NL7907294A - Drukmeter met een rekstrookopnemer. - Google Patents

Drukmeter met een rekstrookopnemer. Download PDF

Info

Publication number
NL7907294A
NL7907294A NL7907294A NL7907294A NL7907294A NL 7907294 A NL7907294 A NL 7907294A NL 7907294 A NL7907294 A NL 7907294A NL 7907294 A NL7907294 A NL 7907294A NL 7907294 A NL7907294 A NL 7907294A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
substrate
resistors
clamped
membrane
screen printing
Prior art date
Application number
NL7907294A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Magneti Marelli Spa
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from IT28682/78A external-priority patent/IT1101056B/it
Priority claimed from IT1923679A external-priority patent/IT1164955B/it
Application filed by Magneti Marelli Spa filed Critical Magneti Marelli Spa
Publication of NL7907294A publication Critical patent/NL7907294A/nl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C10/00Adjustable resistors
    • H01C10/10Adjustable resistors adjustable by mechanical pressure or force
    • H01C10/106Adjustable resistors adjustable by mechanical pressure or force on resistive material dispersed in an elastic material
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L1/00Measuring force or stress, in general
    • G01L1/20Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress
    • G01L1/22Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges
    • G01L1/2287Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges constructional details of the strain gauges
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0051Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance
    • G01L9/0052Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance of piezoresistive elements
    • G01L9/0055Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance of piezoresistive elements bonded on a diaphragm
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0051Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance
    • G01L9/006Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in ohmic resistance of metallic strain gauges fixed to an element other than the pressure transmitting diaphragm
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01PMEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
    • G01P15/00Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
    • G01P15/02Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
    • G01P15/08Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
    • G01P15/12Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values by alteration of electrical resistance
    • G01P15/123Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values by alteration of electrical resistance by piezo-resistive elements, e.g. semiconductor strain gauges

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Measurement Of Force In General (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)

