples are primarily directed to the above olefin polymers, the invention also relates to high molecular weight. acetal, e.g. oxymethylene, polymers. Although both acetal homopolymers and copolymers are contemplated, the preferred acetal polymer for polymer stability purposes is a "random" oxymetbylene copolymer containing repeating oxymethylene groups, ie -CH 2 -O-, interrupted by - 0R - groups in the main polymer chain wherein R is a divalent group containing at least two carbon atoms directly bonded to each other and located in the chain between the two valences 35, any substituents on this R group being 80 0 4 98 8 20 inert, ie substituents which are not contain interfering functional groups which do not cause undesired reactions and wherein a majority of the OR units exist as single units bound on both sides to oxymethylene groups. Examples of preferred polymers are copolymers of trioxane and cyclic ethers containing at least two adjacent carbon atoms, such as the copolymers described in U.S. Patent 3,027,352. These film-form polymers may also have a crystallinity of at least 20%, preferably at least 30%, and most preferably at least 50%, e.g. Own 50-60% or higher. In addition, these polymers have a melting point of at least 150 ° C and a numerical average molecular weight. of at least 10,000. For a more detailed discussion of acetal and oxymethylene polymers see formaldehyde, Walter, 15 pp. 175-191 (Reinhold 196U).

Andere relatief kristallijne polymeren waarop de uitvinding kan worden toegepast zijn de polyalkyleensulfiden, zoals polymethyleensulfide en polyethyleensulfide, de poly-aryleenoxyden, zoals polyfenyleenoxyde, de polyamiden, zoals 20 polyhexamethyleenadipamide (nylon 66) en polycaprolactam (nylon 6) die allen bekend zijn uit de stand van de techniek en kortheidshalve hier niet nader behoeven te worden beschreven.Other relatively crystalline polymers to which the invention can be applied are the polyalkylene sulfides, such as polymethylene sulfide and polyethylene sulfide, the polyarylene oxides, such as polyphenylene oxide, the polyamides, such as polyhexamethylene adipamide (nylon 66) and polycaprolactam (nylon 6), all of which are known from the prior art of the technique and, for brevity's sake, need not be further described here.

De normaal hydrofobe microporeuze films die gebruikt worden bij de uitvinding bezitten in een ongespannen 25 toestand een verlaagde stortdichtheid in vergelijking met de dichtheid van overeenkomstig polymere materialen die geen opencellige struktuur bezitten, b.v. de materialen waaruit ze gevormd zijn. Zo bezitten de films een stortdichtheid van niet meer dan 95 % en bij voorkeur 20-1*0 ! van de voorloperfilm.The normally hydrophobic microporous films used in the invention have a reduced bulk density in an unstressed state compared to the density of corresponding polymeric materials having no open-cell structure, e.g. the materials from which they are formed. Thus, the films have a bulk density of not more than 95% and preferably 20-1 * 0! of the precursor film.

30 Anders gezegd wordt de stortdichtheid met tenminste 5 % en bij voorkeur 60-80 % verlaagd. Voor polyethyleen bedraagt de vermindering 30-80 %, bij voorkeur 60-80 %. Wanneer de stortdichtheid 20-1*0 % van het uitgangsmateriaal bedraagt, is de porositeit met 60-80 % gestegen door de poriën of gaatjes.In other words, the bulk density is reduced by at least 5% and preferably 60-80%. For polyethylene, the reduction is 30-80%, preferably 60-80%. When the bulk density is 20-1 * 0% of the starting material, the porosity is increased by 60-80% through the pores or holes.

35 Wanneer de microporeuze film bereid wordt volgens 80 0 4 98 8 21 de "droge strek" of "oplosmiddelstrek" methode, bedraagt de uiteindelijke kristalliniteit van de microporeuze film bij voorkeur tenminste 30 $5, liever tenminste 65 % en het geschiktst 70-85 %, zoals bepaald met de rontgenstraalmethode als beschreven 5 door R.G. Quynn c.s. in J. Appl. Polymer Science, vol. 2, no. 5, blz. 166-173. Voor een bespreking in nadere bijzonderheden van de kristalliniteit en de betekenis daarvan in polymeren zie Polymers and Resins, Golding (S. Van Nostrand, 1959).When the microporous film is prepared by the "dry stretch" or "solvent stretch" method, the final crystallinity of the microporous film is preferably at least $ 30, more preferably at least 65%, and most suitably 70-85% as determined by the X-ray method described by RG Quynn et al. In J. Appl. Polymer Science, vol. 2, No. 5, pp. 166-173. For a more detailed discussion of crystallinity and its significance in polymers, see Polymers and Resins, Golding (S. Van Nostrand, 1959).

De microporeuze films die gebruikt kunnen worden 10 bij de uitvinding kunnen ook een gemiddelde poriegrootte bezitten van 20-10.000 5, karakteristiek 1*00-5000 S, en het meest karakteristiek 500-5000 S. Deze waarden kunnen worden bepaald met de kwikporosimetrie, zoals beschreven in een artikel van R.G. Quynn c.s., blz. 21-3¾ in Textile Research Journal, 15 januari 1963, of met gebruikmaking van elektronenmicroscopie, zoals beschreven in Geil's Polymer Single Crystals, blz. 69 (Interscience 1963). Wanneer een elektronen micrograaf wordt gebruikt kunnenporielengte en breedtemetingen worden verkregen door eenvoudig een lineaal te gebruiken om de lengte en breedte 20 van de poriën op een elektronenmicrograaf rechtstreeks te meten waarbij gewoonlijk een vergroting wordt gebruikt van 5000-10 000. In het algemeen zijn de porielengtewaarden die verkregen kunnen worden met elektronenmicroscopie ongeveer gelijk aan de poriegroottewaarden die verkregen worden met 25 kwikporosimetrie.The microporous films that can be used in the invention may also have an average pore size of 20-10,000, typically 1 * 00-5000 S, and most typically 500-5000 S. These values can be determined by mercury porosimetry, such as described in an article by RG Quynn et al., Pp. 21-3¾ in Textile Research Journal, January 15, 1963, or using electron microscopy, as described in Geil's Polymer Single Crystals, p. 69 (Interscience 1963). When using an electron micrograph, pore length and width measurements can be obtained by simply using a ruler to directly measure the length and width of the pores on an electron micrograph, usually using an enlargement of 5000-10000. In general, the pore length values are which can be obtained by electron microscopy approximately equal to the pore size values obtained by mercury porosimetry.

De microporeuze films die gebruikt worden bij de uitvinding bezitten een oppervlak binnen bepaalde voorspelbare grenzen wanneer ze bereid zijn volgens ofwel de "oplosmiddel-strek" methode of de "droge strek" methode. Karakteristiek 30 blijken dergelijke microporeuze films een oppervlak te bezitten van tenminste 10 m /g en bij voorkeur in het trajekt van 15-25 m /g. Voor uit polyethyleen gevormde films ligt het oppervlak in het algemeen in het trajekt van 10-25 m2/g en bij voorkeur 20 m2/g.The microporous films used in the invention have a surface within certain predictable limits when prepared by either the "solvent stretch" method or the "dry stretch" method. Typically, such microporous films have been found to have a surface of at least 10 m / g and preferably in the range of 15-25 m / g. For films formed from polyethylene, the surface is generally in the range of 10-25 m2 / g and preferably 20 m2 / g.

35 Het oppervlak kan worden bepaald uit stikstof 8004988 22 of kryptongas adsorptie isothermen met gebruikmaking van een methode en apparatuur als beschreven in Amerikaans octrooischrift 3.262.319. Het met deze methode verkregen oppervlak wordt gevoonlijk uitgedrukt als in m /g.The area can be determined from nitrogen 8004988 22 or cryptone gas adsorption isotherms using a method and equipment as described in U.S. Patent 3,262,319. The surface area obtained by this method is usually expressed as in m / g.

5 Teneinde een vergelijking van verschillende materialen te vergemakkelijken, kan deze vaarde worden vermenig-5 To facilitate comparison of different materials, this value can be multiplied

OO

vuldigd met de stortdichtheid van het materiaal in g/cm , hetgeen 2 3 leidt tot een oppervlak, uitgedrukt in m /cm .filled with the bulk density of the material in g / cm, which leads to a surface area, expressed in m / cm.

De normaal hydrofobe microporeuze polymeerfilms 10 volgens de uitvinding, die hydrofiel worden gemaakt, bezitten bij voorkeur een dikte van 0,025-0,203 mm.The normally hydrophobic microporous polymer films 10 of the invention, which are rendered hydrophilic, preferably have a thickness of 0.025-0.203 mm.

De normaal hydrofobe microporeuze film, bereid overeenkomstig de hierboven beschreven methoden, wordt bevochtigbaar en/of hydrofiel door het oppervlak van de micro-15 poriën van de microporeuze film te bekleden met een hydrofiel monomeer of een mengsel daarvan en vervolgens de beklede microporeuze film bloot te stellen aan ioniserende straling.The normally hydrophobic microporous film, prepared according to the methods described above, becomes wettable and / or hydrophilic by coating the surface of the micro-pores of the microporous film with a hydrophilic monomer or a mixture thereof and then exposing the coated microporous film ionizing radiation.

De ioniserende straling hecht het hydrofiele monomeer chemisch aan het microporiënoppervlak en maakt dit betrekkelijk blijvend 20 hydrofiel. De aangehechte hoeveelheid hydrofiel monomeer die chemisch wordt vastgezet wordt binnen zekere grenzen ingesteld om verstoppen van de poriën te voorkomen terwjjl tegelijkertijd de totale porositeit van de hydrofiele film kan worden geregeld. Het regelen van de porositeit maakt het op zijn beurt mogelijk 25 om de waterdoorlaatbaarheid en elektrische weerstand van de film te regelen.The ionizing radiation chemically bonds the hydrophilic monomer to the micropore surface and makes it relatively permanently hydrophilic. The attached amount of hydrophilic monomer which is chemically fixed is set within certain limits to prevent pore clogging while simultaneously controlling the total porosity of the hydrophilic film. The control of the porosity in turn makes it possible to control the water permeability and electrical resistance of the film.

Zoals hierin gebruikt wordt de uitdrukking "hydrofoob” gebruikt in de zin van een oppervlak dat minder dan 0,010 ml water/min/cm vlakke filmoppervlak doorlaat onder een o 30 waterdruk van 7 kg/cm . Dienovereenkomstig heeft de uitdrukking "hydrofiel" betrekking op oppervlakken, die meer dan 0,01 ml water/min./cm bij deze druk doorlaten.As used herein, the term "hydrophobic" is used in the sense of a surface that allows less than 0.010 ml of water / min / cm of flat film surface to pass under a water pressure of 7 kg / cm. Accordingly, the term "hydrophilic" refers to surfaces , which pass more than 0.01 ml of water / min / cm at this pressure.

De hydrofiele monomeren die gebruikt kunnen worden voor het bekleden van het porieoppervlak van de micro-35 poreuze film volgens de uitvinding zijn organische koolwaterstof- 800 4 98 8 23 verbindingen met 2-18 koolstofatomen, die tenminste één ethylenisch onverzadigde binding bevatten de monomeren poly-meriseerbaar en/of copolymeriseerbaar maakt onder invloed van ioniserende straling bij een temperatuur die geen nadelige 5 invloed heeft op de microporeuze film, en tenminste êên polaire funktionele groep, zoals een carboxy, sulfo, sulfino, hydroxy, ammonio» amino of fosfonogroep.The hydrophilic monomers that can be used to coat the pore surface of the micro-porous film of the invention are organic hydrocarbon compounds of 2-18 carbon atoms, containing at least one ethylenically unsaturated bond, the monomers poly- merisible and / or copolymerizable under the influence of ionizing radiation at a temperature which does not adversely affect the microporous film, and at least one polar functional group, such as a carboxy, sulfo, sulfino, hydroxy, ammonia or phosphono group.