Description

* ïr.f -1- T93^2/Ti/M/vL·
Aanvraagster: Fabbriea.Italiana Magneti Marelli S.p.A.
Via Guastalla 2, Milaan, Italië
Korte aanduiding: Drukmeter met een rekstrookopnemer
De uitvinding beeft betrekking op een drukmeter met een rekstrook-opnemer, en in het bijzonder van de soort met een aan de te meten druk onderworpen vervormbaar substraat met daarop een rekstrookje, en een elektrische keten, die in staat is de weerstandsveranderingen daarvan in over-5 eenstenming met de rek van het substraat vast te stellen.
In deze inrichtingen geeft de rek, die wordt-veroorzaakt door de uitoefening van een druk of belasting op het substraat, een verandering in de afmetingen van de weerstanden' en van de elektrische eigenschappen daarvan en dienovereenkomstig een verandering van de weerstandswaarde daarvan.
10 Een dergelijke, verandering wordt waargenomen door een met de weer standen verbonden elektrische of elektronische keten .ter verkrijging van signalen, die evenredig zijn met de rek van het substraat en dienovereenkomstig met de daarop uitgeoefende druk.
De bekende inrichtingen voor het meten van drukken of spanningen 15 gebruiken voor de rekopnemers metalen. draden, ononderbroken..metalen films, discontinue metalen films, cermets en. halfgeleiders.
Het effekt van de verandering in elektrisch weerstandswaarde van de genoemde elementen als gevolg van rek is bekend als "rekweerstand" of "piëzoweerstand".
20 Een ideale, rekopnemer moet uiteraard een belangrijk, piëzoweerstands- effekt met een lage warmteweerstandseffekt hebben. In het bijzonder moet het voor het eerste effekt (rekgevoeligheid) een hoge opneemfaktor GF = (waarin Ro en R resp. de weerstandswaarden zijn van de ongerekte S Ro ^ 1 en gerekte weerstanden en € = —— de relatieve verlenging van het ele- 25 ment is) hebben en voor het tweede effekt (thermische stabiliteit) moet het /\ voor zowel de temperatuurcoeffieient van de weerstand TCR = p a m (waarin —-— de relatieve weerstandsverandering is voor een temperatuursver ande-
ring Δ t) als voor de temperatuurcoeffieient van de opneemfaktor GF GF
——w—— (waarin ——— de relatieve verandering van GF is voor een Ur 1 Gr 30 temperatuursverandering Δ1) lage waarden hebben.
In het algemeen zijn de eigenschappen van bekende rekopnemers steek afhankelijk van de struktuur en samenstelling van de gebruikte weerstanden.
790 72 94 » — ♦ -2-
De waarden Tan de meest "belangrijke coëfficiënten Toor de "bekende rekopnemers van de voornoemde soort is in de hierna volgende tabel getoond.
. . . 1AB1L............
5 Weerstanden GF TCR TCGF Lange termijn .......ppm/°C.........ppm/?C......stabiliteit
Metaaldraden 2-5 20-4000 . 20-100 . Uitmuntend
Ononderbroken metaalfilms 2-5 20-4000 . 20-100 Goed 10 Onderbroken metaalfilms· 100' . 1000 --- Zeer slecht
Cermet 100 1000 --- Slecht
Halfgeleiders . 40-175 400-9000'.........200-5000.......Goed
Uit de vergelijking van de eigenschappen blijkt.,., dat discontinue 15 metaalfilms en. cermets geen. breed; toepassingsgebied kunnen hebben, tengevolge van de onvoldoende tijdafhankelijke stabiliteit van de elektrische en piëzoweerstandeigenschappen. Metaaldraden., en continue metaalfilms worden gebruikt indien de rekgevóeligheid (GF) geen kritische eis is maar een goed thermisch gedrag essentieel is (lage TCR en TCGF), terwijl half-20 geleiders worden gebruikt voor de hoge,rekgevóeligheid daarvan, hoewel tengevolge van.de hoge waarde van. TCR en TCGF het vaak noodzakelijk is uitgebreide en dure temperatuurccmpensatiemiddelen, daarbij..,te gebruiken.
Bij gebruik van .rekopnemers met.: een...mataalf ilm. of. halfgeleider is het verder moeilijk om een. goede aanpassing te. vinden tussen het substraat 25 en de·rekopnemer. Beide moeten,dezelfde, thermische, lineaire..uitzettings-coëfficiënt hebben.ter vermijding, van het.optreden van een. ogenschijnlijke rek (niet tengevolge van het optreden van. mechanische, rek) .tengevolge van de relatieve .verlengingen, door temperatuursveranderingen indien het substraat en de rekopnemer verschillende thermische uitzettingscoëffi-30 ciënten hebben.
De uitvinding heeft ten doel een. inrichting voor het meten van druk te verschaffen, waarin de rekstrookopnemer. een hoge rekgevóeligheid, een optimale thermische, stabiliteit,., en een zeer goede thermische en mechanische koppeling tussen de .weerstanden, en het.substraat heeft.
35 Daartoe wordt een rekopnemer gebruikt, die bestaat uit.een of meer dikke filmweerstanden die door middel van zeefdruk en inbranden op een geschikt substraat zijn aangebracht.
790 7 2 9 4 * -Jt -3-
De uitvinding wordt toegelieht aan. de hand van de tekening: fig. 1 is een per spektivisch, aanzicht; van een.eerste uitvoeringsvorm van een.weerstandsrekopnemer volgens de uitvinding; fig. 2 is een dwarsdoorsnede, van. een tweede uitvoeringsvorm; 5 fig. 3 is een bovenaanzicht , van. de rekopnemer volgens fig. 2; * fig. 4 toont de elektrische..keten (Wheatstone hrug) voor de bepaling van de op het substraat uitgeoefende druk; en fig. 5 is een variant op de uitvoeringsvorm volgens fig. 2.
In fig. 1 is een geschikt substraat 1 van bij-voorbeeld keramisch 10 materiaal getoond,, die aan een vrije rand. is ingeklemd en waarbij op de vrije rand de vast te stellen kracht. F wordt uitgeoefend.