Dienovereenkomstig behoren tot de hydrofiele monomeren volgens de uitvinding koolwaterstofverbindingen met 10 2-18 koolstofatomen met êên of meer polymeriseerbare en/of copolymeriseerbare ethylenisch onverzadigde bindingen, zoals gesubstitueerde en ongesubstitueerde carbon of dicarbonzuren en esters daarvan; vinyl en allyl monomeren, in het bijzonder itaconzuur, malonzuur, fumaarzuur en crotonzuur, alsmede 15 esters en zuuranhydriden daarvan, ongesubstitueerde of alkyl gesubstitueerde acrylzuren, zoals acrylzuur en methacrylzuur, acroleïne of acrylonitrile; ongesubstitueerde of alkyl gesubstitueerde alkyl, cycloalkyl, aryl, hydroxyalkyl of hydroxyaryl-acrylaten, alkyl gesubstitueerde di alkylaminoalkylacrylaten, 20 epoxyalkylacrylaten; vinylsulfonzuur en styreensulfonzuur; vinylesters zoals vinylacetaat en hogere carbonzure vinylesters, alkyl gesubstitueerde vinylesters van carbonzuren die sulfo-groepen bevatten; vinylethers, zoals ongesubstitueerde of gesubstitueerde alkyl, cycloalkyl of arylvinylethers; vinyl ge-25 substitueerde siliconen; vinyl gesubstitueerde aromatisch of heterocyclische koolwaterstoffen; diallylfumaraten; diallyl-maleaten; alkyl gesubstitueerde fosfaten, fosfieten of carbo-naten; vinylsulfonen,; het reaktieprodukt van geethoxyleerd nonylfenol en acrylzuur en dergelijke.Accordingly, the hydrophilic monomers of the invention include hydrocarbon compounds having from 2 to 18 carbon atoms with one or more polymerizable and / or copolymerizable ethylenically unsaturated bonds, such as substituted and unsubstituted carbon or dicarboxylic acids and esters thereof; vinyl and allyl monomers, especially itaconic acid, malonic acid, fumaric acid and crotonic acid, as well as esters and anhydrides thereof, unsubstituted or alkyl substituted acrylic acids, such as acrylic acid and methacrylic acid, acrolein or acrylonitrile; unsubstituted or alkyl substituted alkyl, cycloalkyl, aryl, hydroxyalkyl or hydroxyaryl acrylates, alkyl substituted dialkylaminoalkyl acrylates, epoxyalkyl acrylates; vinyl sulfonic acid and styrene sulfonic acid; vinyl esters such as vinyl acetate and higher carboxylic acid vinyl esters, alkyl substituted vinyl esters of carboxylic acids containing sulfo groups; vinyl ethers, such as unsubstituted or substituted alkyl, cycloalkyl or aryl vinyl ethers; vinyl substituted silicone; vinyl substituted aromatic or heterocyclic hydrocarbons; diallyl fumarates; diallyl maleates; alkyl substituted phosphates, phosphites or carbonates; vinyl sulfones ,; the reaction product of ethoxylated nonylphenol and acrylic acid and the like.

30 Omdat beoogd wordt, dat het hydrofiele monomeer in het inwendige van de microporeuze film doordringt, verdient het de voorkeur om hydrofiele monomeren te gebruiken met 2-1U, liefst 2-k koolstofatomen.Since the hydrophilic monomer is contemplated to penetrate the interior of the microporous film, it is preferred to use hydrophilic monomers having 2-1U, most preferably 2-k carbon atoms.

De bij voorkeur bij de uitvinding gebruikte 35 hydrofiele monomeren zijn acrylzuur, methacrylzuur en vinylacetaat.The hydrophilic monomers preferably used in the invention are acrylic acid, methacrylic acid and vinyl acetate.

8004988 2k8004988 2k

De hoeveelheid hydrofiel monomeer, dat het inwendige oppervlak van de poriën van de microporeuze filqi "bekleedt, wordt ingesteld om de juiste aanhechtingsgraad te verkrijgen, die "bepaald wordt door de beoogde waterstroming of elektrische 5 weerstand die vereist worden voor het eindgebruik van de films.The amount of hydrophilic monomer that coats the inner surface of the pores of the microporous film "is adjusted to obtain the appropriate degree of adhesion" determined by the intended water flow or electrical resistance required for the end use of the films.

Zoals hierboven beschreven wordt een dergelijke regeling tot stand gebracht op een wijze die voldoende is om de opencellige aard van microporiën te handhaven, d.w.z. het verstoppen van de poriën te voorkomen, nadat de met monomeer geïmpregneerde 10 microporeuze film onderworpen is aan de stralingsbehandeling als hierin beschreven, zodanig dat de gewenste eigenschappen als hierboven besproken worden gehandhaafd gedurende een langere tijdsduur dan anders verkregen kan worden met gebruik van de karakteristieke oppervlak aktieve deklagen volgens de stand van -|cj de techniek. De specifieke hoeveelheid hydrofiel monomeer die chemisch op het oppervlak van de poriën wordt gebonden wordt uitgedrukt als percentage hechting, d.w.z. het gew.$ van de niet beklede microporeuze film, dat het gewicht weergeeft van de hydrofiele monomeerdeklaag die aanwezig is in de geharde 2Q microporeuze film.As described above, such control is accomplished in a manner sufficient to maintain the open-cell nature of micropores, ie, preventing clogging of the pores, after the monomer-impregnated microporous film has been subjected to the radiation treatment as described herein such that the desired properties as discussed above are maintained for a longer period of time than can otherwise be obtained using the prior art characteristic surfactant coatings. The specific amount of hydrophilic monomer that is chemically bonded to the surface of the pores is expressed as percent adhesion, ie the weight of the uncoated microporous film, which represents the weight of the hydrophilic monomer coating present in the cured 2Q microporous film .

Derhalve wordt, ter vermijding van het verstoppen van poriën van de hierin beschreven microporeuze film het percentage hechting van het hydrofiele monomeer, dat chemisch gebonden is aan het oppervlak van de microporiën,zodanig 25 regelt dat het niet meer dan 10 gew.% en in het algemeen 0,1-10 gew.$, bij voorkeur 0,5-2,5 gew.# en liefst 1-2,0 gev.% (b.v.Therefore, in order to avoid clogging pores of the microporous film described herein, the percent adhesion of the hydrophilic monomer, which is chemically bonded to the surface of the micropores, is controlled so that it does not exceed 10 wt% and in the generally 0.1-10 wt%, preferably 0.5-2.5 wt%, and most preferably 1-2.0 wt% (e.g.

1,5 gevr.%) bedraagt, betrokken op het gewicht van de onbeklede microporeuze film.1.5% by weight, based on the weight of the uncoated microporous film.

Het bepaalde percentage hechting dat gekozen 30 wordt, wordt bepaald door het eindgebruik waarvoor de verkregen hydrofiele microporeuze film wordt gebruikt en varieert binnen het brede trajekt van aanhechtingspercentages als hierboven beschreven.The determined percentage of adhesion selected is determined by the end use for which the obtained hydrophilic microporous film is used and varies within the wide range of adhesion percentages described above.

Wanneer b.v. de geënte hydrofiele microporeuze 35 film bestemd is om te worden gebruikt als een elektrische 800 4 98 8 25 batterijafscheider, wordt het percentage hechting gekozen op basis van de elektrische weerstand van de verkregen hydrofiele microporeuze film (in milliohm per 6,1+5 ca ), die een funktie is van het percentage hechting van het hydrofiele monomeer.When e.g. the grafted hydrophilic microporous film is intended to be used as an electric 800 4 98 8 25 battery separator, the percent adhesion is chosen based on the electrical resistance of the obtained hydrophilic microporous film (in milliohm per 6.1 + 5 ca) which is a function of the percent adhesion of the hydrophilic monomer.

5 ..Elektrische weerstand wordt hierin gedefinieerd als een maat voor het vermogen van de microporeuze film om elektronen te geleiden. Derhalve zal de microporeuze film als een batterijscheider minder doelmatig zijn naarmate in het algemeen de elektrische weerstand van de microporeuze film des te hoger 10 is.5. Electrical resistance is defined herein as a measure of the microporous film's ability to conduct electrons. Therefore, the microporous film as a battery separator will be less effective the generally higher the electrical resistance of the microporous film.

Zo wordt de elektrische weerstand van de microporeuze film bepaald bij verschillende hechtingspercentages van het hydrofiele monomeer en de elektrische weerstand wordt als funktie van het percentage hechting uitgezet. Het percentage 15 hechting wordt dan bepaald op basis van de gewenste elektrische weerstand.For example, the electrical resistance of the microporous film is determined at different adhesion percentages of the hydrophilic monomer and the electrical resistance is plotted as a function of the percent adhesion. The percentage of adhesion is then determined based on the desired electrical resistance.

De elektrische weerstand van de hydrofiele microporeuze film volgens de uitvinding als hieronder beschreven, wordt in het algemeen zodanig ingesteld, dat deze minder bedraagt 2 20 dan 30 milliohm per 6,1+5 cm , bij voorkeur minder dan 10 milli- 2 2 ohm per 6,1+5 cm en liefst minder dan 5 milliohm per 6,1+5 cm' .The electrical resistance of the hydrophilic microporous film according to the invention as described below is generally adjusted to be less than 20 milliohms per 6.1 + 5 cm, preferably less than 10 milli-2 ohms per 6.1 + 5 cm and preferably less than 5 milliohm per 6.1 + 5 cm.

Wanneer de geënte hydrofiele microporeuze film gebruikt moet worden als een filter, wordt het percentage hechting van de microporeuze film gekozen op basis van de 25 waterstromingssnelheid door de microporeuze film, zoals hieronder gedefinieerd.When the grafted hydrophilic microporous film is to be used as a filter, the percent adhesion of the microporous film is selected based on the water flow rate through the microporous film, as defined below.

Derhalve kan de waterstromingssnelheid worden uitgezet als een funktie van het percentage hechting van het hydrofiele monomeer en het geschikte percentage hechting wordt 30 gekozen op basis van de gewenste waterstromingssnelheid.Therefore, the water flow rate can be plotted as a function of the percentage adhesion of the hydrophilic monomer and the appropriate percentage adhesion is selected based on the desired water flow rate.

Wanneer de microporeuze film beoogd wordt te worden gebruikt voor filtratiedoeleinden, wordt de poriegrootte van de film zodanig gekozen dat deze werkt als een kering voor het materiaal dat moet worden afgescheiden en de waterstromings-35 snelheid wordt naar wens ingesteld binnen de grenzen van de 80 0 4 98 8 26 gekozen poriegrootte. Zo kan de vaterstromingssnelheid worden 3 2 ingesteld als meer dan 0,0,1 ca /min./cm , hij voorkeur meer 3 2 3.2 dan 0,05 cm /min./cm en liefst meer dan 0,5 cm /min.cm bij een drukverschil van ongeveer 1 atm.When the microporous film is intended to be used for filtration purposes, the pore size of the film is selected to act as a barrier for the material to be separated and the water flow rate is set as desired within the 80 ° limits. 4 98 8 26 selected pore size. For example, the water flow rate can be set as more than 0.1 ca / min./cm, preferably more 3 2 3.2 than 0.05 cm / min./cm, and most preferably more than 0.5 cm / min. cm at a pressure difference of about 1 atm.

5 Derhalve biedt de uitvinding verscheidene voordelen ten opzichte van volgens de stand van de techniek vervaardigde hydrofiele films. Omdat het mogelijk is een open-cellige aard van de hydrofiele microporeuze films, bereid overeenkomstig de uitvinding, te handhaven, laten dergelijke 10 films een massatransport van water door de film, in tegenstelling tot transport van water door de film door diffusie, hetgeen een veel trager proces is. De massatransportwerking draagt ook bij tot de vermindering van de elektrische weerstand. Een ander voordeel van de microporeuze film volgens de uitvinding 15 is het gevolg van de chemische hechting van het hydrofiele monomeer aan de microporeuze film, waardoor de tijdsduur van de aanwezigheid van het hydrofiele monomeer op het microporie-oppervlak wordt verlengd over een langere tijdsduur dan die voor karakteristieke oppervlak aktieve middelen, in het 20 bijzonder na herhaalde keren wassen. Bovendien wordt ook de dimensionele stabiliteit van de films volgens de uitvinding verbeterd.Therefore, the invention offers several advantages over prior art hydrophilic films. Since it is possible to maintain an open-cell nature of the hydrophilic microporous films prepared according to the invention, such films allow a mass transport of water through the film, as opposed to transport of water through the film by diffusion, which slower process. The mass transport action also contributes to the reduction of the electrical resistance. Another advantage of the microporous film according to the invention is due to the chemical adhesion of the hydrophilic monomer to the microporous film, extending the duration of the presence of the hydrophilic monomer on the micropore surface over a longer period of time than that for characteristic surfactants, especially after repeated washing. Moreover, the dimensional stability of the films according to the invention is also improved.

Het is aan te bevelen hier te vermelden dat het de voorkeur verdient om zo mogelijk de polaire funktionele 25 groep van het hydrofiele monomeer om te zetten in zijn sterkst polaire vorm. Dit kan b.v. worden tot stand gebracht door een zure funktionele groep te laten reageren met een base, zoals KOH, teneinde het overeenkomstige zout te vormen. Zo kan de zoutvorm in dit geval worden verkregen door de chemisch 30 gehechte film te drinken in een 2 %-ige KOH oplossing gedurende eea tijdsduur van 5-30 min. Dit verhoogt de bevochtigbaarheid en verbetert de buigzaamheid van de film.It is recommended to mention here that it is preferable to convert the polar functional group of the hydrophilic monomer to its strongest polar form, if possible. This can e.g. are accomplished by reacting an acidic functional group with a base, such as KOH, to form the corresponding salt. Thus, in this case, the salt form can be obtained by drinking the chemically bonded film in a 2% KOH solution for a period of 5-30 minutes. This increases the wettability and improves the flexibility of the film.

Alle bekende bekledingsmethoden kunnen worden toegepast om de microporeuze film te bekleden, vooropgesteld 35 dat dergelijke methoden een voldoende nauwkeurige regeling van 8004988 27 het percentage hechting van het hydrofiele monomeer verschaffen,All known coating methods can be used to coat the microporous film, provided such methods provide sufficiently precise control of 8004988 27 percent adhesion of the hydrophilic monomer,

De voorkeursmethode voor het nauwkeurig en doelmatig bekleden van het inwendig oppervlak van de poriën van de microporeuze film bestaat uit het in aanraking brengen van de 5 microporeuze film met een damp van het monomeer, die op het micro- porie-oppervlak condenseert.The preferred method for accurately and efficiently coating the inner surface of the pores of the microporous film is to contact the microporous film with a vapor of the monomer which condenses on the micropore surface.

Het percentage hechting kan worden geregeld door het regelen van de evenwichtsdampdruk (d.w.z. dampdruk waarbij de eondensatiesnelheid van de monomeerdamp gelijk is aan zijn 10 verdampingssnelheid bij een bepaalde temperatuur) van het hydrofiele monomeer en de tijdsduur dat het hydrofiele monomeer in aanraking is met de microporeuze film.The percent adhesion can be controlled by controlling the equilibrium vapor pressure (ie vapor pressure at which the condensation rate of the monomer vapor equals its evaporation rate at a given temperature) of the hydrophilic monomer and the length of time the hydrophilic monomer is in contact with the microporous film .

De evenwichtsdampdruk die nodig is voor het verkrijgen van de gewenste hoeveelheid hydrofiele monomeerdeklaag 15 bij een constante temperatuur wordt bepaald door het uitzetten van het percentage hechting tegen de tijd bij verschillende evenwichtsdampdrukken terwijl de temperatuur constant wordt gehouden. Het gekozen percentage hechting als hierboven beschreven hangt af van de bepaalde eigenschap die men aan de microporeuze 20 film wenst te verlenen.The equilibrium vapor pressure required to obtain the desired amount of hydrophilic monomer coating at a constant temperature is determined by plotting the percent adhesion versus time at various equilibrium vapor pressures while keeping the temperature constant. The percentage of adhesion selected as described above depends on the particular property desired to be imparted to the microporous film.

De evenwichtsdampdruk die nodig is voor het verkrijgen van het geschikte percentage hechting wordt gemakkelijk bepaald uit de hierboven beschreven grafische uitzettingen.The equilibrium vapor pressure required to obtain the appropriate percentage of adhesion is easily determined from the graphical expansions described above.

De contactduur van de monomeerdamp met de microporeuze film 25 wordt ook op een dergelijke wijze bepaald.The contact time of the monomer vapor with the microporous film 25 is also determined in such a manner.

Zo wordt in een continue werkwijze de microporeuze film continu door een kamer gevoerd die de hydrofiele monomeerdamp bevat bij de geschikte evenwichtsdampdruk en temperatuur. De contactduur van de microporeuze film met de hydrofiele 30 monomeerdamp wordt geregeld door de baanlengte en de lijnsnelheid van de microporeuze film door de damp in te stellen.Thus, in a continuous process, the microporous film is continuously passed through a chamber containing the hydrophilic monomer vapor at the appropriate equilibrium vapor pressure and temperature. The contact time of the microporous film with the hydrophilic monomer vapor is controlled by adjusting the web length and the line speed of the microporous film through the vapor.

Klaarblijkelijk kan de dampbekledingstechniek alleen maar worden gebruikt wanneer de kritische temperatuur van het hydrofiele monomeer (d.w.z. de temperatuur waarbij een 35 vloeibaar monomeer ongeacht de druk niet kan bestaan) boven de 8004988 28 temperatuur ligt waarbij de eigenschappen van de macroporeuze film nadelig zouden worden beinvloed bij de bepaalde contactduur die gebruikt wordt.Apparently, the vapor coating technique can only be used when the critical temperature of the hydrophilic monomer (ie, the temperature at which a liquid monomer cannot exist regardless of the pressure) is above 8004988 28 temperature at which the properties of the macroporous film would be adversely affected the determined contact duration used.

Het verdient de voorkeur dat de dampbekledings-5 techniek wordt uitgevoerd bij atmosferische druk en bij een temperatuur die de gewenste dampdruk verschaft.It is preferred that the vapor coating technique be performed at atmospheric pressure and at a temperature that provides the desired vapor pressure.

Karakteristiek varieert de temperatuur waarbij de dampbekledingstechniek wordt uitgevoerd bij gebruik van atmosferische druk in het trajekt van 50-170°C, wanneer het 10 gebruikte hydrofiele monomeer acrylzuur, methacrylzuur of vinylacetaat is.Typically, the temperature at which the vapor coating technique is performed using atmospheric pressure ranges from 50-170 ° C when the hydrophilic monomer used is acrylic acid, methacrylic acid or vinyl acetate.

Verlaagde of verhoogde druk kunnen ook worden gebruikt met bijbehorende instelling van temperatuur en contactduur.Reduced or elevated pressure can also be used with associated temperature and contact time settings.

15 Het zal duidelijk zijn, dat omdat het percentage hechting wordt bepaald na de hardingsbehandeling, een hoeveelheid hydrofiel monomeer oorspronkelijk op de microporeuze film wordt aangebracht die groter is dan het percentage hechting, om rekening te houden met verliezen aan monomeer, die kunnen 20 optreden tijdens de hardingsbehandeling.It will be appreciated that because the percentage of adhesion is determined after the curing treatment, an amount of hydrophilic monomer is originally applied to the microporous film greater than the percentage of adhesion, to account for monomer losses that may occur during the curing treatment.

Andere geschikte methoden waardoor de microporeuze film kan worden bekleed met het hydrofiele monomeer zijn het oplossen van het hydrofiele monomeer in een verdampte oplosmiddel, zoals methyleenchloride, teneinde een dep-bad te 25 vormen.Other suitable methods by which the microporous film can be coated with the hydrophilic monomer are to dissolve the hydrophilic monomer in an evaporated solvent, such as methylene chloride, to form a dab bath.

Het dep-bad kan dan worden gebruikt in een keer-walsbekledingstechniek. Door deze methode wordt een docterwals gedeeltelijk in het dep-bad van de monomeerdeklaagoplossing aangebracht. Een tweede aangedreven wals voert een onbekleed 30 hydrofoob microporeus filmvlies door de nip die tussen deze wals en de doctorwals wordt gevormd. De twee walsen, die bij voorkeur afzonderlijk worden aangedreven, draaien in dezelfde richting, zodat hetbeklede filmvlies wordt gevoerd in de richting waaruit de onbeklede film komt. De hoeveelheid monomeerdeklaag 35 die op de film wordt aangebracht is een funktie van het snelheids- 800 4 98 8 29 verschil van de doctorwals en de tweede filmaandrijvende wals en ook de grootte van de nip die tussen de twee walsen wordt gevormd.The dep bath can then be used in a reverse roll coating technique. By this method, a doctor roller is partially placed in the dab bath of the monomer coating solution. A second driven roll passes an uncoated hydrophobic microporous film web through the nip formed between this roll and the doctor roll. The two rollers, which are preferably driven separately, rotate in the same direction, so that the coated film web is fed in the direction from which the uncoated film comes. The amount of monomer coating 35 applied to the film is a function of the speed difference of the doctor roll and the second film driving roll and also the size of the nip formed between the two rollers.

In plaats daarvan kan een drukwalsmethode 5 worden gebruikt. Bij deze methode wordt de film geleid in een dep-bad van de monomeerbekledingoplossing en uitgedrukt tussen twee drukwalsen die benedenstrooms daarvan zijn opgesteld.A pressure rolling method 5 can be used instead. In this method, the film is passed into a dab bath of the monomer coating solution and expressed between two pressure rollers disposed downstream thereof.

De hoeveelheid deklaag is derhalve een funktie van de grootte van de opening tussen de twee drukwalsen en de daartussen uit-10 geoefende druk.The amount of coating is therefore a function of the size of the gap between the two pressure rollers and the pressure exerted between them.

Een andere methode voor het bekleden van de substraat hydrofobe microporeuze film is de met een draad omwikkelde doseerstaafmethode. Deze methode is dezelfde als de drukwals-methode, behalve dat de microporeuze film nqifce zijn bekleed 15 door gevoerd te zijn door een bad van de monomere deklaagoplossing wordt uitgedrukt tussen een paar met draad omwikkelde doseerstaven, die de hoeveelheid deklaag regelen die daarop is aangebracht , door de configuratie van de draden die om de doseerstaven zijn gewikkeld.Another method of coating the substrate hydrophobic microporous film is the wire wrapped metering rod method. This method is the same as the pressure roll method, except that the microporous film coating is coated by passing through a bath of the monomer coating solution is expressed between a pair of wire wrapped metering rods which control the amount of coating applied thereto, by the configuration of the wires wrapped around the dosing rods.

20 Bij de keerwals, drukwals en met draad omwikkelde doseerstaafbekledingstechnieken is de hoeveelheid hydrofiel monomeer dat oorspronkelijk op de microporeuze film wordt aangebracht een funktie van éé n of twee variabelen, als besproken bij de beschrijving van de methoden. Bovendien is bij alle drie 25 de methoden de hoeveelheid van de monomeerdeklaag ook een funktie van de concentratie van het monomeer in het dep-bad. Het hydrofiele monomeer dep-bad wordt verkregen door het monomeer op te lossen in een gebruikelijk organisch oplosmiddel, dat een kookpunt heeft dat lager ligt dan het kookpunt van het gebruikte hydrofiele 2o monomeer, zoals naast methyleenchloride, aceton, methanol, ethanol en isopropanol.In the retaining roll, pressure roll and wire-wrapped metering rod coating techniques, the amount of hydrophilic monomer originally applied to the microporous film is a function of one or two variables, as discussed in the description of the methods. In addition, in all three methods, the amount of the monomer coating is also a function of the concentration of the monomer in the dep bath. The hydrophilic monomer dep bath is obtained by dissolving the monomer in a conventional organic solvent, which has a boiling point lower than the boiling point of the hydrophilic 20 monomer used, such as in addition to methylene chloride, acetone, methanol, ethanol and isopropanol.

De concentratie van het hydrofiele monomeer in het dep-bad wordt geregeld om opbrengen van de geschikte hoeveelheid monomeer bij het verdampen van het oplosmiddel te verkrijgen.The concentration of the hydrophilic monomer in the dep bath is controlled to obtain application of the appropriate amount of monomer upon evaporation of the solvent.

35 In het algemeen kan de monomeerconcentratie in het dep-bad variëren 8004988 30 van 1-30 gew.Ji, bij voorkeur 5-15 gew.$, betrokken op het gewicht van het bad.Generally, the monomer concentration in the dep bath can range from 800 to 988 wt. 1-30 wt.%, Preferably 5-15 wt.%, Based on the weight of the bath.

Wanneer de hydrofiele monomeren als bekleding op de microporeuze film worden aangebracht met behulp van een 5 dompelbad, wordt het daarin aanwezige oplosmiddel verwijderd door de beklede film door een droger te voeren. De temperatuur van de droger moet hoog genoeg zijn om alleen het oplosmiddel te verdampen, waardoor het monomeer afgezet op het microporeuze oppervlak van de film achterblijft.When the hydrophilic monomers are coated onto the microporous film using an immersion bath, the solvent contained therein is removed by passing the coated film through a dryer. The dryer temperature should be high enough to evaporate only the solvent, leaving the monomer deposited on the microporous surface of the film.

10 Nadat de poriën van de microporeuze film bekleed zijn met het hydrofiele monomeer en eventueel oplosmiddel daaruit verwijderd is, wordt de beklede microporeuze film onderworpen aan ioniserende straling om het hydrofiele monomeer chemisch te binden aan het normaal hydrofobe micro-15 poreuze oppervlak en het hydrofiel te maken.After the pores of the microporous film are coated with the hydrophilic monomer and any solvent is removed therefrom, the coated microporous film is subjected to ionizing radiation to chemically bond the hydrophilic monomer to the normally hydrophobic microporous surface and to hydrophilize. to make.

Bij blootstelling aan ioniserende straling kunnen een aantal mpgelijke mechanismen of combinaties daarvan werken om het beoogde effekt tot stand te brengen. Zo kunnen de hydrofiele monomeren chemisch gebonden raken op het micro-20 poreuze oppervlak en/of ze kunnen door polymerisatie en/of eopolymerisatie een polymeerlaag of mof vormen, die chemisch gebonden is aan het microporeuze oppervlak, zoals door willekeurige chemische hechting van het mof-oppervlak aan het microporeuze oppervlak, en/of fysisch als gevolg van de 25 beperkende werking op de polymeermof van de omtrek van het microporeuze oppervlak. De uitdrukking "chemische hechting" beoogt alle bovenstaande mechanismen of combinaties daarvan te omvatten.When exposed to ionizing radiation, a number of similar mechanisms or combinations thereof can act to achieve the intended effect. For example, the hydrophilic monomers may become chemically bonded to the microporous surface and / or may form a polymer layer or sleeve chemically bonded to the microporous surface by polymerization and / or eopolymerization, such as by random chemical bonding of the sleeve. surface at the microporous surface, and / or physically due to the limiting effect on the polymer sleeve of the periphery of the microporous surface. The term "chemical adhesion" is intended to include all of the above mechanisms or combinations thereof.