Volgens de uitvinding bestaat een op. een dergelijk substraat aangebrachte rekstrookopnemerw uit. de dikke, filmweerstanden R^, R^ en Rg, R^, die door middel, van. zeefdruk’, en inbranden op de twee tegenovergelegen zij-15 den van het substraat en dicht bij de verbinding, zijn aangebracht.
Volgens de figuur, zijn de- weerstanden. R^ en R^ °p de bovenzijde van het substraat aangebracht' en zijn de. weerstanden R^ en R^'in de punten R^ en R^ op de onderzijde (niet getoond) aangebracht.
Tengevolge van de uitoefening van de kracht of last F wordt het 20 substraat onderworpen aan een neerwaartse doorbuiging, welke, vormverandering wordt overgebraeht naar de weerstanden R^, R^ en R^, R^, en die dienovereenkomstig de weer standswaarden, daarvan veranderd.
De weerstandswaarde van de weerstanden. R^ en R^ zullen, door de verlenging toenemen en de. weerstandswaarde van de weerstanden R^ en R^ zullen 25 door de inkorting af nemen.
Teneinde de weerstandsverandering van de weerstanden als gevolg van de vormverandering te bepalen en daaruit de. verantwoordelijke last F af te leiden worden de weerstanden R^, R^ en R^, R^ zoals getoond in fig. U in een Wheatstone brug opgenomen. De aan dezelfde soort vormverandering onder-30 hevige weerstanden worden, in tegenover gelegen, takken, van de brug opge-ncmen en de relatief opwaarts en neerwaarts, gerichte pijlen tonen de toename of afname» van de weerstandsverandering van de weerstanden aan. De weerstanden R.j, R^ en R2, R^ zijn dezelfde, zodat de brug bij een onvervormd substraat 1 (F=0) gebalanceerd is en geen signaal aan., de uitgang Vu ver-35 schijnt als een spanning aan de ingang Yi wordt gelegd.
Door uitoefening van een kracht op het substraat 1 (F^O) zal dit natuurlijk doorbuigen, raakt de brug uit balans en verschijnt een signaal 7907294 * · -liaan de .uitgang Vu., dat evenredig is met de weerstandsverandering van de . veerstanden en daar can van. de .vormverandering van .het substraat 1,'. d.v.z. van. de kracht F.
Tot nu toe was sprake van .een eenzijdig ingeklemde.,, ligger, maar het 5 is duidelijk, dat-het voorgaande eveneens geldt.in het geval.van een aan beide randen ingeklemde 'ligger , waarbij op het. middengedeelte een kracht wordt uitgeoefend. ·
In de. gewijzigde uitvoering volgens de. fig. 2 en 3 heeft het substraat de vorm van een cirkelvormig membraan 1’, die over...de .gehele rand 10' is ingeklemd en, waarop in het .midden, de kracht , F’ wordt uitgeoefend. In plaats van dat het membraan, aan. een. geconcentreerde last wordt onderworpen kan. het ook aan.een op het gehele, oppervlak, daarvan, uit te,.oefenen druk onderworpen, worden. In de gewijzigde, uitvoering, zijn. de .weerstanden R^' en R^' in.het. midden van.het membraan. aangebracht. · en,, worden verlengd, ter-15 wijl de. weerstanden R^'-en R^’ zich. eveneens aan. dezelfde zijde bevinden echter bij de buitenomtrek van. het „membraan..en. ingedrukt worden.
De booghoek tussen, de weerstanden, en R^’ langs de omtrek kan indien gewenst.en zoals getoond in fig. 3 bij voorbeeld 90° bedragen.
De weerstanden R^' en R^! kunnen volgens, fig. 5 bij de weerstanden 20 R^' en R^' in het midden opgenomen worden, aan, de.andere zijde van het substraat 1f.
Afhankelijk van de richting.; van. de uitgeoefende kracht F1' zullen de weer standswaarden! van. de .weer standen R^ *., R^* en Rg', Rj^* net. zo variëren als die van. de overeenkomende weerstanden R^, R^ en.R^,. R^ in fig. 1. 25 Zowel in het geval.van. de. struktuur-volgens, fig. 1 of die volgens de fig. 2 en 5 kan ter verbetering van de,rekgevoeligheid..het aantal en de opstelling van de. weerstanden gewijzigd worden.. De weerstanden worden daarom in die posities geplaatst, waarbij, de maximale, rek van-het substraat verkregen wordt.
30 In het geval van een aan de rand ingeklemd, membraan, is het echter nuttig indien ter verkrijging' van. een maximale, gevoeligheid,van de inrichting zelfs in het geval dat het. membraan niet ..volledig aan de, rand is ingeklemd, alle weerstanden volgens fig'. 5 in het.middengedeelte worden opgenomen.
35 Hiervoor was sprake van kraehtèn F en. Ff, die aan. een zijde van de substraten 1 èn 1 ’ werden uitgeoefend maar het is duidelijk, dat deze krachten het resultaat kunnen zijn van aan de twee zi jden van .het substraat tegengestelde krachten, waarbij het door de Wheatstone brug afgegeven 7907294 -5- * -y signaal "betrekking heeft op verschilkrachten. of -drukken.
De rek- en drukopnemers volgens de fig. 1, 2 en 5 geven, een fabri-kageverhetering van deze soort opnemers.
Zoals eerder gezegd bestaat het. actieve, gedeelte, van het rekstrook-5 element uit dikke filmveer standen, die door middel van. zeef druk op isolerende substraten zijn aangebracht, en een warmtebehandeling ondergaan volgens bekende werkwijzen bij de verkrijging van, dikke filmveer standen voor bybridemicroketens. Er zijn ter verkrijging van dikke, filmveer standen met een geschikte rekgevoeligheid vele voor.. zeef druk toepasbar e inktsoor-10 ten beschikbaar.
In het algemeen hebben zij een dielektrische component en een geleidende component. De dielektrische component of het bindmiddel kan bestaan uit boriumsilicaat,. loodboriumsilicaat,. aluminiumsilicaat of een glassoort met loodsilieaat met eventueel kleine oxydetoevoegingen zoals CdO, CagO^, 15 A12°3 etc‘