Zonder ons te willen beperken tot de bepaalde 30 mechanismen waarmee de gewenste verbetering kan worden verkregen, worden de eigenschappen van de normaal hydrofobe microporeuze film gemodificeerd op één of meer manieren afhankelijk van het percentage hechting van het hydrofiele monomeer.Without wishing to limit ourselves to the particular mechanisms by which the desired improvement can be obtained, the properties of the normally hydrophobic microporous film are modified in one or more ways depending on the percent adhesion of the hydrophilic monomer.

Zo wordt de verkregen met straling behandelde 35 microporeuze film hydrofiel gemaakt over een langere tijdsduur 8004988 31 van gebruik, dan anders verkregen wordt met karakteristieke oppervlak aktieve bekledingslagen en toch kan de opencellige aard van de film in stand worden gehouden om de microporeuze film te gebruiken voor die toepassingen waarbij massatransport 5 en lage elektrische weerstand vereist zijn.Thus, the obtained radiation-treated microporous film is rendered hydrophilic over a longer period of use than is otherwise obtained with characteristic surfactant coatings and yet the open-cell nature of the film can be maintained to use the microporous film for those applications where mass transport 5 and low electrical resistance are required.

Zoals hierboven aangegeven, wordt de chemische hechting van de hydrofiele monomeren op de normaal hydrofobe microporeuze film tot stand gebracht door de met hydrofiel monomeer geïmpregneerde microporeuze film bloot te stellen aan 1Q ioniserende straling.As indicated above, chemical adhesion of the hydrophilic monomers to the normally hydrophobic microporous film is accomplished by exposing the hydrophilic monomer impregnated microporous film to 1Q ionizing radiation.

Ioniserende straling wordt hierin gedefinieerd als in wezen bestaande uit het type, dat ge-emitteerde deeltjes of fotonen verschaft met een intrinsieke energie die voldoende is om ionen te vormen en chemische bindingen te verbreken en ^ daardoor vrije radicaalreakties op gang te brengen tussen de gebruikte hydrofiele monomeren en tussen de monomeren en het microporeuze oppervlak zoals hierin beschreven. Ioniserende straling is gemakkelijk beschikbaar in de vorm van ioniserende deeltjesstraling, ioniserende elektromagnetische straling en 2o actinisch licht.Ionizing radiation is defined herein as essentially consisting of the type that provides emitted particles or photons with an intrinsic energy sufficient to form ions and break chemical bonds thereby initiating free radical reactions between the hydrophilic used monomers and between the monomers and the microporous surface as described herein. Ionizing radiation is readily available in the form of ionizing particle radiation, ionizing electromagnetic radiation and 20 actinic light.

De uitdrukking "ioniserende deeltjesstraling" is gebruikt om de emissie van elektronen of sterk versnelde kerndeeltjes zoals protonen, neutronen, α-deeltjes, deuteronen, β-deeltjes of dergelijke aan te geven, die op zodanige wijze 25 gericht zijn, dat het deeltje in de te bestralen massa wordt geslingerd. Geladen deeltjes kunnen worden versneld met behulp van spanningsgradienten door apparaten zoals een lage energie (d.w.z. 200 KeV) verlengde elektronenstraalgenerator, zoals de electrocurtain (handelsmerk) (vervaardigd door Energy 2o Sciences Corporation, versnellers met resonantiekamers, van derThe term "ionizing particle radiation" has been used to indicate the emission of electrons or highly accelerated nuclear particles such as protons, neutrons, alpha particles, deuterons, beta particles or the like, which are directed in such a way that the particle in the mass to be irradiated is flung. Charged particles can be accelerated using voltage gradients through devices such as a low energy (i.e., 200 KeV) extended electron beam generator, such as the electrocurtain (trademark) (manufactured by Energy 2o Sciences Corporation, accelerators with resonance chambers, van der

Graaff generatoren, betatronen, synchrotronen, cyclotronen. Neutronenstraling kan worden gevormd door een bepaald licht metaal, zoals beryllium, te bombarderen met positieve deeltjes met hoge energie. Deeltjesstraling kan ook worden verkregen 25 met behulp van een kerareaktor, radioaktieve isotopen, of 8004988 32 andere natuurlijke of synthetische radioaktieve materialen.Dig generators, beta patterns, synchrotrons, cyclotrons. Neutron radiation can be formed by bombarding a certain light metal, such as beryllium, with high energy positive particles. Particle radiation can also be obtained using a kerareactor, radioactive isotopes, or other natural or synthetic radioactive materials.

"Ioniserende elektromagnetische straling" wordt gevormd vanneer een metalen doel, zoals wolfraam, gebombardeerd vordt met elektronen van geschikte energie. Deze energie vordt 5 aan de elektronen verleend door potentiaalversnellers van meer dan 0,1 miljoen elektrovolts (mev). Haast de straling van dit type, gewoonlijk röntgenstraling genoemd, kan een ioniserende elektromagnetische bestraling die geschikt is voor de uitvoering van de uitvinding, worden verkregen door middel van een kern-10 reaktor of door gebruik van natuurlijk of synthetisch iadio-aktief materiaal, b.v. cobalt 6θ."Ionizing electromagnetic radiation" is formed from a metal target, such as tungsten, bombarded with electrons of suitable energy. This energy is imparted to the electrons by potential accelerators of more than 0.1 million electrovolts (mev). Nearly the radiation of this type, commonly referred to as X-rays, an ionizing electromagnetic radiation suitable for the practice of the invention can be obtained by means of a nuclear reactor or by using natural or synthetic radioactive material, e.g. cobalt 6θ.

De hierin beschreven hydrofiele monomeren ondergaan ook chemische hechting door blootstelling aan actinisch licht. In het algemeen worden golflengten gebruikt waarin 15 gevoeligheid voor actinisch licht optreedt, en wel in het trajekt van 1800 - HOOO £. Verschillende geschikte bronnen voor actinisch licht zijn op dit gebied beschikbaar, en hiertoe behoren bij wijze van voorbeeld kwarts kviklampen, ultraviolet kernkoolstof-bogen en sterke flitslampen. Wanneer actinisch licht wordt 20 gebruikt, kunnen starters worden toegepast.The hydrophilic monomers described herein also undergo chemical bonding by exposure to actinic light. In general, wavelengths in which sensitivity to actinic light occurs are used, in the range of 1800 - HOOO 2. Various suitable sources of actinic light are available in this field, including, for example, quartz kvik lamps, ultraviolet core carbon arcs, and strong flash lamps. When actinic light is used, starters can be used.

De voorkeursbron voor ioniserende straling is de verlengde elektronenstraalgenerator zoals beschreven in de Amerikaanse octrooischriften 3.702Λ12, 3.7^5.396 en 3.769.600.The preferred source of ionizing radiation is the elongated electron beam generator as described in U.S. Pat. Nos. 3,702Λ12, 3.7 ^ 5,396 and 3,769,600.

De technieken voor nauwkeurige procesregeling 25 zijn voldoende ontwikkeld om omzetting van resultaten van het ene type straling naar het andere mogelijk te maken en geschikte bijstelling van de hierin beschreven technieken kan uitwisselbaar worden toegepast bij de bereiding van ieder gewenst produkt.The precise process control techniques have been sufficiently developed to allow conversion of results from one type of radiation to another, and appropriate adjustment of the techniques described herein can be used interchangeably in the preparation of any desired product.

Een stralingsdosering van 1,0 - 10 megarad 30 (mrad.) en bij voorkeur 2-5 mrad (b.v. 3 mrad) wordt gebruikt om chemische hechting tot stand te brengen. Een megarad is 1 miljoen rad. Een rad is de hoeveelheid ioniserende hoge energie-straling die een absorptie van 100 erg energie per g absorberend materiaal veroorzaakt. Deze eenheid wordt algemeen aanvaard als 35 een geschikt middel voor het meten van stralingsabsorptie door 8004988 33 materiaal.A radiation dose of 1.0-10 megarad (mrad.) And preferably 2-5 mrad (e.g. 3 mrad) is used to effect chemical bonding. A megarad is 1 million rads. A wheel is the amount of ionizing high energy radiation that causes an absorption of 100 very energy per g absorbent material. This unit is widely accepted as a suitable means of measuring radiation absorption by 8004988 33 material.

Bij voorkeur wordt,uit ekonomische overwegingen, de minimum ioniserende straling gebruikt om chemische hechting tot stand te brengen. Overmatige doseringen (d.w.z. meer dan 5 20 mrad. bij een enkele belichting) dienen te worden vermeden om overmatig verhitten en krimpen van film en afbraak van de hydrofiele monomeren en de microporeuze film te voorkomen.Preferably, for economic reasons, the minimum ionizing radiation is used to effect chemical bonding. Excessive dosages (i.e., more than 5 mrads in a single exposure) should be avoided to prevent excessive heating and shrinkage of film and degradation of the hydrophilic monomers and the microporous film.

Wanneer de dosering te gering is, wordt echter de chemische hechting niet tot stand gebracht en gaat het hydrofiele monomeer 10 snel verloren.However, when the dosage is too small, the chemical adhesion is not established and the hydrophilic monomer 10 is quickly lost.

De minimumstralingsdosis, die chemische hechting van het hydrofiele monomeer tot stand brengt, varieert afhankelijk van de aard van het polymeer dat gebruikt wordt voor het vervaardigen van de microporeuze film. Zo dient b.v., wanneer het 15 polymeer polyethyleen is, de stralingsdosis niet minder te bedragen dan 1 mrad, terwijl voor polypropyleen de stralingsdosis niet minder dan 2 mrad. en bij voorkeur niet minder dan 3 mrad. moet zijn.The minimum radiation dose, which establishes chemical adhesion of the hydrophilic monomer, varies depending on the nature of the polymer used to make the microporous film. For example, when the polymer is polyethylene, the radiation dose should be not less than 1 mrad, while for polypropylene, the radiation dose is not less than 2 mrad. and preferably not less than 3 mrad. must be.

Kamertemperatuur kan bevredigend worden gebruikt 20 voor bestraling ofschoon verhoogde temperatuur ook kan worden gebruikt.Room temperature can be used satisfactorily for irradiation, although elevated temperature can also be used.

Omdat zuurstof de neiging vertoont enten van het hydrofiele monomeer op de microporeuze film te belemmeren, verdient hetde voorkeur, de stralingsbehandeling van de micro-25 poreuze film uit te voeren in een inerte atmosfeer, zoals stikstof of een ander inert gas.Since oxygen tends to hinder grafting of the hydrophilic monomer on the microporous film, it is preferable to conduct the radiation treatment of the microporous film in an inert atmosphere, such as nitrogen or other inert gas.

Zoals eerder besproken, kan het percentage hechting worden gekozen op basis van de elektrische weerstand van de microporeuze film.As discussed previously, the percent adhesion can be selected based on the electrical resistance of the microporous film.

30 Elektrische weerstand (gelijkstroommethode) van een microporeuze film wordt be-paald door een monster van een microporeuze film met een bekend oppervlak (b.v.1,29 cm ) te drenken in een Uo gew.^-ige oplossing van KOH in water gedurende 2k uur. Het verkregen monster wordt dan aangebracht 35 tussen werkende cadmium elektroden ( d.w.z. anode en kathode), 8Ό0 4 98 8Electrical resistance (DC method) of a microporous film is determined by soaking a sample of a microporous film with a known surface (eg 1.29 cm) in a Uo weight solution of KOH in water for 2 hours. . The resulting sample is then placed between working cadmium electrodes (i.e., anode and cathode), 8Ό0 4 98 8

3U3U

die in een elektroliet van een 1*0 gew./S-ige oplossing van KOH in water zijn gedompeld en een gelijkstroom van bekende sterkte (b.v, mA) wordt door de cel tussen de elektroden gevoerd. Het potentiaalverval over de film (E) wordt gemeten met een 5 elektrometer. Het potentiaalverval over de cel zonder dat de microporeuze film daarin is aangebracht (E') wordt ook bepaald met dezelfde stroom.immersed in an electrolyte of a 1 * 0 wt / S solution of KOH in water and a DC current of known strength (e.g., mA) is passed through the cell between the electrodes. The potential decay across the film (E) is measured with an electrometer. The potential decay across the cell without the microporous film deposited therein (E ') is also determined with the same current.