De geleidende component kan een edelmetaal-(Ag, Au, Pd), een oxyde of een legering daarvan (zoals PdO, PdO/Ag), of een geleidende oxyde van edelmetaal (zoals RuOg, Bi^Ru^Cy, Rb^RUgOg, TiOg, IrOg, etc.) zijn.
De piëzoweerstandseigensehappen zijn voer weerstanden, bestaande uit 20 verschillende inktsoorten vastgesteld en er is gebleken, dat hoe lager de concentratie van de geleider in de inkt is des te hoger de weerstands-waarde van de.weerstand en.de opneemfaktor. van het verkregen.rekstrookje zijn.
De dikke filmveer standen, hebben, een goede opneemf aktor, bij voor-25 beeld GF = 10-15a een lage thermische, coëfficiënte van de weerstandswaarde TCR ^ 30-200. ppm/°0 en een lage thermische coëfficiënte van de opneem-faktor TCGF ^ 100-Uoo ppm/°C met. een zeer goede stabiliteit en hoge ver-moeidheidsgrens voor vele rekperioden.
De rekgevoeligheid (GF) ligt daarom midden tussen die van rekstrook-30 jes met metaaldraden met de laagste en die van rekstrookjes van halfgeleiders met de hoogste gevoeligheid.
De temperatuurstabiliteit (TCR, TCGF). is verder vergelijkbaar met die van de meer stabiele metaaldraden en is duidelijk beter dan. die van halfgeleiders.
35 Een voordeel bij het gebruik van door middel van zeefdruk verkregen weerstanden is, dat zij een positieve waarde, van de opneemf aktor hebben indien zij ten opzichte van de weerstandsrichting aan transversale en 790 72 9 4 r + -6- longitudinale vormveranderingen- onderworpen worden.. De in het midden van het membraan-in eendrukmeeteenheid met een.membraan (fig.. 2. en 5) aangebrachte weerstanden,. die-tegelijkertijd, onderworpen, worden aan transversale en longitudinale rek zullen.daaram. de.. rekgevoeligheid daarvan ver-5 dubbelen.
De rekstrookjes kunnen, gevormd worden door. de weerstanden op verschillende substraten-met verschillende., mechanische, eigenschappen aan te brengen. Verschillende ker.amieksoorten, zoals aluminiumoxyde,. beryllium-oxyde, zirkoonoxyde alsook geëmailleerde.metaalfolies .zijn. voor dit doel 10. geschikt.
Hierna volgen enkele voorbeelden, van het gedrag van de druk- en rek-meeteenheden.
Door op.de vrij liggende, struktuur van. fig. 1 een. zodanige kracht uit te oefenen, dat een maximale.·. r.ek. van. 2000 ^uram/mm in de. vier in een 15 brug opgenomen. weerstanden optreedt, wordt een uitgangssignaal bij Vu van 25-30 mV/V verkregen met boriumsiliciumoxyde en Bi^ïh^O^,. glasweerstanden met. een soartelijke doorsnedeweerstand.van 10. k JX/Q. Door op de membraanstruktuur in de fig. 2 èn 5 een ..zodanige druk. uit te oefenen, dat aan de randen van. het membraan een.rek van. 2000 ^umm/mm.wordt opgewekt, 20 wordt bij gebruik van vier in. een brug opgenomen weerstanden. een uitgangssignaal van 25-30 mV/V- verkregen bij .gebruik van. boriumsiliciumoxyde en BigRUgO^.. glasweerstanden.met een. soartelijke doorsnede, weerstand van 10. k XL/□ . De belangrijkste voordelen van.de uitvoeringsvorm van de rek- en drukopnemers volgens de uitvinding kunnen, als volgt worden samen-25 gevat.
Tussen de rekopnemer en. de ligger.· of het membraan is geen bindmiddel nodig omdat.de piëzo afhankelijke weerstand direkt.door middel van zeefdrukken op het als ligger of membraan dienende, substraat ,is aangebracht. Bovendien wordt voor de uitzettingscoëfficiënten., van. de substraten en de 30 door middel van.zeefdruk verkregen weerstanden een goede, aanpassing verkregen.
Ook bestaat - de mogelijkheid. om de. weer standswaarden, van de door middel, van zeefdruk verkregen en.met. warmte..behandelde weerstanden (of door middel van dezelfde, techniek verkregen, compensatieweerstanden die 35 niet aan de rek onderworpen worden en. die parallel of in serie met een van de brugzijde zijn opgenomen) door middel, van .laser- of zandstraling bij te regelen teneinde een uitgangsspanning ter waarde nul van de Wheatstone 7907294 -7- brug te verkrijgen, hij afwezigheid van op het substraat, .uitgeoefende rek of druk. Bij afwezigheid van rek- kunnen, uitgangssignalen £ 100 ^uV/V waarneembaar van de Wheatstone brug .verkregen worden.
Tenslotte. kunnen bruggen met in- en uitgangsimpedantie binnen een 5 breed waardegebied verkregen worden door de juiste keuze, van de .geometrie en de soortelijke doorsnedeweerstand van da weerstanden.
De werkwijze ter verkrijging van.rekstrookjes, die gelijk is aan die van hybrideketens. voor,miero-elektronika,.. is. tamelijk-eenvoudig en goedkoop en dienovereenkomstig geschikt voor een grote .produktie-omvang.
10 De bovenbeschreven, eenheid voor·, de meting van druk of de drukopne- mer wordt natuurlijk in. al die. gevallen, toegepast waar een., rekopnemer met een hoge gevoeligheid en een zeer. goede thermische stabiliteit vereist is.
Zij kan daarom met voordeel, toegepast worden, bij automobielen ter besturing van. de. inspuiting, ontsteking, fasebesturing en. voor hydraulische 15. inrichtingen.
Tot nu toe is sprake .geweest van .een drukopnemer maar de uitvinding heeft eveneens betrekking op een. rekstr ook je zelf,, waarbij gebruik gemaakt wordt van. dikke, filmveer standen voor het meten, en regelen van fysische grootheden, zoals rek, druk, kracht, of last, draaimoment, etc.
7907294