De elektrische weerstand van de microporeuze film wordt dan bepaald met de vergelijking:The electrical resistance of the microporous film is then determined by the equation:

10 E.R. = " E)A10 E.R. = "E) A

2 waarin A het oppervlak van de bestraalde film is in 6,1*5 cm ,2 where A is the area of the irradiated film in 6.1 * 5 cm,

1 de stroom door de cel is in mA, E.R. de elektrische weerstand van de microporeuze film is in milliohm per 6,1*5 cm en E’ en E1 the current through the cell is in mA, E.R. the electrical resistance of the microporous film is in milliohm per 6.1 * 5 cm and E and E

de bovenstaande betekenis hebben.have the above meaning.

1515

De waterdoorlaatbaarheid of de waterstromings-snelheid van de hydrofiele microporeuze film volgens de uitvinding wordt bep,aald door de stroomsnelheid van het water te meten door een specifiek oppervlak van de film, terwijl het _ water onder een drukverschil van 1 atmosfeer staat. Zo wordt 20 de waterstromingssnelheid uitgedrukt in eenheden van volume water in cm per min. per cm filmoppervlak, d.w.z. cm /min./cm .The water permeability or the water flow rate of the hydrophilic microporous film according to the invention is determined by measuring the flow rate of the water through a specific surface of the film, while the water is under a pressure difference of 1 atmosphere. For example, the water flow rate is expressed in units of volume of water in cm per min per cm film area, i.e. cm / min./cm.

De luchtdoorlaatbaarheid van de microporeuze film volgens de uitvinding wordt bepaald met de Gurleyproef, d.w.z. volgens ASTM D 726, door een film met een oppervlak van o 6,1*5 cm te spannen in een standaard Gurley densometer. De film wordt onderworpen aan een standaarddrukverschil (het drukverval over de film) van 31 cm water. De tijd in sec. die nodig is om 10 cm lucht door de film te leiden is een indicatie van doorlaatbaarheid. Een Gurleywaarde van meer dan 1,5 min. is een indicatie dat de poriën verstopt zijn.The air permeability of the microporous film according to the invention is determined by the Gurley test, i.e. according to ASTM D 726, by tensioning a film with a surface area of 6.1 * 5 cm in a standard Gurley densometer. The film is subjected to a standard pressure difference (the pressure drop across the film) of 31 cm of water. The time in sec. required to pass 10 cm of air through the film is an indication of permeability. A Gurley value of more than 1.5 min. Is an indication that the pores are clogged.

De hydrofiele microporeuze films volgens de uitvinding kunnen op veel verschillende manieren worden gebruikt. In het bijzonder kunnen ze worden toegepast op gebieden waar de 2^ ingestelde doorgang van vocht door een film of oppervlak gewenst 800 4 98 8 35 is. Bovendien kunnen films die volgens de uitvinding zijn vervaardigd, worden gebruikt als filtermembraan ondersteuning of filters die bruikbaar zijn voor het scheiden van ultrafijne materialen van verschillende vloeistoffen en als batterij 5 scheidwanden.The hydrophilic microporous films of the invention can be used in many different ways. In particular, they can be applied to areas where the adjusted passage of moisture through a film or surface is desired 800 4 98 8 35. In addition, films made according to the invention can be used as filter membrane support or filters useful for separating ultrafine materials from different liquids and as battery partitions.

De onderstaande voorbeelden dienen termdere toelichting van de uitvinding. Alle delen en percentages in de voorbeelden alsmede in de beschrijving en in de conclusies zijn op gevichtsbasis tenzij anders vermeld.The examples below serve to further illustrate the invention. All parts and percentages in the examples as well as in the description and in the claims are on a basis basis unless otherwise stated.

10 Voorbeeld IExample I

Deel aPart a

Hierin wordt de vervaardiging toegelicht van een normaal hydrofoob polyolefinische macroporeuze film volgens de "droge strek" methode als toegelicht in Amerikaans octrooi-15 schrift 3.801.404.This illustrates the manufacture of a normal hydrophobic polyolefinic macroporous film by the "dry stretch" method as illustrated in U.S. Patent 3,801,404.

Kristallijn polypropyleen met een smeltindex van 0,7 en een dichtheid van 0,92 wordt als smelt geextrudeerd bij 230°C door een spleet van 20 cm van het klerenhangertype met gebruikmaking van een 2,5 cm extrudeerapparaat met een 20 ondiepe doseerschroef. De lengte tot diameterverhouding van de extrudeerbuis bedraagt 24/1. Het extrudaat wordt heel snel afgetrokken tot een smelt aftrekverhouding van 150 en in aanraking gebracht met een draaiende gietwals die op 50°C wordt gehouden en op 1,9 cm van de rand van de matrijs. De op deze wijze 25 gevormde film blijkt de volgende eigenschappen te bezitten: dikte 0,05 cm; herstel van 50 % uitrekken bij 25°C, 50,3 %\ kristalliniteit, 59,6 %.Crystalline polypropylene with a melt index of 0.7 and a density of 0.92 is melt extruded at 230 ° C through a 20 cm slit of the clothes hanger type using a 2.5 cm extruder with a shallow dosing screw. The length to diameter ratio of the extruder tube is 24/1. The extrudate is subtracted very quickly to a melt pull-off ratio of 150 and contacted with a rotary casting roll held at 50 ° C and 1.9 cm from the edge of the die. The film formed in this way appears to have the following properties: thickness 0.05 cm; recovery of 50% stretching at 25 ° C, 50.3% crystallinity, 59.6%.

Een monster van deze film werd in een oven ontlaten met lucht met een geringe spanning gedurende 30 min.A sample of this film was annealed in an oven with low voltage air for 30 min.

30 bij 140°C, uit de oven gehaald waarna men de film liet afkoelen.30 at 140 ° C, taken out of the oven and the film allowed to cool.

Het monster van de ontlaten elastische film wordt dan onderworpen aan koud strekken en warm strekken bij een rekverhouding van 0,50:1 en daarna warm gehard onder spanning, d.w.z. bij constante lengte gedurende 10 min. bij 145°C aan de 35 lucht. Het koud trekgedeelte wordt uitgevoerd bij 25°C het 800 4 98 8 36 warm trekgedeelte wordt uitgevoerd bij 1^5°C en de totale trek bedraagt 100 %y betrokken op de oorspronkelijke lengte van de elastische film. De verkregen film heeft een gemiddelde poriegroottelengte van 3000 S , een kristalliniteit van 59*6 %,The sample of the annealed elastic film is then subjected to cold drawing and hot drawing at a draw ratio of 0.50: 1 and then heat cured under tension, i.e., at constant length for 10 min at 145 ° C in air. The cold drawing section is carried out at 25 ° C, the 800 4 98 8 36 hot drawing section is carried out at 1.5 ° C and the total drawing is 100% y based on the original length of the elastic film. The obtained film has an average pore size length of 3000 S, a crystallinity of 59 * 6%,

OO

5 en een oppervlak van 8,5^ m /g. De dikte van de microporeuze film bedraagt 0,025 mm.5 and a surface area of 8.5 µm / g. The thickness of the microporous film is 0.025 mm.

Deel bPart b

Een continue rol van de microporeuze film met een lengte van 30 m en een breedte van 15 cm, vervaardigd 10 overeenkomstig deel a, wordt dan door een bad van watervrije acrylzuur (d.w.z. 100 %) gevoerd en vervolgens door een drukwals om een hechting te verkrijgen na harden van 1,5 gew./ί, betrokken op het gewicht van de film voorafgaande aan het impregneren, zoals bepaald met infraroodanalyse. De geïmpregneerde film 15 wordt dan onder het raam van een verlengde elektronenstraal-generator (d.w.z. met een lengte van 60 cm) gevoerd met een lijnsnelheid van 6 m/min. De elektronenstraalgenerator wordt zodanig ingesteld.dat deze een dosis van 3 megarad verschaft bij de gebruikte lijnsnelheid.A continuous roll of the microporous film 30 m long and 15 cm wide, manufactured in accordance with part a, is then passed through an anhydrous acrylic acid bath (ie 100%) and then through a pressure roller to obtain an adhesion after hardening 1.5 wt.%, based on the weight of the film prior to impregnation, as determined by infrared analysis. The impregnated film 15 is then passed under the window of an elongated electron beam generator (i.e., 60 cm in length) at a line speed of 6 m / min. The electron beam generator is adjusted to provide a dose of 3 megarads at the line speed used.

20 Het zuurstofgehalte van de atmosfeer beneden het raam van het gordijn en in aanraking met de microporeuze film wordt beneden 500 ppm gehouden door het raam in te sluiten in een kamer die wordt doorgespoeld met stikstof.The oxygen content of the atmosphere below the window of the curtain and in contact with the microporous film is kept below 500 ppm by enclosing the window in a chamber purged with nitrogen.

Een monster geharde droge microporeuze film wordt 25 dan onderzocht op bevochtigbaarheid door de druppelproef, De druppelproef wordt uitgevoerd door een 0,6 ml druppel van 2 % KOHLin water op het oppervlak van de film aan te brengen. De film wordt dan met het blote oog waargenomen. Wanneer het gedeelte van de film waarop de druppel is aangebracht, doorschij-30 nend wordt, en de andere kant van de film waarop de druppel is aangebracht, nat uitziet, wordt de film als bevochtigd beschouwd (zoals aangegeven in tabel A met het commentaar "ja”). De druppelproef wordt uitgevoerd op een uit de lijn genomen monster van de film onmiddellijk na bestraling en met een monster dat een week 35 lang bij kamertemperatuur is opgeslagen.A sample of cured dry microporous film is then tested for wettability by the drop test. The drop test is performed by applying a 0.6 ml drop of 2% KOHLin water to the surface of the film. The film is then observed with the naked eye. When the portion of the film on which the drop is applied becomes translucent, and the other side of the film on which the drop is applied looks wet, the film is considered wetted (as indicated in Table A with the comment " yes ”) The drop test is performed on an off-line sample of the film immediately after irradiation and on a sample stored at room temperature for one week.

800 4 98 8 37800 4 98 8 37

Verscheidene andere monsters worden getrokken van de geharde microporeuze filmrol en onderzocht op elektrische weerstand op de wijze zoals hierin beschreven na drenken in een ^0 gew.yS-ige waterige oplossing van KOH die op 6o°C wordt gehouden gedurende 5 1 uur, 2k uur, ^ dagen en 8 dagen, en de resultaten worden gemiddeld. Het drenken van het filmmonster in hete KOH gedurende steeds langere tijdsduur simuleert het verouderen over lange tijdsduur.Several other samples are taken from the cured microporous film roll and tested for electrical resistance in the manner described herein after soaking in a 100 wt% aqueous solution of KOH held at 60 ° C for 1 hour, 2 hours. , ^ days and 8 days, and results are averaged. Soaking the film sample in hot KOH for an increasingly long period of time simulates long-term aging.

Het oppervlak van ieder monster dat onderzocht 2 10 wordt op elektrische weerstand bedraagt 1,29 cm en de gebruikte stroom is ^0 mA gelijkstroom.The area of each sample tested for electrical resistance is 1.29 cm and the current used is 0 mA mA.

Drie monsters van de geharde microporeuze filmrol worden onderzocht op luchtstroomdoorlaatbaarheid overeenkomstig de Gurley test ASQM D-726B.Three samples of the cured microporous film roll are examined for air flow permeability according to the Gurley test ASQM D-726B.

15 De resultaten zijn samengevat in tabelvorm in tabel A.15 The results are summarized in tabular form in Table A.

Monsters van de geharde microporeuze filmrol worden ook onderzocht op waterstroming na drenken in een 31 #-ige oplossing van KOH die 2k uur op 6o°C wordt gehouden door ieder 2 20 monster met een oppervlak van 11,3 cm in een milliporeus filter- huis te plaatsen. Het milliporeuze filter wordt gevuld met water en onder druk gebracht tot een atmosferisch verschil tussen beide oppervlakken van het filmmonster. Water wordt verzameld dat door de microporeuze film loopt in een tijdbestek van 5 min.Samples of the cured microporous film roll are also examined for water flow after soaking in a 31 # solution of KOH held at 60 ° C for 2 hours by each 11.3 cm area sample in a milliporous filter housing to place. The milliporous filter is filled with water and pressurized to an atmospheric difference between both surfaces of the film sample. Water is collected that passes through the microporous film over a period of 5 min.

. 3 25 De resultaten worden omgerekend m cm water die verzameld worden 2 per min. per cm filmoppervlak. De resultaten zijn samengevat in tabel A.. 3 25 The results are converted m cm water collected 2 per min per cm film area. The results are summarized in Table A.

VergelijkingsvoorbeeldComparative example

Voorbeeld I wordt herhaald behoudens dat de 30 stralingsdosis die gebruikt wordt voor het harden verlaagd wordt tot 1 megarad. De resultaten zijn samengevat in tabel A. Een onbeklede microporeuze film bereid overeenkomstig voorbeeld I wordt eveneens blootgesteld aan ioniserende straling en op dezelfde wijze onderzocht als beschreven in voorbeeld I en deze 35 dient als controle. De resultaten zijn samengevat in tabel A.Example I is repeated except that the radiation dose used for curing is reduced to 1 megarad. The results are summarized in Table A. An uncoated microporous film prepared according to Example I is also exposed to ionizing radiation and tested in the same manner as described in Example I and serves as a control. The results are summarized in Table A.

800 4 98 8 38800 4 98 8 38

Zoals blijkt uit de gegevens in tabel A wordt een dosis van 1 megarad te gering geacht voor het verkrijgen van een doelmatige harding van een polypropyleen microporeuze film zoals blijkt uit de oneindige elektrische weerstand van de 5 microporeuze film van het vergelijkingsvoorbeeld. De positieve bevochtigbaarheidsproef van het vergelijkingsvoorbeeld op het uit de lijn genomen monster wordt geacht het gevolg te zijn van resterend acrylzuur, dat niet chemisch door de bestraling is vastgehecht. De negatieve bevochtigbaarheid van de film volgens 10 dit vergelijkingsvoorbeeld na 1 week wordt geacht het gevolg te zijn van het verlies van het acrylzuur tijdens de opslagduur van 1 week. Dit wordt bevestigd door de oneindige elektrische weerstand van de film na 1 week opslag.As can be seen from the data in Table A, a dose of 1 megarad is considered too small to achieve effective curing of a polypropylene microporous film as evidenced by the infinite electrical resistance of the microporous film of the comparative example. The positive wettability test of the comparative example on the withdrawn sample is believed to result from residual acrylic acid, which is not chemically attached by the irradiation. The negative wettability of the film according to this comparative example after 1 week is considered to be due to the loss of the acrylic acid during the 1 week storage period. This is confirmed by the infinite electrical resistance of the film after 1 week of storage.

Ook kan men zien, dat de elektrische weerstand 15 van de film van voorbeeld I toeneemt na k dagen blootstelling aan warme KOH en daarna ietwat afneemt na 8 dagen blootstelling. Aangenomen werd dat de daling na 8 dagen verouderen het gevolg kan zijn van de volledige omzetting van de acrylenting in zijn zoutvorm terwijl na H dagen verouderen de zoutamzetting nog 20 slechts gedeeltelijk voltooid is. Aldus blijkt volledige omzetting van de acrylenting in zijn zoutvorm de elektrische weerstand te verlagen.It can also be seen that the electrical resistance of the film of Example I increases after k days of exposure to warm KOH and then decreases somewhat after 8 days of exposure. It was believed that the drop after 8 days of aging may be due to the complete conversion of the acrylic seed to its salt form, while after H days of aging the salt deposition is only partially completed. Thus, complete conversion of the acrylic inoculation into its salt form appears to decrease the electrical resistance.

8004988 398004988 39

Tabel ATable A

Voor- Vergelijkings- beeld I voorbeeld controleExample Comparative Example I Example Control

Dosis (megarad) 3 1 3 lijnsnel-heid (m/min) 10 6,7 10Dose (megarad) 3 1 3 line speed (m / min) 10 6.7 10

Bevochtigbaarheid (druppeltest) van de lijn ja ja niet bepaald na 1 week ja neen niet bepaaldLine wettability (drip test) of the line yes yes not determined after 1 week yes no not determined

Elektrische veerstand (milliohm/6,l*5 ca2) 1 uur 5,00 <=?=» ¢0 2k uur 6,87 ^ U dagen 10,6 e*3 8 dagen 7,1Electric spring setting (milliohm / 6.1 * 5 ca2) 1 hour 5.00 <=? = »¢ 0 2k hours 6.87 ^ H days 10.6 e * 3 8 days 7.1

Gurley (lucht) (Gurley-sec.) 9,1 niet bepaald 10Gurley (air) (Gurley sec.) 9.1 not determined 10

Waterstroming 2 2 (cm /min/cm ) 0,35 O niet bepaaldWater flow 2 2 (cm / min / cm) 0.35 O not determined

Voorbeeld IIExample II

deel apart a

Hierin wordt de vervaardiging beschreven van een polyetbyleenmieroporeuze film met de "oplosmiddelstrek" methode.Described herein is the manufacture of a polyethylene-moroporous film by the "solvent stretch" method.

Kristallijn polyethyleen met een smeltindex van 5,0; een gemiddeld mol.gew. op gewichtsbasis van 80 000 enCrystalline polyethylene with a melt index of 5.0; an average molecular weight. on a weight basis of 80 000 and

OO

een dichtheid van 0,960 g/cm en een mol.gew. verdelingverhouding van 9,0 wordt bereid door de geblazen filmextrudeermethode voor het vormen van een voorloperfilm (dikte 0,076 mm) die men laat afkoelen door afschrikken in lucht bij 25°C. Een monster van de verkregen voorloperfilm wordt dan gedurende 1 min. gedompeld in trichloorethyleen bij 70°C en vervolgens gestrekt, terwijl hij ondergedompeld is in trichloorethyleen dat op een temperatuur van 70°C wordt gehouden, bij een streksnelheid van 150 #/min. tot k keer zijn oorspronkelijke lengte (d.w.z. 300 % totale strek). Het trichloorethyleen wordt dan door verdampen verwijderd en het monster wordt gestrekt in de dvarsrichting van de machine tot een 8004988 ho mate van strek van ongeveer 50 % waarna men het laat drogen aan de lucht in de gestrekte toestand. Het drogen wordt uitgevoerd tij 25°C.a density of 0.960 g / cm and a molecular weight. 9.0 distribution ratio is prepared by the blown film extruding method to form a precursor film (0.076 mm thickness) which is allowed to cool by quenching in air at 25 ° C. A sample of the resulting precursor film is then immersed in trichlorethylene at 70 ° C for 1 min and then stretched while immersed in trichlorethylene held at a temperature of 70 ° C at a drawing rate of 150 µm / min. up to k times its original length (i.e., 300% total stretch). The trichlorethylene is then removed by evaporation and the sample is stretched in the direction of the machine through the direction of 8004988 high stretch of about 50% and allowed to air dry in the stretched state. Drying is performed at 25 ° C.

De verkregen microporeuze film vertoont een 5 kristalliniteit van ongeveer 60 %t een gemiddelde porielengte van omstreeks 5000 & en een oppervlak van 10-25 m^/g.The obtained microporous film exhibits a crystallinity of about 60%, an average pore length of about 5000 & a surface of 10-25 m / g.

Deel hPart h

Verscheidene microporeuze filmmonsters met een dikte van 0,025 mm, vervaardigd overeenkomstig deel a, worden in 10 watervrij acrylzuur (100 %) gedompeld en de film wordt doorschijnend* De monsters laat men drogen tot de film een wit ondoorzichtig uiterlijk verkrijgt, en dit uiterlijk is een aanduiding van de geschikte hoeveelheid monomeerdeklaag die in staat is een hechting van ongeveer 1,5 1 te bereiken. De verkregen 15 monsters worden dan onder een verlengd elektronenstraalgordijn (d.w.z. met een lengte van 30 cm) gevoerd en bestraald met verschillende doses straling, terwijl de atmosfeer onder het raam en in aanraking met de microporeuze film op minder dan 500 ppm zuurstof wordt gehouden op de wijze als toegepast in 20 voorbeeld X. De verkregen geharde films worden getest op Gurley luchtstroom, elektrische weerstand (na 2h uur onderdompelen in een 1*0 £-ige Κ0Η oplossing bij 60°C en bevochtigbaarheid volgens de druppelproef op de wijze als beschreven in voorbeeld I. De resultaten zijn samengevat in tabel B als loop no*s 1-8.Several 0.025 mm thick microporous film samples, manufactured in accordance with part a, are dipped in anhydrous acrylic acid (100%) and the film becomes translucent * The samples are allowed to dry until the film acquires a white opaque appearance, and this appearance is a designation of the appropriate amount of monomer coating capable of achieving approximately 1.5 L adhesion. The resulting samples are then passed under an extended electron beam curtain (ie, 30 cm long) and irradiated with different doses of radiation, while the atmosphere under the window and in contact with the microporous film is kept at less than 500 ppm oxygen on the method as used in Example X. The cured films obtained are tested for Gurley air flow, electrical resistance (after immersion in a 1 * 0 *-Κ0Η solution at 60 ° C for 2 h and wettability according to the drop test in the manner described in example I. The results are summarized in table B as loop no * s 1-8.

25 Het percentage hechting van de verkregen geharde filmmonsters wordt ook bepaald met infraroodanalyse en de resultaten zijn vermeld in tabel B.The percent adhesion of the obtained cured film samples is also determined by infrared analysis and the results are shown in Table B.

Zoals blijkt uit de resultaten in tabel B, loopno's k en 7 is de elektrische weerstand oneindig en de 30 monsters worden niet nat. Aangenomen word^&eze resultaten moeten worden toegeschreven aan het gebruik van een te geringe dosis straling om chemische hechting tot stand te brengen. Derhalve wordt aangenomen, dat het hydrofiele monomeer verdampt, zoals blijkt uit het gebrek aan enige meetbare hechting met een 35 daaruit voortvloeiend verlies aan eigenschappen.As can be seen from the results in Table B, loops k and 7, the electrical resistance is infinite and the 30 samples do not get wet. These results are believed to be attributed to the use of too low a dose of radiation to effect chemical adhesion. It is therefore believed that the hydrophilic monomer evaporates, as evidenced by the lack of any measurable adhesion with a consequent loss of properties.

800 4 98 8 1*1800 4 98 8 1 * 1

De filmmonsters van loopno's 1, 2, 5, 6 en 8 vertonen geringe elektrische weerstand en zijn bevochtigbaar.The film samples of loops 1, 2, 5, 6 and 8 show little electrical resistance and are wettable.

De hogere elektrische weerstand van het filmmonster van loopno. 3 wordt toegeschreven aan een visueel waargenomen inhomogeniteit 5 in de film. Bovendien vertonen deze filmmonsters, waarin chemische hechting plaats vindt, zoals blijkt uit een 1,5 %-ige hechting, slechts een geringe daling van luchtdoorlaatbaarheid. Dit wijst erop, dat da poriën na chemische hechting onverstopt blijven.The higher electrical resistance of the film sample from loopno. 3 is attributed to a visually perceived inhomogeneity 5 in the film. Moreover, these film samples in which chemical adhesion takes place, as can be seen from a 1.5% adhesion, show only a slight drop in air permeability. This indicates that the pores remain unblocked after chemical bonding.

8004968 k2 <U +3 •ti co M <U - ^ ΐ S § 3 Ö p <D atejceaiaJeJOJeJ ό O ft tj ·Γ) ·ι β ,Γ5 ·η β. -Γ3 ·Η g g*8004968 k2 <U +3 • ti co M <U - ^ ΐ S § 3 Ö p <D atejceaiaJeJOJeJ ό O ft tj · Γ) ·ι β, Γ5 · η β. -Γ3 ·g g *

Sr «Sr «

pq nö Ppq nö P

bObO

HH

λ \fl O 4 CO VO ¢0 o voaJ \oj-ao rovot-p-c— > A] rt 0)λ \ fl O 4 CO VO ¢ 0 o voaJ \ oj-ao rovot-p-c—> A] rt 0)

t_ OOOOOOOO bOt_ OOOOOOOO bO

&4 I& 4 I

Π s -° p ra h co in o o o in cΠ s - ° p ra h co in o o o in c

0<0 4^(0(0^4^(0 W0 <0 4 ^ (0 (0 ^ 4 ^ (0 W.

___O g >00000000 o §___O g> 00000000 o §

bObO

i 8 .i 8.

£ t 'C£ t

Λ OO.

<u VD ·* i{ Λ I _ ^ 0 t) 8 _ *2 pa mep ia o λ o m o ö ö<u VD · * i {Λ I _ ^ 0 t) 8 _ * 2 pa mep ia o λ o m o ö ö

•H 3 o 5 * 5 ‘H• H 3 o 5 * 5 "H

Hk-pTCCOt-'-tf^O-a-gon +? ,, to p w H vo >- <“ f ·£ P M U H m ·* <e <ü 41 -H SJ ®Hk-pTCCOt -'- tf ^ O-a-gon +? ,, to p w H vo> - <“f · £ P M U H m · * <e <ü 41 -H SJ ®

επ H o s g *Jεπ H o s g * J

(¾ ·* g 0} <L>(¾ · * g 0} <L>

P bOP bO

1 . o Q1. o Q

ra — ” 1 « -g *g jlra - ”1« -g * g jl

5 m ?! -P G5 m?! -P G

H *rt Ö 04 CM M *HH * rt Ö 04 CM M * H

cd ca to enr-m^ent-^r- vcd ca to enr-m ^ ent- ^ r- v

Lom t— t— HGLom t— t— HG

® 8 UJ <u bO fi o 3 Λ S> I * Η ^ ej to 0¾¾ (a® 8 UJ <u bO fi o 3 Λ S> I * Η ^ ej to 0¾¾ (a

S 'Ü bOS'Ü bO

O Bj Ö o] ρ<·Η ia ia ia tn tn inO Bj Ö o] ρ <· Η ia ia ia tn tn in

Ci (U H « » * · · «* p P flj T-r-T-ar-r-Qr- a> uCi (U H «» * · · «* p P flj T-r-T-ar-r-Qr- a> u

bO U PbO U P

§3 ra 3 4)§3 ra 3 4)

<ί N P<P N P

& .&.