Claims (7)

1. Inrichting voor de meting van druk van de soort omvattende een door de te meten druk. "beïnvloed substraat,-waarop een. rekstrookje is aangebracht, en een elektrische keten voor de vaststelling van de weerstandsverandering van de weerstanden.als funktie van.de.substraatvervorming» met het ken- 5 merk, dat het rekstrookje. uit door zeefdrukken, op het substraat aangebrachte , dikke. filmweerstanden bestaat,
2. Inrichting volgens conclusie. 1, met het kenmerk,, dat de dikke filmweer standen aan een of aan beide zijden: van het substraat.en in rekgevoe-lige posities zijn aangebracht.
3. Inrichting, volgens .de voorgaande conclusies., met het kenmerk, dat het substraat, de ..vorm heeft .van., een. eenzijdig ingeklemde, ligger en een paar weerstanden aan. een zijde., en. in. de nabijheid. van,, de verbinding van de in-geklemde ligger op het substraat is. aangebracht, terwijl een. ander paar aan de tegenovergelegen zijde, daarvan, is aangebracht (fig. 1). 15 b. Inrichting volgens conclusie. 1 en. 2, met het. kenmerk,, dat het substraat de vorm heeft van. een aan de rand ingeklemd.membraan, en dat een paar weerstanden aan-een zijde van het substraat in het middengedeelte is aangebracht, terwijl de weerstanden van een andere paar langs de rand van het membraan zijn opgenamen (fig. 2 en 3).
5. Inrichting volgens conclusie 1 en. 2,-met het kenmerk, dat het sub straat de vorm. heeft van een aan.de rand. ingeklemd membraan, en dat een paar weerstanden aan een zijde van. het: substraat in het middengedeelte is aangebracht en een andere .paar in. de tegenovergelegen positie, op de andere zijde van het substraat is aangebracht (fig. 5)·
6. Inrichting volgens de voorgaande conclusies,, met het kenmerk, dat de dikke filmweerstanden. door middel van een. voor zeefdruk geschikte inktsoort met als basis bestanddelen..een of meer van de volgende elementen: RuOg, IrOgj TiOg, Bi^Eu^Oj, Fb^RUgO^.., Au, Ft, Pd en mengsels daarvan in een diëlektrische grondmassavzoals, borosilieiumoxydeglas,- aluminiumsilicium- 30 oxyden, loodboriumsiliciumoxyden, loodsiliciumoxyden en dergelijke zijn verkregen.
7. Inrichting volgens de voorgaande, conclusies., met het kenmerk, dat het substraat uit keramisch materiaal,., in..het bijzonder uit aluminiumoxyde, berylliumoxyde, zirkoonoxyde öf uit geëmailleerde metaten bestaat.
8. Rekstrookje, met het kenmerk, dat de weerstanden door middel van zeefdrukken en inbranden van geschikte inktsoorten zijn gevormd. 7907294
NL7907294A 1978-10-12 1979-10-01 Drukmeter met een rekstrookopnemer. NL7907294A (nl)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT2868278 1978-10-12
IT28682/78A IT1101056B (it) 1978-10-12 1978-10-12 Dispositivo misuratore di pressione impiegante un estensimetro a resistori
IT1923679A IT1164955B (it) 1979-01-12 1979-01-12 Dispositivo misuratore di pressione impiegante un estensimetro a resistori
IT1923679 1979-01-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7907294A true NL7907294A (nl) 1980-04-15

Family

ID=26327102

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7907294A NL7907294A (nl) 1978-10-12 1979-10-01 Drukmeter met een rekstrookopnemer.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4311980A (nl)
CH (1) CH638045A5 (nl)
DE (1) DE2940441A1 (nl)
ES (2) ES484967A0 (nl)
FR (1) FR2438829A1 (nl)
GB (1) GB2036424B (nl)
NL (1) NL7907294A (nl)
PT (1) PT70292A (nl)

Families Citing this family (96)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2080552B (en) * 1980-07-12 1984-11-21 Rubery Owen Group Services Ltd Measuring loads
FR2494439A1 (fr) * 1980-11-20 1982-05-21 Leim Capteur de pression
US4355692A (en) * 1980-11-24 1982-10-26 General Electric Company Thick film resistor force transducers and weighing scales
FR2502327A1 (fr) * 1981-03-20 1982-09-24 Dal Dan Felice Procede de realisation de capteurs a jauge de contrainte
GB2098739B (en) * 1981-05-16 1985-01-16 Colvern Ltd Electrical strain gauges
US4481497A (en) * 1982-10-27 1984-11-06 Kulite Semiconductor Products, Inc. Transducer structures employing ceramic substrates and diaphragms
DE3333287A1 (de) * 1983-09-15 1985-04-18 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Kraftstoff-einspritzduese fuer brennkraftmaschinen
NL8401420A (nl) * 1984-05-04 1985-12-02 Philips Nv Weegelement voor een weegtoestel.
US4536328A (en) * 1984-05-30 1985-08-20 Heraeus Cermalloy, Inc. Electrical resistance compositions and methods of making the same
IT206726Z2 (it) * 1985-09-17 1987-10-01 Marelli Autronica Dispositivo misuratore di pressione
IT206727Z2 (it) * 1985-09-17 1987-10-01 Marelli Autronica Sensore estensimetrico a film spesso per la rilevazione di sforzi e deformazioni in organi o strutture meccaniche
IT206728Z2 (it) * 1985-09-17 1987-10-01 Marelli Autronica Dispositivo sensore di accelerazione o di vibrazioni
IT206925Z2 (it) * 1986-03-10 1987-10-19 Marelli Autronica Sensore a filo spesso in particolare sensore di pressione
IT1203547B (it) * 1986-03-10 1989-02-15 Marelli Autronica Dispositivo e procedimento per misurare la pressione statica di un fluido
DE8607653U1 (de) * 1986-03-20 1987-08-06 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Beschleunigungsaufnehmer
FR2601133B1 (fr) * 1986-07-01 1990-05-11 Beta Sa Dispositif de mesure des pressions et notamment des hautes pressions
FR2606875B1 (fr) * 1986-11-18 1989-06-09 Dal Dan Felice Procede de realisation d'une jauge de contrainte
IT1215213B (it) * 1986-12-31 1990-01-31 Marelli Autronica Impianto di frenatura per autoveicoli con funzione antibloccaggio del le ruote
FR2611043B1 (fr) * 1987-02-16 1989-08-04 Crouzet Sa Capteur de pression a jauges piezoresistives
US4786764A (en) * 1987-03-20 1988-11-22 Summagraphics Corporation Digitizer stylus with pressure transducer
USRE34095E (en) * 1987-03-20 1992-10-13 Summagraphics Corporation Digitizer stylus with pressure transducer
JPS63292032A (ja) * 1987-05-26 1988-11-29 Ngk Insulators Ltd 圧力検出器
JPH0731091B2 (ja) * 1987-05-27 1995-04-10 日本碍子株式会社 歪検出器
JPH0530122Y2 (nl) * 1987-08-28 1993-08-02
JPH0812123B2 (ja) * 1987-11-27 1996-02-07 日本碍子株式会社 圧力センサ
JPH01147331A (ja) * 1987-12-03 1989-06-09 Ngk Insulators Ltd 圧力検出器
IN169553B (nl) * 1987-12-11 1991-11-09 Int Control Automation Finance
US4932265A (en) * 1987-12-11 1990-06-12 The Babcock & Wilcox Company Pressure transducer using thick film resistor
KR890010548A (ko) * 1987-12-16 1989-08-09 로버트 제이. 에드워즈 이중압력센서
JPH01182729A (ja) * 1988-01-16 1989-07-20 Ngk Insulators Ltd 圧力センサ
DE3814949C1 (nl) * 1988-05-03 1989-08-03 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart, De
DE3814950A1 (de) * 1988-05-03 1989-11-16 Bosch Gmbh Robert Beschleunigungsaufnehmer
JP2549712B2 (ja) * 1988-07-27 1996-10-30 日本碍子株式会社 応力検出器
US6701296B1 (en) 1988-10-14 2004-03-02 James F. Kramer Strain-sensing goniometers, systems, and recognition algorithms
US5047952A (en) * 1988-10-14 1991-09-10 The Board Of Trustee Of The Leland Stanford Junior University Communication system for deaf, deaf-blind, or non-vocal individuals using instrumented glove
FR2638524B1 (fr) * 1988-10-27 1994-10-28 Schlumberger Prospection Capteur de pression utilisable dans les puits de petrole
US5099738A (en) * 1989-01-03 1992-03-31 Hotz Instruments Technology, Inc. MIDI musical translator
DE3919059A1 (de) * 1989-06-10 1991-01-03 Bosch Gmbh Robert Drucksensor zum erfassen von druckschwankungen einer druckquelle
FR2650389B1 (fr) * 1989-07-27 1993-03-26 Sextant Avionique Dispositif de mesure de deformation d'une membrane
DE4000326C2 (de) * 1990-01-08 1995-12-14 Mannesmann Ag Drucksensor
US5267566A (en) * 1991-03-07 1993-12-07 Maged Choucair Apparatus and method for blood pressure monitoring
US5224384A (en) * 1991-06-07 1993-07-06 Maclean-Fogg Company Resistive strain gauge pressure sensor
US5174158A (en) * 1991-06-07 1992-12-29 Maclean-Fogg Company Resistive strain gauge pressure sensor
US5303593A (en) * 1991-06-07 1994-04-19 Maclean-Fogg Company Strain gauge distribution for resistive strain gauge pressure sensor
US5317921A (en) * 1992-05-05 1994-06-07 Maclean Fogg Company Resistive strain gauge pressure sensor
US5510783A (en) * 1992-07-13 1996-04-23 Interlink Electronics, Inc. Adaptive keypad
US5483217A (en) * 1992-07-15 1996-01-09 Nippondenso Co., Ltd. Electronic circuit device
GB2271185A (en) * 1992-09-30 1994-04-06 Ist Lab Ltd Load cell
US5481905A (en) * 1992-11-03 1996-01-09 Philips Electronics North America Corporation Transducer circuit having negative integral feedback
US5522266A (en) * 1993-11-30 1996-06-04 Medex, Inc. Low cost pressure transducer particularly for medical applications
JP2584201B2 (ja) * 1994-01-14 1997-02-26 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 力変換器、コンピュータ・システムおよびキーボード
DE4423596A1 (de) * 1994-07-06 1996-01-11 Bosch Gmbh Robert Piezoresistiver Widerstand
JP3238050B2 (ja) * 1995-08-09 2001-12-10 ブラザー工業株式会社 インク噴射装置
AU2059597A (en) * 1996-02-28 1997-09-16 Sigma-Netics, Inc. Improved strain gauge and method of manufacture
US6374255B1 (en) * 1996-05-21 2002-04-16 Immersion Corporation Haptic authoring
JPH10148591A (ja) * 1996-09-19 1998-06-02 Fuji Koki Corp 圧力検出装置
US6184865B1 (en) 1996-10-23 2001-02-06 International Business Machines Corporation Capacitive pointing stick apparatus for symbol manipulation in a graphical user interface
US6256011B1 (en) * 1997-12-03 2001-07-03 Immersion Corporation Multi-function control device with force feedback
US6212958B1 (en) 1998-07-16 2001-04-10 Lincoln Industrial Corporation Flow sensing assembly and method
US6693626B1 (en) * 1999-12-07 2004-02-17 Immersion Corporation Haptic feedback using a keyboard device
GB0006551D0 (en) * 2000-03-17 2000-05-10 Ind Dataloggers Limited Improved train gauge devices
AU2001292095A1 (en) * 2000-10-05 2002-04-15 Industrial Dataloggers Limited Strain gauge devices
US7330271B2 (en) * 2000-11-28 2008-02-12 Rosemount, Inc. Electromagnetic resonant sensor with dielectric body and variable gap cavity
US6807875B2 (en) 2000-12-01 2004-10-26 Honeywell International Inc. Self-compensating position sensor
US6688185B2 (en) 2001-08-20 2004-02-10 Autoliv Asp, Inc. System and method for microstrain measurement
EP2793101A3 (en) 2001-11-01 2015-04-29 Immersion Corporation Method and apparatus for providing tactile feedback sensations
US7535454B2 (en) 2001-11-01 2009-05-19 Immersion Corporation Method and apparatus for providing haptic feedback
US6904823B2 (en) * 2002-04-03 2005-06-14 Immersion Corporation Haptic shifting devices
US8917234B2 (en) 2002-10-15 2014-12-23 Immersion Corporation Products and processes for providing force sensations in a user interface
US7769417B2 (en) * 2002-12-08 2010-08-03 Immersion Corporation Method and apparatus for providing haptic feedback to off-activating area
US7284452B2 (en) * 2002-12-27 2007-10-23 Nanonord A/S Cantilever sensor using both the longitudinal and the transversal piezoresistive coefficients
US8992322B2 (en) * 2003-06-09 2015-03-31 Immersion Corporation Interactive gaming systems with haptic feedback
US7340960B2 (en) * 2004-01-30 2008-03-11 Analatom Inc. Miniature sensor
DE102004041897A1 (de) * 2004-08-30 2006-03-02 Siemens Ag Vorrichtung und Verfahren zur Positionsbestimmung bei medizinischen Untersuchungen
US20060185446A1 (en) * 2005-02-18 2006-08-24 Speckhart Frank H Printed strain gage for vehicle seats
DE102006007463B3 (de) * 2006-02-17 2007-06-21 Jumo Gmbh & Co. Kg Brückenschaltung und Verfahren zum Abgleichen einer Brückenschaltung
US8063886B2 (en) * 2006-07-18 2011-11-22 Iee International Electronics & Engineering S.A. Data input device
WO2008026305A1 (en) * 2006-08-25 2008-03-06 Ntn Corporation Sensor-equipped bearing for wheel
CN104656900A (zh) 2006-09-13 2015-05-27 意美森公司 用于游戏厅游戏触觉的系统和方法
US9486292B2 (en) 2008-02-14 2016-11-08 Immersion Corporation Systems and methods for real-time winding analysis for knot detection
US8500732B2 (en) * 2008-10-21 2013-08-06 Hermes Innovations Llc Endometrial ablation devices and systems
US9104791B2 (en) * 2009-05-28 2015-08-11 Immersion Corporation Systems and methods for editing a model of a physical system for a simulation
US9582178B2 (en) 2011-11-07 2017-02-28 Immersion Corporation Systems and methods for multi-pressure interaction on touch-sensitive surfaces
US9891709B2 (en) 2012-05-16 2018-02-13 Immersion Corporation Systems and methods for content- and context specific haptic effects using predefined haptic effects
EP2735855A1 (en) * 2012-11-21 2014-05-28 Sensata Technologies, Inc. A measuring device for measuring a physical quantity
AT513259B1 (de) * 2013-01-29 2014-03-15 Austrian Ct Of Competence In Mechatronics Gmbh Verfahren zur Änderung des statischen und/oder dynamischen Istverhaltens eines insbesondere elastischen Körpers unter äußerer Belastung
US9904394B2 (en) 2013-03-13 2018-02-27 Immerson Corporation Method and devices for displaying graphical user interfaces based on user contact
US9866924B2 (en) 2013-03-14 2018-01-09 Immersion Corporation Systems and methods for enhanced television interaction
CN103454027A (zh) * 2013-09-16 2013-12-18 北京机械设备研究所 一种基于压差的动态压力测量装置
CN105675183B (zh) * 2015-12-31 2018-08-14 汕头超声显示器技术有限公司 一种力学感应板
CN105930006B (zh) * 2016-04-29 2019-01-22 汕头超声显示器技术有限公司 一种按压力感应板及其压力探测方法
US10595951B2 (en) * 2016-08-15 2020-03-24 Covidien Lp Force sensor for surgical devices
EP3410060A1 (de) * 2017-05-29 2018-12-05 voestalpine Stahl GmbH Dehnungsmessstreifen und metallband mit einer beschichtung für solch einen dehnungsmessstreifen
US11262256B2 (en) 2017-06-22 2022-03-01 Ezmems Ltd. Sensor elements on thin foil/films
JP2019090723A (ja) * 2017-11-15 2019-06-13 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
CN114141461B (zh) * 2021-10-25 2022-08-05 深圳技术大学 基于飞秒激光的柔性电子器件制备方法及柔性应变传感器

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2438205A (en) * 1945-09-15 1948-03-23 Douglas Aircraft Co Inc Measuring instrument
US3049685A (en) * 1960-05-18 1962-08-14 Electro Optical Systems Inc Electrical strain transducer
US3151480A (en) * 1960-08-10 1964-10-06 United States Steel Corp Load cell
US3335381A (en) * 1965-07-06 1967-08-08 Stratham Instr Inc Duplex flexure for force transducer
US3341794A (en) * 1965-07-26 1967-09-12 Statham Instrument Inc Transducers with substantially linear response characteristics
US3473375A (en) * 1967-02-03 1969-10-21 Whittaker Corp Strain gage transducer
US3479739A (en) * 1967-04-24 1969-11-25 Statham Instrument Inc Method of making a transducer beam
US3456226A (en) * 1967-10-27 1969-07-15 Conrac Corp Strain gage configuration
US3505634A (en) * 1967-11-21 1970-04-07 George Von Vick Differential pressure transducer
FR2057215A5 (nl) * 1969-08-06 1971-05-21 Jules Ets Richard
JPS4920239B1 (nl) * 1969-10-28 1974-05-23
DE2146339B2 (de) * 1971-09-16 1975-04-03 Industrie-Automation Gmbh & Co, 6900 Heidelberg Elektromechanischer Kraft- oder Druckmeßwandler
US3998980A (en) * 1972-05-05 1976-12-21 Hewlett-Packard Company Fabrication of thick film resistors
US3876560A (en) * 1972-05-15 1975-04-08 Engelhard Min & Chem Thick film resistor material of ruthenium or iridium, gold or platinum and rhodium
US3916037A (en) * 1973-03-01 1975-10-28 Cts Corp Resistance composition and method of making electrical resistance elements
JPS5532009B2 (nl) * 1973-10-20 1980-08-22
US3953920A (en) * 1975-05-14 1976-05-04 International Telephone & Telegraph Corporation Method of making a transducer
US4160969A (en) * 1976-12-27 1979-07-10 The Garrett Corporation Transducer and method of making

Also Published As

Publication number Publication date
ES492940A0 (es) 1982-06-16
DE2940441A1 (de) 1980-04-24
GB2036424A (en) 1980-06-25
US4311980A (en) 1982-01-19
CH638045A5 (it) 1983-08-31
ES8103375A1 (es) 1981-02-16
FR2438829B1 (nl) 1983-08-05
PT70292A (en) 1979-11-01
ES484967A0 (es) 1981-02-16
ES8206025A1 (es) 1982-06-16
GB2036424B (en) 1983-03-02
FR2438829A1 (fr) 1980-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7907294A (nl) Drukmeter met een rekstrookopnemer.
US10678363B2 (en) Pressure sensor and display device
JP4161410B2 (ja) 圧力検出装置
US4299130A (en) Thin film strain gage apparatus with unstrained temperature compensation resistances
Cao et al. Simulation and fabrication of piezoresistive membrane type MEMS strain sensors
WO2019148726A1 (zh) 一种电阻式应变传感器
EP2810032A1 (en) Flexible temperature and strain sensors
WO2008008128A2 (en) Compression strain sensor
EP1197737B1 (en) Strain gauge
US4974596A (en) Transducer with conductive polymer bridge
US4932265A (en) Pressure transducer using thick film resistor
US5184520A (en) Load sensor
US11378478B2 (en) Sensor element for measuring pressure and temperature
DE19754613A1 (de) Drucksensor vom Dehnungsmesser-Typ
EP1043573B1 (en) Shear beam load cell
US7484421B2 (en) Force sensor
JP5815356B2 (ja) 面圧センサ
JP2585681B2 (ja) 金属薄膜抵抗ひずみゲ―ジ
JPS5844323A (ja) 圧力センサ
CN112710405B (zh) 一种温度传感器
CA1309879C (en) Pressure transducer using thick film resistor
JP2003139504A (ja) 変位センサとその製造方法および位置決めステージ
JPS6212458B2 (nl)
US5591917A (en) Semiconductor pressure sensor with rated pressure specified for desired error of linearity
KR19980084450A (ko) 다이어 프램식 압력센서

Legal Events

Date Code Title Description
A85 Still pending on 85-01-01
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
BI The patent application has been withdrawn