ς> k t-cycoj-envob-oo 8004988ς> k t-cycoj-envob-oo 8004988

Claims (11)

1. Werkwijze voor het hydrofiel maken van een normaal hydrofobe polyolefinische nicroporeuze film, verbeteren van de waterstromingssnelheid daardoor en verlagen van de ^ elektrische weerstand daarvan, met het kenmerk» dat men (a) het oppervlak van de microporiën van een normaal hydrofobe polyolefinische, opencellige microporeuze film, die een verlaagde stortdichtheid heeft in vergelijking met de stortdichtheid van een voorloperfilm waaruit deze vervaardigd 10 is, een gemiddelde poriegrootte van 200-10 000 & aan een opper- vlak van tenminste 10 m /g bekleedt met tenminste een hydrofiel organisch koolwaterstofmonomeer met 2-18 koolstofatomen, dat tenminste êên ethylenisch onverzadigde binding en tenminste êên polaire funktionele groep bevat, en 15 (b) op het oppervlak van de microporiën van de microporeuze film een hoeveelheid van dit hydrofiele organische koolwaterstofmonomeer chemisch vastzet die voldoende is om de opencellige aard van de microporiën te handhaven en voldoende is voor het verkrijgen van een hechting van 20 0,1-10 gew.$, betrokken op het gewicht van de niet beklede poreuze film, door bestraling van de beklede microporeuze film uit (a) met 1-10 megarad ioniserende straling.1. A method of hydrophilizing a normal hydrophobic polyolefinic nicroporous film, improving its water flow rate and decreasing its electrical resistance, characterized in that (a) the surface of the micropores of a normal hydrophobic polyolefinic open cell microporous film, which has a reduced bulk density compared to the bulk density of a precursor film from which it is made, an average pore size of 200-10,000 & coated on a surface of at least 10 m / g with at least one hydrophilic organic hydrocarbon monomer having 2-18 carbon atoms, which contains at least one ethylenically unsaturated bond and at least one polar functional group, and 15 (b) chemically fixes on the surface of the micropores of the microporous film an amount of this hydrophilic organic hydrocarbon monomer sufficient to be of open-cell nature of the micropores and is sufficient for obtaining an adhesion of 0.1-10 wt.%, based on the weight of the uncoated porous film, by irradiating the coated microporous film from (a) with 1-10 megarad of ionizing radiation. 2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat men een hydrofiel organisch koolwaterstofmonomeer gebruikt 25 dat 2-lk koolstofatomen bevat en als polaire funktionele groep tenminste ëên carboxy, sulfo, sulfino, hydroxy, ammonio, amino of fosfonogroep.2. Process according to claim 1, characterized in that a hydrophilic organic hydrocarbon monomer containing 2-1k carbon atoms is used and as a polar functional group at least one carboxy, sulfo, sulfino, hydroxy, ammonio, amino or phosphono group. 3. Werkwijze volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat men als hydrofiel organisch koolwaterstof-30 monomeer een ongesubstitueerd of alkyl gesubstitueerd acrylzuur, een vinylester, vinylether of mengsel daarvan gebruikt. U. Werkwijze volgens êên of meer van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat men als hydrofiel organisch koolwaterstofmonomeer acrylzuur, methacrylzuur, 35 vinylacetaat of een mengsel daarvan gebruikt. 80 0 4 98 8 1Λ3. Process according to claim 1 or 2, characterized in that an unsubstituted or alkyl-substituted acrylic acid, a vinyl ester, vinyl ether or mixture thereof is used as the hydrophilic organic hydrocarbon monomer. The process according to one or more of the preceding claims, characterized in that the hydrophilic organic hydrocarbon monomer used is acrylic acid, methacrylic acid, vinyl acetate or a mixture thereof. 80 0 4 98 8 1Λ 5. Werkwijze volgens êén of meer van de voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat men de normaal hydrofobe microporeuze film vervaardigt uit polyethyleen of polypropyleen volgens de "oplosmiddelstrek" of " droge strek" methode.Process according to one or more of the preceding claims, characterized in that the normally hydrophobic microporous film is manufactured from polyethylene or polypropylene according to the "solvent stretch" or "dry stretch" method. 6. Werkvij ze volgens één of meer van de voor gaande conclusies, met het kenmerk, dat men het oppervlak van de microporiën van de normaal hydrofobe microporeuze film chemisch vastzet met een aanhechting van hydrofiel organisch koolwaterstof-monomeer in een hoeveelheid van 0,5-2,5 gew.jS, betrokken op het 1Q gewicht van de onbeklede film.Method according to one or more of the preceding claims, characterized in that the surface of the micropores of the normally hydrophobic microporous film is chemically fixed with an adherence of hydrophilic organic hydrocarbon monomer in an amount of 0.5- 2.5 wt%, based on the 1Q weight of the uncoated film. 7. Werkwijze voor het hydrofiel maken van een opencellige, normaal hydrofobe, microporeuze film, verbeteren van de waterstromingssnelheid daardoor en verlagen van de elektrische weerstand daarvan, met het kenmerk, dat men 12 (a) het oppervlak van de microporiën van een opencellige normaal hydrofobe microporeuze film die bereid is uit polyethyleen of polypropyleen, en die een verlaagde stort-dichtheid heeft in vergelijking met de stortdichtheid van een voorloperfilm waaruit hij vervaardigd is,een kristalliniteit van meer dan 30 %, een gemiddelde poriegrootte van ^00-5000 8 en een oppervlak van tenminste 10 m/g, bekleed met tenminste êén van de hydrofiele organische koolwaterstofmonomeren acryl-zuur, methacrylzuur en vinylacetaat, en (b) een hoeveelheid van het hydrofiele monomeer 22 die voldoende is of de opencellige aard van de microporiën te handhaven en voldoende is om een aanhechting van 0,1-10 gew./ί, betrokken op het gewicht van de onbeklede microporeuze film, chemisch vastzet op het oppervlak van de microporiën van de microporeuze film, door bestralen van de beklede microporeuze 2Q film uit trap (a) met 1-10 megarad ioniserende straling.7. A method of hydrophilizing an open-cell, normally hydrophobic, microporous film, improving its water flow rate and decreasing its electrical resistance, characterized in that 12 (a) the surface of the micropores is of an open-cell normal hydrophobic microporous film made from polyethylene or polypropylene, which has a reduced bulk density compared to the bulk density of a precursor film from which it is made, a crystallinity of more than 30%, an average pore size of 0000-5000 en and a surface of at least 10 m / g, coated with at least one of the hydrophilic organic hydrocarbon monomers acrylic acid, methacrylic acid and vinyl acetate, and (b) an amount of the hydrophilic monomer 22 that is sufficient to maintain the open-cell nature of the micropores and sufficient is to chemically tighten an adherence of 0.1-10 wt / lb based on the weight of the uncoated microporous film p the surface of the micropores of the microporous film, by irradiating the coated microporous 2Q film from step (a) with 1-10 megarad ionizing radiation. 8. Hydrofiele opencellige microporeuze film, bestaande uit , (a) een opencellige normaal hydrofobe microporeuze film met een verlaagde stortdichtheid in vergelijking 22 met de stortdichtheid van een voorloperfilm waaruit hij 800 4 98 8 vervaardigd is, een gemiddelde poriegrootte van 200 - 10 000 S en een oppervlak van tenminste 10 m /g en (b) een deklaag op het oppervlak van de microporiën van de microporeuze film van tenminste één hydrofiel 5 organisch koolwaterstofmonomeer met 2-18 koolstofatomen dat tenminste één ethylenisch onverzadigde binding en tenminste één polaire funktionele groep bevat, waarbij de hydrofiele organische koolwaterstofmonomeerdeklaag chemisch is vastgezet op het oppervlak van de microporiën -ran de microporeuze film door bloot- 10 stelling aan 1-10 megarad ioniserende straling en in een hoeveel heid die voldoende is om de opencellige aard van de microporeuze film te handhaven en een aanhechting te verkrijgen van 0,1-10 gew.% betrokken op het gewicht van de onbeklede microporeuze film. 9. hydrofiele microporeuze film volgens 15 conclusie 8, met het kenmerk, dat het hydrofiele organische koolwaterstofmonomeer 2-1U koolstofatomen bevat en tenminste één polaire funktionele groep die bestaat uit een carboxy, sulfo, sulfino, hydroxy, ammdnio, amino of fosfonogroep. 10. hydrofiele microporeuze film volgens 20 conclusie 8, met het kenmerk, dat het hydrofiele organische koolwaterstofmonomeer bestaat uit een ongesubstitueerd of alkyl gesubstitueerd acrylzuur, een ongesubstitueerde of alkyl-gesubstitueerde vinylester of een mengsel daarvan.8. Hydrophilic open-cell microporous film consisting of, (a) an open-cell normal hydrophobic microporous film with a reduced bulk density compared to 22 with the bulk density of a precursor film from which it is made 800 4 98 8, an average pore size of 200 - 10,000 S and a surface of at least 10 m / g and (b) a surface coating on the micropores of the microporous film of at least one hydrophilic organic hydrocarbon monomer of 2-18 carbon atoms containing at least one ethylenically unsaturated bond and at least one polar functional group wherein the hydrophilic organic hydrocarbon monomer coating is chemically attached to the surface of the micropores of the microporous film by exposure to 1-10 megarad of ionizing radiation and in an amount sufficient to maintain the open-cell nature of the microporous film and obtaining an adherence of 0.1-10% by weight based on the weight of the uncoated microporous film. 9. A hydrophilic microporous film according to claim 8, characterized in that the hydrophilic organic hydrocarbon monomer contains 2-1U carbon atoms and at least one polar functional group consisting of a carboxy, sulfo, sulfino, hydroxy, ammnio, amino or phosphono group. 10. A hydrophilic microporous film according to claim 8, characterized in that the hydrophilic organic hydrocarbon monomer consists of an unsubstituted or alkyl-substituted acrylic acid, an unsubstituted or alkyl-substituted vinyl ester or a mixture thereof. 11. Hydrofiele microporeuze film volgens 25 conclusie 8, met het kenmerk, dat het hydrofiele organische koolwaterstofmonomeer bestaat uit acrylzuur, methacrylzuur, vinyl' acetaat of een mengsel daarvan . 12. hydrofiele microporeuze film volgens conclusie 8, met het kenmerk, dat de normaal hydrofobe polymere micro- 30 poreuze film bestaat uit polypropyleen of polyethyleen en vervaardigd is volgens de "oplosmiddelstrek” of " droge strek” methode.11. A hydrophilic microporous film according to claim 8, characterized in that the hydrophilic organic hydrocarbon monomer consists of acrylic acid, methacrylic acid, vinyl acetate or a mixture thereof. 12. A hydrophilic microporous film according to claim 8, characterized in that the normally hydrophobic polymeric microporous film consists of polypropylene or polyethylene and is manufactured by the "solvent stretch" or "dry stretch" method. 13. Hydrofiele microporeuze film volgens conclusie 8, met het kenmerk, dat het hydrofiele monomeer chemisch is 35 vastgezet op het oppervlak van de microporiën met een aanhechting 800 4 98 8 1*6 van 0,5-2,5 gew.Jï, "betrokken op het gewicht van de onbeklede microporeuze film. 1U. Hydrofiele opencellige microporeuze film bestaande uit 5 (a) een normaal hydrofoob opencellige micro poreuze film, bereid volgens de "oplosmiddelstrek" of "droge strek" methode uit polyethyleen of polypropyleen, waarbij de film een verlaagde stortdichtheid heeft in vergelijking met de stortdichtheid van een voorloperfilm waaruit hij ver-10 vaardigd is, een kristalliniteit bezit van tenminste 30 %, een gemiddelde poriegrootte heeft van UOO-5000 £ en een oppervlak o van tenminste 10 m /g, en (b) een deklaag op het microporieoppervlak van de microporeuze film van tenminste één hydrofiel organisch 15 koolwaterstofmonomeer met 2-18 koolstofatomen, bestaande uit een ongesubstitueerd-of-alkyl gesubstitueerd acrylzuur, een ongesubstitueerde of alkyl gesubstitueerde vinylester of een mengsel daarvan, waarbij de hydrofiele organische koolwaterstof-monomeerdeklaag chemisch is vastgezet op het oppervlak van de - 20 microporiën door blootstelling aan ioni serende straling van 2-5 megarad en in een hoeveelheid die voldoende is om de opencellige aard van de microporiën van de microporeuze film te handhaven en een aanhechting te verkrijgen van 0,1-10 gev.%, betrokken op het gewicht van de onbeklede microporeuze film.13. Hydrophilic microporous film according to claim 8, characterized in that the hydrophilic monomer is chemically fixed on the surface of the micropores with an adhesion 800 4 98 8 1 * 6 of 0.5-2.5 wt%, " based on the weight of the uncoated microporous film 1U Hydrophilic open cell microporous film consisting of 5 (a) a normal hydrophobic open cell microporous film, prepared by the "solvent stretch" or "dry stretch" method of polyethylene or polypropylene, the film has a reduced bulk density compared to the bulk density of a precursor film from which it is made, has a crystallinity of at least 30%, has an average pore size of UOO-5000 lb and a surface o of at least 10 m / g, and ( b) a coating on the micropore surface of the microporous film of at least one hydrophilic organic hydrocarbon monomer of 2-18 carbon atoms, consisting of an unsubstituted-or-alkyl substituted acrylic acid, an unsubstituted or alkyl substituted vinyl ester or a mixture thereof, wherein the hydrophilic organic hydrocarbon monomer coating is chemically attached to the surface of the micropores by exposure to 2-5 megarads of ionizing radiation and in an amount sufficient to maintain the open-cell nature of the micropores of the microporous film and obtain an adhesion of 0.1-10% by weight, based on the weight of the uncoated microporous film. 15. Hydrofiele microporeuze film volgens conclusie 1^, met het kenmerk, dat het hydrofiele monomeer bestaat uit acrylzuur, methacrylzuur, vinylacetaat of een mengsel daarvan waarbij het hydrofiele monomeer op het oppervlak van de microporiën aanwezig is in een hoeveelheid van 0,5 - 2gew.$, 30 betrokken op het gewicht van de onbeklede microporeuze film.Hydrophilic microporous film according to claim 1, characterized in that the hydrophilic monomer consists of acrylic acid, methacrylic acid, vinyl acetate or a mixture thereof, the hydrophilic monomer being present on the surface of the micropores in an amount of 0.5-2 wt. $ 30 based on the weight of the uncoated microporous film. 16. Hydrofiele microporeuze film, zoals hierin beschreven. 80 0 4 98 816. Hydrophilic microporous film as described herein. 80 0 4 98 8
NLAANVRAGE8004988,A 1979-09-04 1980-09-03 HYDROFILE OPEN-CELL MICROPOROUS FILM AND A METHOD FOR THE MANUFACTURE THEREOF. NL190075C (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US7164479A 1979-09-04 1979-09-04
US7164479 1979-09-04

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL8004988A true NL8004988A (en) 1981-03-06
NL190075B NL190075B (en) 1993-05-17
NL190075C NL190075C (en) 1993-10-18

Family

ID=22102655

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE8004988,A NL190075C (en) 1979-09-04 1980-09-03 HYDROFILE OPEN-CELL MICROPOROUS FILM AND A METHOD FOR THE MANUFACTURE THEREOF.

Country Status (16)

Country Link
JP (1) JPS5638333A (en)
KR (1) KR830001538B1 (en)
AU (1) AU6193880A (en)
BE (1) BE885063A (en)
BR (1) BR8005590A (en)
CA (1) CA1152942A (en)
CH (1) CH648576A5 (en)
DD (1) DD153884A5 (en)
DE (1) DE3032380A1 (en)
FR (1) FR2464277A1 (en)
GB (1) GB2058802B (en)
IL (1) IL60966A (en)
IT (1) IT1132617B (en)
NL (1) NL190075C (en)
PL (1) PL226579A1 (en)
SE (1) SE450706B (en)

Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5657836A (en) * 1979-10-16 1981-05-20 Asahi Chem Ind Co Ltd Porous hydrophilic polyolefin resin membrane and its preparation
DE3043073C2 (en) * 1980-11-14 1984-07-05 Fresenius AG, 6380 Bad Homburg Filtration membrane and method for hydrophilization
DE3116738C2 (en) * 1981-04-28 1984-07-05 Fa. Carl Freudenberg, 6940 Weinheim Separator for electrochemical energy storage and process for its production
CA1226112A (en) * 1982-09-09 1987-09-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Microporous sheet material, method of making and articles made therewith
WO1985001222A1 (en) * 1983-09-12 1985-03-28 Memtec Limited Treatment of porous membranes
AU570508B2 (en) * 1983-09-12 1988-03-17 Memtec Limited Hydrophyllic ultra filter
US4618533A (en) * 1984-11-30 1986-10-21 Millipore Corporation Porous membrane having hydrophilic surface and process
JPS61161103A (en) * 1985-01-10 1986-07-21 Terumo Corp Hydrophilic porous membrane and its preparation
JPS61271003A (en) * 1985-05-27 1986-12-01 Asahi Medical Co Ltd Hydrophilic compound porous membrane and its preparation
US4678813A (en) * 1985-11-11 1987-07-07 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Hydrophilized porous polyolefin membrane and production process thereof
US4695592A (en) * 1986-01-07 1987-09-22 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Hydrophilized porous membrane and production process thereof
JPS62253638A (en) * 1986-04-28 1987-11-05 Idemitsu Kosan Co Ltd Modification of polyolefin based porous substrate
JPS62262705A (en) * 1986-05-07 1987-11-14 Agency Of Ind Science & Technol Hydrophilic porous membrane, its production and serum separator using said membrane
JPH089668B2 (en) * 1986-10-14 1996-01-31 東レ株式会社 Hydrophilized film and method for producing the same
US4906374A (en) * 1986-12-23 1990-03-06 Pall Corporation Filtration media with low protein adsorbability
JPH0621181B2 (en) * 1987-01-12 1994-03-23 テルモ株式会社 Method for producing hydrophilic polyvinylidene fluoride porous membrane
JPH082994B2 (en) * 1987-03-12 1996-01-17 日本原子力研究所 Method for producing modified open-cell polyolefin foam
US4886836A (en) * 1987-06-03 1989-12-12 Pall Corporation Activated medium with low non-specific protein adsorption
US4950549A (en) * 1987-07-01 1990-08-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polypropylene articles and method for preparing same
CA1299515C (en) * 1987-07-01 1992-04-28 Daniel E. Meyer Non-crystalline mesomorphous polypropylene articles with monomer graft and method for preparing same
US4828700A (en) * 1987-07-20 1989-05-09 The Dow Chemical Company Rejection enhancing coatings for reverse osmosis membranes
JPH0829234B2 (en) * 1987-07-27 1996-03-27 旭化成工業株式会社 Hydrophilic microporous membrane
US4976897A (en) * 1987-12-16 1990-12-11 Hoechst Celanese Corporation Composite porous membranes and methods of making the same
US5102552A (en) * 1987-12-16 1992-04-07 Hoechst Celanese Corporation Membranes from UV-curable resins
CA1314666C (en) * 1988-06-13 1993-03-23 Kazuo Toyomoto Selectively ion-adsorptive, porous membrane
US4885077A (en) * 1988-11-17 1989-12-05 Becton, Dickinson And Company Composite membrane, method for its preparation and electrolyte sensor including same
US5258419A (en) * 1989-06-26 1993-11-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Methods of preparing radiation resistant heat sealable polymer blends
US5140073A (en) * 1989-06-26 1992-08-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Radiation resistant heat sealable polymer blends of compatible polymers and methods of preparing same
US5209984A (en) * 1989-06-26 1993-05-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Films of radiation resistant heat sealable polymer blends having a surface adhesion layer grafted thereto
JP2798267B2 (en) * 1989-07-21 1998-09-17 テルモ株式会社 Gamma-ray sterilizable hydrophilized porous material
US5180492A (en) * 1989-07-21 1993-01-19 Terumo Kabushiki Kaisha Hydrophilic porous material sterilizable with gamma-ray
US4944879A (en) * 1989-07-27 1990-07-31 Millipore Corporation Membrane having hydrophilic surface
DE69207020T2 (en) * 1991-02-08 1996-06-13 Mitsubishi Rayon Co Porous hollow fiber membrane made of polypropylene and its manufacture
JPH0523296U (en) * 1991-08-31 1993-03-26 ホーチキ株式会社 Telephone device for fire alarm system
DE19620634C2 (en) * 1996-05-22 1998-08-27 Fraunhofer Ges Forschung Process for the production of adhesion-promoting layers on plastic surfaces
GB2325467B (en) * 1997-05-21 2000-11-01 Dainippon Ink & Chemicals Process for producing material with hydrophilic surface
US6796645B2 (en) * 1999-12-06 2004-09-28 Canon Kabushiki Kaisha Surface reformed fiber body, liquid container using fiber absorber, and method of producing fiber absorber for use in liquid ejection
DE10055084A1 (en) * 2000-11-07 2002-06-13 Basf Ag Flexible, open-celled, microcellular polymer foams
JP4521978B2 (en) * 2000-11-08 2010-08-11 キヤノン株式会社 Ink tank, ink jet recording apparatus
US6734386B1 (en) 2001-09-24 2004-05-11 Meissner Filtration Products, Inc. Method for rendering PVDF membrane hydrophilic
JP4016712B2 (en) * 2002-05-13 2007-12-05 株式会社ジーエス・ユアサコーポレーション Lithium ion conductive polymer electrolyte and polymer electrolyte battery using the same
JP5320464B2 (en) * 2008-11-17 2013-10-23 東レバッテリーセパレータフィルム株式会社 Microporous membranes and methods for making and using such membranes
US10167373B2 (en) 2015-03-18 2019-01-01 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Polyamide resin foam shaped product and method of producing polyamide resin foam shaped product
CN105694322A (en) * 2016-01-20 2016-06-22 广州立白企业集团有限公司 Water-soluble thin film with good water dissolving performance and small bag prepared from water-soluble thin film
CN106268366A (en) * 2016-08-08 2017-01-04 天津工业大学 The preparation method and applications of modified polypropene hollow-fibre membrane
CN113171692A (en) * 2021-04-12 2021-07-27 苏州优可发膜科技有限公司 Preparation method of polytetrafluoroethylene hydrophilic membrane

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5644098B2 (en) * 1973-12-28 1981-10-17
JPS5479426A (en) * 1977-12-08 1979-06-25 Seiko Instr & Electronics Separator for alkali primary cell

Also Published As

Publication number Publication date
GB2058802B (en) 1984-02-01
JPS5638333A (en) 1981-04-13
GB2058802A (en) 1981-04-15
AU6193880A (en) 1981-03-12
FR2464277B3 (en) 1982-07-02
BE885063A (en) 1981-03-03
IT8024411A0 (en) 1980-09-02
IT1132617B (en) 1986-07-02
NL190075C (en) 1993-10-18
IL60966A0 (en) 1980-11-30
DE3032380A1 (en) 1981-03-19
JPH021177B2 (en) 1990-01-10
FR2464277A1 (en) 1981-03-06
DD153884A5 (en) 1982-02-10
IL60966A (en) 1983-11-30
KR830003287A (en) 1983-06-18
KR830001538B1 (en) 1983-08-10
CA1152942A (en) 1983-08-30
CH648576A5 (en) 1985-03-29
DE3032380C2 (en) 1992-12-17
PL226579A1 (en) 1981-05-22
NL190075B (en) 1993-05-17
SE450706B (en) 1987-07-20
BR8005590A (en) 1981-05-12
SE8006151L (en) 1981-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL8004988A (en) HYDROFILE MONOMER-TREATED MICROPOROUS FILMS.
US4346142A (en) Hydrophilic monomer treated microporous films and process
JP5491402B2 (en) Hydrophilic porous substrate
US5232642A (en) Process of making porous polypropylene hollow fiber membrane of large pore diameter
JP5580342B2 (en) Hydrophilic porous substrate
US4359510A (en) Hydrophilic polymer coated microporous membranes capable of use as a battery separator
Wang et al. Plasma-induced immobilization of poly (ethylene glycol) onto poly (vinylidene fluoride) microporous membrane
US5294338A (en) Porous polyethylene hollow fiber membrane of large pore diameter, production process thereof, and hydrophilized porous polyethylene hollow fiber membranes
US4438185A (en) Hydrophilic polymer coated microporous membranes capable of use as a battery separator
US4257997A (en) Solvent stretch process for preparing a microporous film
JP2011522090A (en) Method for producing a ligand-functionalized substrate
JP2011523965A (en) Ligand functionalized substrate
US4775474A (en) Membranes containing microporous structure
EP2559806A1 (en) Method for increasing the hydrophilicity of polymeric materials
EP0571953A1 (en) Hydrophilic fiber sheet and process for producing the same
US3666517A (en) Porous article
EP1492630A1 (en) Preparation of superabsorbent materials by plasma modification
JP4854961B2 (en) Method for preparing a porous polymer article
JPH07124454A (en) Separation membrane and separation
JPH03193125A (en) Heat-resistant porous membrane and manufacture thereof
Fritzsche Effect of ionizing radiation on styrene/acrylonitrile copolymer hollow fiber membranes

Legal Events

Date Code Title Description
A85 Still pending on 85-01-01
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee