NL7905524A - Electron gun for a cathode ray tube serving as a color image tube, plus resistance with electrodes for such an electron gun. - Google Patents
Electron gun for a cathode ray tube serving as a color image tube, plus resistance with electrodes for such an electron gun. Download PDFInfo
- Publication number
- NL7905524A NL7905524A NL7905524A NL7905524A NL7905524A NL 7905524 A NL7905524 A NL 7905524A NL 7905524 A NL7905524 A NL 7905524A NL 7905524 A NL7905524 A NL 7905524A NL 7905524 A NL7905524 A NL 7905524A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- electrodes
- electron gun
- glass
- resistance
- voltage
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/96—One or more circuit elements structurally associated with the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/48—Electron guns
- H01J29/50—Electron guns two or more guns in a single vacuum space, e.g. for plural-ray tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/96—Circuit elements other than coils, reactors or the like, associated with the tube
- H01J2229/966—Circuit elements other than coils, reactors or the like, associated with the tube associated with the gun structure
Landscapes
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
C/Ca/eh/1025 Rv/ilE ^ 2 6 JULI 1379C / Ca / eh / 1025 Rv / ilE ^ 2 JULY 6, 1379
Sony Corporation (Sony Kabushiki Kaisha) te Tokio, Japan "electronenkanon voor een als kleurenbeeldbuis dienende kathodestraalbuis, benevens weerstand met aansluitelec-troden voor een dergelijk electronenkanon"Sony Corporation (Sony Kabushiki Kaisha) of Tokyo, Japan "electron gun for a cathode ray tube serving as a color display tube, in addition to resistance with connection electrodes for such an electron gun"
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een electronenkanon voor een als kleurenbeeldbuis dienende kathodestraalbuis, en voorts op een weerstand met aansluitelectro-den voor een dergelijk electronenkanon.The present invention relates to an electron gun for a cathode ray tube serving as a color display tube, and furthermore to a resistor with connection electrodes for such an electron gun.
5 Bij een kleurentelevisiebeeldbuis van gebruikelijk type wordt een hoge spanning van ongeveer 25-30 KV aan de laatste versnellingselectrode van het electronenkanon en aan het beeldscherm toegevoerd via een aan het trechtergedeelte van de beeldbuis bevestigde anodeknop. Tegelijkertijd wordt 10 een spanning van 0-5 KV aan een focusseringselectrode van een nabij de laatste versnellingselectrode aangebrachte, voor fo-cusssring dienende electronenlens toegevoerd via een aan het eind van het halsgedeelte van de beeldbuis aangebrachte aan-sluitpen.In a conventional type color television picture tube, a high voltage of about 25-30 KV is supplied to the last acceleration electrode of the electron gun and to the display via an anode button attached to the funnel portion of the picture tube. At the same time, a voltage of 0-5 KV is applied to a focusing electrode of a focal ring electron lens arranged near the last acceleration electrode via a terminal pin provided at the end of the neck portion of the picture tube.
15 Teneinde een kleine trefvlek van de electronenbundel .15 In order to have a small spot of the electron beam.
op het beeldscherm te verkrijgen, zodat een meer nauwkeurig en helderder beeld wordt verkregen, is het gewenst om de door de focusseringslens veroorzaakte aberratie zo gering mogelijk te maken. Daartoe- dient de tussen de electroden optredende 20 spanningsgradiënt verlaagd te worden. Daarom is men overgegaan tot het vergroten van de afstand tussen de electroden, het toepassen van een gering spanningsverschil tussen de electroden en tot een combinatie van deze beide maatregelen.To obtain a more accurate and clearer image on the monitor screen, it is desirable to minimize the aberration caused by the focusing lens. For this purpose, the voltage gradient occurring between the electrodes must be reduced. Therefore, it was decided to increase the distance between the electrodes, to apply a small voltage difference between the electrodes and to combine these two measures.
Wanneer een betrekkelijk gering spanningsverschil 25 aan de electroden wordt aangelegd, dient een betrekkelijk hoge spanning van meer dan 10 KV te worden toegevoerd aan de zich nabij de laatste versnellingselectrode bevindende focusseringselectrode. De toevoer van een dergelijke hoge spanning kan niet geschieden via een aan het uiteinde van het halsgedeelte 30 van de beeldbuis., aangebrachte aansluitpen, daar anders het e gevaar bestaat, dat een electrische ontladingsboog optreedt ’tussen de genoemde aansluitpen en de andere aansluitpennen, 790 5 5 24 w m -2- die dienen voor toevoer van voedingsspanningen aan andere electroden van het electronenkanon, bijvoorbeeld aan de glöei-draden. Uiteraard kan de desbetreffende hoge spanning via een weer aan het trechtergedeelte van de beeldbuis aangebrachte 5 knop plaatsvinden, doch een dergelijke maatregel verhoogd zowel de gecompliceerdheid van de montage als de vervaardigings-kosten van een beeldbuis. Bij een beeldbuis van het als geregistreerd handelsmerk "Trinitron” bekende type vindt focus-sering van drie electronenbundels plaats door middel van êën 10 enkele electronenlens, waarbij iedere electronenbundel door het middelpunt van een enkele electronenlens van grote diameter gaat. De drie aldus gefocusseerde electronenbundels worden ter verkrijging van een voor alle bundels gelijke tref-plaats op een voor het beeldscherm aangebracht rooster met 15 gaatjes onderworpen aan afbuiging door vier convergentie-elec-troden, die aan het boveneinde van het electronenkanon zijn aangebracht en te zamen drie, ieder voor doorlating van één van de electronenbundels dienende doorlaatkanalen vormen. Aan de twee binnenste van de vier convergentie-electroden' wordt 20 een zelfde potentiaal als de anodepotentiaal aangelegd. Aan de beide buitenste convergentie-electroden wordt een spanning aangelegd, die met een bedrag van 0,4-1,5 KV lager ligt dan de anodepotentiaal, zodat de door de convergentie-electroden gaande electronenbundels naar de zijkant van de centrale bundel 25 worden afgebogen.When a relatively small voltage difference is applied to the electrodes, a relatively high voltage of more than 10 KV must be applied to the focusing electrode located near the last acceleration electrode. The supply of such a high voltage cannot take place via a connecting pin arranged on the end of the neck section 30 of the picture tube, since otherwise there is the danger that an electric discharge arc will occur between the said connecting pin and the other connecting pins, 790. 5 5 24 wm -2- which serve to supply supply voltages to other electrodes of the electron gun, for example to the glow wires. Of course, the relevant high voltage can be effected via a button which is again mounted on the funnel part of the picture tube, but such a measure increases both the complexity of the mounting and the manufacturing costs of a picture tube. In a display tube of the type known as a registered trademark "Trinitron", three electron beams are focused by means of one single electron lens, each electron beam passing through the center of a single large diameter electron lens. The three electron beams thus focused to provide an equal location for all beams on a 15-hole grid disposed in front of the display subject to deflection by four converging electrodes mounted at the top of the electron gun and three together, each for transmitting one of the electron beams forming transmissive channels. The same inner potential as the anode potential is applied to the two inner of the four convergence electrodes. A voltage is applied to the two outer convergence electrodes with an amount of 0.4- 1.5 KV lower than the anode potential, so that due to the convergence electrodes going electron beams to the side of the central beam 25 are deflected.
Gedurende enige tijd heeft men de spanningstoevoer laten plaatsvinden via een aan het trechtergedeelte van de beeldbuis aangebrachte extra knop en een mét deze knop en de buitenste electroden verbonden, electrisch afgeschermde kabel. 30 Tegenwoordig vindt toepassing plaats van een coaxiale anodeknop met twee cylindervormige, electrisch van elkaar geïsoleerde electroden,- de anodespanning wordt toegevoerd via de buitenste electrode van deze anodeknop, terwijl de convergent ie spanning via de binnenste electrode van de anodeknop en 35 een zich tussen deze electrode en de convergentie-electroden uitstrekkende, electrisch afgeschermde kabel geschiedt. In 790 5 5 24 *1 -3- * » geval van toepassing van een dergelijke coaxiale anodeknop is het niet noodzakelijk om twee afzonderlijke doorvoerknoppen aan het trechtergedeelte van de beeldbuis aan te brengen? het tot stand brengen van de electrische verbinding tussen de bin-5 nenste electrode van de anodeknop en de buitenste convergen-tie-electroden door middel van de electrisch afgescherrade kabel is echter betrekkelijk bewerkelijk en moeilijk.For some time, the voltage was supplied via an additional button arranged on the funnel part of the picture tube and an electrically shielded cable connected to this button and the outer electrodes. Nowadays use is made of a coaxial anode button with two cylindrical electrodes which are electrically insulated from each other, - the anode voltage is supplied via the outer electrode of this anode button, while the convergence voltage is applied via the inner electrode of the anode button and a electrode and the converging electrodes extending electrically shielded cable. In the case of applying such a coaxial anode button, in 790 5 5 24 * 1 -3- * »is it not necessary to attach two separate feed-through buttons to the funnel section of the picture tube? however, establishing the electrical connection between the inner electrode of the anode button and the outer convergence electrodes by means of the electrically shielded cable is relatively laborious and difficult.
Voor andere literatuur op dit gebied wordt verwezen naar de gepubliceerde Japanse aanvrage 40987/72 en de beide 10 Amerikaanse octrooischriften 3.514.663 en 3.932.786.For other literature in this field, reference is made to published Japanese Application 40987/72 and both U.S. Patents 3,514,663 and 3,932,786.
De onderhavige uitvinding stelt zich ten doel, een electronenkanon van verbeterd type voor een kathodestraalbuis te verschaffen.The present invention aims to provide an electron gun of improved type for a cathode ray tube.
Voorts stelt de uitvinding zich ten doel, een elee-15 tronenkanon voor een kathodestraalbuis te verschaffen, waarbij de toevoer van de gewenste potentiaal aan de verschillende elec-troden op eenvoudige wijze plaats vindt.Another object of the invention is to provide an electron gun for a cathode ray tube, wherein the supply of the desired potential to the various electrodes takes place in a simple manner.
Daartoe gaat de uitvinding uit van een electronenkanon met een aantal voor focussering en versnelling van een 20 electronenbundel dienende electroden, die langs de hoofdas van het halsgedeelte van de kathodestraalbuis zijn aangebracht.To this end, the invention is based on an electron gun with a number of electrodes serving for focusing and acceleration of an electron beam, which are arranged along the main axis of the neck portion of the cathode ray tube.
Volgens de uitvinding wordt aan een dergelijke constructie een weerstand toegevoegd, welke ruimtelijk volgens een zig-zag-pa-troon verloopt en aan zijn beide uiteinden en op tussengelegen 25punten aansluitelectroden vertoont, welke zijn gevormd op een keramische drager, waarover een laag glas is aangebracht. De desbetreffende weerstand wordt eveneens binnen het. halsgedeelte van de kathodestraalbuis ondergebracht.According to the invention, a resistor is added to such a construction which spatially follows a zig-zag pattern and has connecting electrodes at both ends and at intermediate points formed on a ceramic support over which a layer of glass has been applied. . The corresponding resistance is also within it. the neck portion of the cathode ray tube.
Aan het ene uiteinde van de weerstand wordt een hoge 30spanning toegevoerd, die dezelfde als de anodespanning is. Voor focussering en/of convergentie geschikte spanningen worden van de tussengelegen aftakkingen van de weerstand afgenomen, terwijl het andere uiteinde van de weerstand aan een punt van lage spanning is aangesloten. .A high voltage is applied to one end of the resistor, which is the same as the anode voltage. Voltages suitable for focusing and / or convergence are taken from the intermediate branches of the resistor, while the other end of the resistor is connected to a point of low voltage. .
35 De weerstand wordt bedekt met een gfasmengseliaag, waardoor het gevaar voor spanningsdoorslag wordt verminderd en de thermische uitzettingscoëfficient van de drager en diê van 790 55 24 -4- het glasmengsel aan elkaar gelijk kunnen worden gemaakt.The resistor is covered with a gas mixture layer, which reduces the risk of voltage breakdown and makes it possible to equalize the thermal expansion coefficient of the carrier and the glass mixture of 790 55 24 -4-.
De uitvinding zal worden verduidelijkt in de nu volgende beschrijving aan de hand van de bijbehorende tekening van enige voorkeursuitvoeringsvormen, waartoe de uitvinding 5 zich echter niet beperkt. In de tekening tonen: figuur 1, in perspectief, een electronenkanon volgens de onderhavige uitvinding, figuur 2 een schematische weergave van de verschillende verbindingen tussen de electroden van het electronen-10 kanon en de weerstand volgens de uitvinding, figuur 3, schematisch, een verticale axiale doorsnede door een electronenkanon volgens de uitvinding, dat in het halsgedeelte van een kathodestraalbuis is aangebracht, figuur 4 een grafische weergave van de karakteris-15 tieke relatie tussen de gasverdamping en de temperatuur van de weerstand bij respectievelijk een bekende uitvoering en een uitvoeringsvorm volgens de uitvinding, figuur 5A en 5B, respectievelijk een bovenaanzicht en een zijaanzicht op een eerste uitvoeringsvorm van een 20 weerstand volgens de onderhavige uitvinding, figuur 6 een zijaanzicht op een tweede uitvoeringsvorm van een weerstand volgens de uitvinding, figuur 7A en 7B respectievelijk een bovenaanzicht en een zijaanzicht op een derde uitvoeringsvorm van een weer-25 stand volgens de uitvinding, figuur 8 een grafische weergave van de karakteristieke relatie tussen de dikte van de over de drager van de weerstand aangebrachte glaslaag en de verandering van de soortelijke weerstand daarvan, en 30 figuur 9 een grafische weergave van de. karakteris tieke relatie tussen de gasverdamping en de temperatuur van de weerstand met aansluitelectroden bij respectievelijk een bekende uitvoering en een uitvoeringsvorm volgens de uitvinding.The invention will be elucidated in the following description with reference to the accompanying drawing of some preferred embodiments, to which the invention is not, however, limited. In the drawing: figure 1 shows, in perspective, an electron gun according to the present invention, figure 2 a schematic representation of the different connections between the electrodes of the electron gun and the resistance according to the invention, figure 3, schematically a vertical axial section through an electron gun according to the invention, which is arranged in the neck section of a cathode ray tube, figure 4 shows a graphical representation of the characteristic relationship between the gas evaporation and the temperature of the resistance in a known embodiment and an embodiment according to the invention, figures 5A and 5B, respectively a top view and a side view of a first embodiment of a resistor according to the present invention, figure 6 a side view of a second embodiment of a resistor according to the invention, figures 7A and 7B respectively a top view and a side view of a third embodiment of a resistance according to the invention, figure 8 shows a graphical representation of the characteristic relationship between the thickness of the glass layer applied over the resistance carrier and the change in the specific resistance thereof, and figure 9 shows a graphic representation of the. characteristic relationship between the gas evaporation and the temperature of the resistance with connection electrodes in a known embodiment and an embodiment according to the invention, respectively.
Het in de figuren 1, 2 en 3 weergegeven electronen-35 kanon volgens een uitvoeringsvorm van de uitvinding is van het type met een "uni-potentiële” electronenlens, dat bij een' beeldbuis van het als handelsmerk geregistreerde type ”Trini- 7905524 -5- tron" kan worden toegepast.The electron-35 gun shown in Figures 1, 2 and 3 according to an embodiment of the invention is of the "uni-potential" electron lens type, which is associated with a "Trini" 7905524 -5 "registered" CRT tube. - tron "can be used.
Zoals meer in het bijzonder figuur 1 .aannemelijk maakt, wordt een dergelijk electronenkanon 1 in het halsge-deelte van de beeldbuis of kathodestraalbuis aangebracht. Het 5 electronenkanon 1 is voorzien van drie kathoden KR, KQ en KR, die zich in een zelfde horizontaal vlak uitstrekken. De drie kathoden bevinden zich achter een stuurrooster waarop voor-focusseringsroosters G2 en G^ volgen. De daarop volgende hoofd-focusseringslens wordt gevormd door een rooster G^. De roosters 10 G^ en G^ en het op het laatstgenoemde rooster volgense rooster Gj. vormen versnellingsroosters. Na het versnellingsrooster volgen de binnenste convergentie-electroden S en 9 en dè buitenste convergentie-electroden 11 en 12. De door de van de kathode KR afkomstige electronenbundel gevolgde baan naar het 15 beeldscherm gaat door de respectievelijk daartoe dienende ope-ningen van’ de roosters G^ en G2, vervolgens door de versnellingsroosters G^/ G4 en G5 en tenslotte tussen de plaatvormige convergentie-electroden 9 en 12 door. De door de van de kathode afkomstige electronenbundel gevolgde baan gaat op soort-20 gelijke wijze door het electronenkanon 1 heen en vervolgens tussen de beide plaatvormige convergentie-electroden 8 en 9 door naar het geperforeerde rooster AG. De door de van de kathode KR afkomstige electronenbundel gevolgde baan gaat door de respectievelijk daartoe dienende openingen in de roosters 25 G1 en G2, vervolgens door de versnellingsroosters G^, en G^ en tenslotte tussen de plaatvormige convergentie-electroden 8 en 11 door naar het geperforeerde rooster AG.As more particularly shown in Figure 1, such an electron gun 1 is mounted in the neck portion of the picture tube or cathode ray tube. The electron gun 1 is provided with three cathodes KR, KQ and KR, which extend in the same horizontal plane. The three cathodes are located behind a control grid followed by pre-focusing gratings G2 and G ^. The subsequent main focusing lens is formed by a grating G ^. Grids 10 G ^ and G ^ and grid Gj following the latter grid. form gear grids. After the acceleration grid, the inner convergence electrodes S and 9 and the outer convergence electrodes 11 and 12. The path followed by the electron beam from the cathode KR to the screen passes through the respective openings of the grids G ^ and G2, then through the acceleration grids G ^ / G4 and G5 and finally between the plate converging electrodes 9 and 12. The path followed by the electron beam from the cathode likewise passes through the electron gun 1 and then between the two plate-shaped convergence electrodes 8 and 9 to the perforated grid AG. The path followed by the electron beam from the cathode KR passes through the respective apertures in the grids 25 G1 and G2, then through the acceleration grids G ^, and G ^ and finally between the plate-shaped convergence electrodes 8 and 11 to the perforated grid AG.
Op het binnenoppervlak van het trechtervormige gedeelte van de beeldbuis is een laag geleidende koolstof aange-30 bracht, welke zich bovendien in achterwaartse richting over het binnenoppervlak van het halsgedeelte van de beeldbuis tot aan iet gebied van de convergentie-electroden 8, 9, 11 en 12 uitstrekt.A layer of conductive carbon is applied to the inner surface of the funnel-shaped portion of the display tube, which furthermore extends backwards over the inner surface of the neck portion of the display tube up to the area of the convergence electrodes 8, 9, 11 and 12 extends.
Figuur 1 toont een in het halsgedeelte van een beeld-35 buis afdichtend opgesloten electronenkanon volgens de uitvinding, terwijl figuur 2 het aansluitschema van de electro-den van het electronenkanon an van een weerstand 15 laat 790 55 24Figure 1 shows an electron gun according to the invention sealed in the neck section of a picture tube, while Figure 2 shows the connection diagram of the electrodes of the electron gun of a resistor 15 790 55 24
Aa
-6- 'm zien. In de figuren 1 en 2 heeft het verwijzingscijfer 1 betrekking op het electronenkanon in zijn geheel. Voorts is de beeldbuis voorzien van een voet 2 van glas, een daarmede één geheel vormende evacueringsbuis 3 en van in de voet 2 aange-5 brachte aansluitpennen 4. Deze aansluitpennen zijn verbonden met de verschillende electroden van de beeldbuis, zoals de gloeidraden van.de kathoden daarvan. Voorts bevat het electronenkanon de coaxiaal aangebrachte electroden of roosters G^, G2, G^, G4 en G5, die als samenhangend geheel worden onder-10 steund door van kraalglas vervaardigde steunorganen 5, 6. De convergentie-electroden 8, 9 zijn bevestigd aan een flensgedeelte 10 van het vijfde rooster G^, terwijl·de convergentie-electroden 11, 12 worden ondersteund door een zelf door de steunorganen 5, 6 gedragen steunstuk 13. Aan het flensgedeelte 15 10 steekt een daarmede één geheel vormend verbindingsorgaan 14 uit. Zoals nog zal worden verduidelijkt, verkeert dit ver-bindincsorcraan 14 in aanraking met de geleidende koolstoflaag op de binnenwand van het trechtervormige gedeelte van de beeldbuis; via dit verbindingsorgaan 14 kan een hoge spanning 20 van de gewenste waarde E^, dat wil zeggen dezelfde-waarde als dié van de aan het beeldscherm toegevoerde spanning of anode-spanning, aan het vijfde rooster G,_ worden aangelegd. Langs de roosters G, - Gc strekt zich een weerstand 15 uit, die aan-6- see it. In Figures 1 and 2, reference numeral 1 refers to the electron gun as a whole. The display tube is further provided with a base 2 of glass, an evacuation tube 3 which forms an integral part thereof and connecting pins 4 arranged in the base 2. These connecting pins are connected to the various electrodes of the display tube, such as the filaments of the cathodes thereof. The electron gun further comprises the coaxially arranged electrodes or grids G ^, G2, G ^, G4 and G5, which as a coherent whole are supported by support members 5, 6 made of bead glass. The convergence electrodes 8, 9 are attached to a flange portion 10 of the fifth grid G G, while the convergence electrodes 11, 12 are supported by a support 13 which is itself supported by the support members 5, 6. The flange portion 15 projects a unitary connecting member 14 therewith. As will be further explained, this bonding absorber 14 is in contact with the conductive carbon layer on the inner wall of the funnel-shaped portion of the picture tube; a high voltage 20 of the desired value E1, that is to say the same value as that of the voltage applied to the screen or anode voltage, can be applied to the fifth grid G via this connector 14. A resistor 15 extends along the grids G1-Gc
1 D1 D
zijn ene einde door een metalen steunorgaan 16 en aan zijn 25 andere einde door een leiding 22 wordt ondersteund. De weerstand 15 is voorzien van een "printed" weerstandsbaan 17, die is aangebracht op het ene hoofdoppervlak van een substraat van isolerend materiaal, bijvoorbeeld een substraat van keramisch materiaal. De weerstand 15 kan bijvoorbeeld de volgende af-30 metingen hebben: breedte 10 mm, lengte 50 mm en dikte 1,5 mm. Een rand van de weerstandsbaan 17 en het vijfde rooster G^ zijn electrisch met elkaar verbonden door het metalen steunorgaan 16, terwijl het vijfde rooster G^ en het derde rooster G^ via een leiding 19 met elkaar zijn verbonden. Op een voor-· · 35 af bepaalde plaats b, die zich op.vporaf bepaalde lengte van het ene uiteinde van de weerstandsbaan 17 bevindt, is de 790 5 5 24 -7- * weerstandsbaan via een leiding 20 electrisch met het vierde rooster verbonden, terwijl op een andere plaats a, die zich op eveneens vooraf bepaalde afstand van het ene uiteinde van de weerstandsbaan 17 bevindt een leiding 21 is aangesloten 5 voor electrische verbinding van de weerstandsbaan met de beide convergentie-electroden 11 en 12. Het andere uiteinde van de weerstandsbaan 17 is via een leiding 22 met een aansluitpen 4a verbonden. De convergentie-electroden 11 en 12 zijn met elkaar doorverbonden.one end is supported by a metal support member 16 and at its other end by a conduit 22. The resistor 15 is provided with a "printed" resistance web 17, which is provided on one main surface of a substrate of insulating material, for example a substrate of ceramic material. For example, the resistor 15 may have the following dimensions: width 10 mm, length 50 mm and thickness 1.5 mm. An edge of the resistance path 17 and the fifth grid G ^ are electrically connected by the metal support member 16, while the fifth grid G ^ and the third grid G ^ are connected by a conduit 19. At a predetermined location b, which is at a predetermined length of one end of the resistance path 17, the 790 5 5 24 -7- * resistance path is electrically connected to the fourth grid via a conduit 20. while at another location a, which is also at a predetermined distance from one end of the resistance path 17, a conduit 21 is connected for electrical connection of the resistance path to the two convergence electrodes 11 and 12. The other end of the resistance path 17 is connected via a line 22 to a connecting pin 4a. The convergence electrodes 11 and 12 are interconnected.
10 Het op dergelijke wijze uitgevoerde electronenkanon is, zoals figuur 3 laat zien, afdichtend in het halsgedeelte 23 van de beeldbuis opgesloten. Op de binnenwand van het halsgedeelte 23 en op de binnenwand van het niet .in de tekening weergegeven trechtervormige gedeelte van de beeldbuis bevindt 15 zich een koolstoflaag 24, waarop het verbindingsorgaan 14 aangrijpt. De koolstoflaag 24 is electrisch verbonden met een in het trechtervormige gedeelte van de beeldbuis aangebrachte knop, via welke een hoge spanning van bijvoorbeeld 30 KV vanaf de buitenzijde van de beeldbuis kan worden toegevoerd. Bij 20 een dergelijke constructie wordt de aan de koolstoflaag 24 toegevoerde, hoge spanning via het verbindingsorgaan 14 aan de convergentie-electroden 8, 9 en aan het vijfde rooster toegevoerd, terwij1 dezelfde spanning via de verbindingslei-ding 19 aan het derde rooster G^ en via ‘het steunorgaan 16 aan 25 het ene uiteinde van de weerstandsbaan 17 wordt toegevoerd.As shown in Figure 3, the electron gun designed in this manner is sealed in the neck portion 23 of the picture tube. On the inner wall of the neck portion 23 and on the inner wall of the funnel-shaped portion of the picture tube not shown in the drawing, there is a carbon layer 24 on which the connecting member 14 engages. The carbon layer 24 is electrically connected to a button arranged in the funnel-shaped part of the picture tube, via which a high voltage of, for example, 30 KV can be supplied from the outside of the picture tube. In such a construction, the high voltage supplied to the carbon layer 24 is applied through the connector 14 to the convergence electrodes 8, 9 and to the fifth grid, while the same voltage is applied through the connecting line 19 to the third grid. via the support member 16 at one end of the resistance path 17 is supplied.
De convergentie-electroden 8, 9 en de roosters G^, G^, worden derhalve op een zelfde potentiaal gebracht. Bovendien wordt de via de genoemde knop of anodeknop toegevoerde, hoge spanning eveneens aan het beeldscherm toegevoerd.The convergence electrodes 8, 9 and the grids G ^, G ^ are therefore brought to the same potential. Moreover, the high voltage supplied via said button or anode button is also supplied to the screen.
30 De aan hét ene uiteinde van de weerstandsbaan 17 aangelegde spanning wordt aan de aftakking ter plaatse a, verminderd met de spanningsval over het·ene uiteinde en de desbetreffende aftakking, dat wil zeggen na spanningsdeling, via de leiding 21 aan de convergentie-electroden 11 en 12 toege-35 voerd. De door soortgelijke spanningsdeling ter plaatse b verkregen, lagere spanning wordt via de leiding 20 aan het vierde rooster G^ toegevoerd. De leidingen 20 en 21 eindigen in klem- 7905524 'v -8- c men voor aangrijping op de aftakkingen ter plaatse b en a.The voltage applied at one end of the resistance path 17 is reduced at the branch at location a, minus the voltage drop across one end and the relevant branch, that is to say after voltage division, via the line 21 to the convergence electrodes 11 and 12 supplied. The lower voltage obtained by similar voltage division at location b is supplied via line 20 to the fourth grid G ^. The lines 20 and 21 terminate in terminals 7905524 'v-8- c for engagement with the branches at locations b and a.
De aan de convergentie-electroden 11 en 12 aangelegde potentiaal ligt derhalve enigszins lager dan de aan de convergentie-electroden 8, 9 aangelegde potentiaal en heeft bijvoorbeeld 5 een waarde van 29 KV, terwijl de potentiaal aan het vierde rooster G^ nog lager ligt en bijvoorbeeld een waarde van ongeveer 12 KV heeft. Het andere uiteinde van de weerstands-baan 17 is via de leiding 22 verbonden met de in de voet 22 aangebrachte aansluitpen 4a, welke aan zijn buitenzijde via .The potential applied to the convergence electrodes 11 and 12 is therefore somewhat lower than the potential applied to the convergence electrodes 8, 9 and has, for example, a value of 29 KV, while the potential on the fourth grid G ^ is even lower and for example, has a value of about 12 KV. The other end of the resistance path 17 is connected via the lead 22 to the terminal pin 4a arranged in the base 22, which via its outer side is connected via.
10 een variabele weerstand 25 is geaard. De variabele weerstand 25 dient ter verkrijging van een fijné regeling van de respectievelijk aan de convergentie-electroden 11 en 12 en het vierde rooster aangelegde potentialen. Het eerste rooster G1 en het tweede rooster G2 worden via aansluitpennen 4 in de 15 voet 2 van de beeldbuis met een vooraf bepaalde spanning gevoed, terwijl voorts via vooraf bepaalde aansluitpennen 4 de stroom voor'de gloeidraad van de kathode wordt toegevoerd.10 a variable resistor 25 is grounded. The variable resistor 25 serves to obtain a fine control of the potentials applied to the convergence electrodes 11 and 12 and the fourth grid, respectively. The first grid G1 and the second grid G2 are supplied with a predetermined voltage via connection pins 4 in the base 2 of the picture tube, while the current for the filament of the cathode is supplied via predetermined connection pins 4.
Ieder van de electroden ontvangt derhalve een spanning van de gewenste waarde, welke door aftakking van de weerstands-20 baan 17, dat wil zeggen door spanningsdeling, uit de via het verbindingsorgaan 14 toegevoerde anodespanning wordt verkregen.Each of the electrodes therefore receives a voltage of the desired value, which is obtained from the anode voltage supplied via the connecting means 14 by branching off the resistor path 17, ie by voltage division.
Bij de hiervoor beschreven.uitvoeringsvorm worden zowel de spanning voor de convergentie-electroden als de spanning voor de focusseringselectroden verkregen door spannings-25 deling van de anodespanning met behulp van de weerstand met aftakkingen. Het is uiteraard echter ook mogelijk om slechts de spanning voor de convergentie-electroden of slechts de spanning voor de focusseringselectroden op deze wijze af te leiden. Wanneer slechts de convergentiespanning door een der-30 gelijke spanningsdeling van -de anodespanning wordt gevormd, kan de betrekkelijk lage focusseringsspanning van 0-5 KV even-? tueel via een aansluitpen 4 van de voet 2 worden toegevoerd.In the above-described embodiment, both the voltage for the convergence electrodes and the voltage for the focusing electrodes are obtained by voltage division of the anode voltage using the tap resistance. However, it is of course also possible to derive only the voltage for the convergence electrodes or only the voltage for the focusing electrodes in this way. When only the convergence voltage is formed by such voltage division of the anode voltage, the relatively low focusing voltage of 0-5 KV can also be can be supplied via a connecting pin 4 of the base 2.
Bij een andere beeldbuis van gebruikelijk type dan het type "Trinitron" wordt slechts de focusseringsspanning 35 door spanningsdeling van de anodespanning verkregen. Volgens . · * de uitvinding is het in een dergelijk geval voldoende om met 790 55 24 * -9- slechts één anodeknop van eenvoudige constructie te volstaan; toepassing van een speciaal gevormde knop, zoals een coaxiale knop, is dan overbodig. De voor verbinding van de anodeknop met de convergentie-electroden dienende kabel wordt dan over-5 bodig, zodat ook in dat geval een vereenvoudigde constructie wordt verkregen.In a display tube of conventional type other than the "Trinitron" type, only the focusing voltage 35 is obtained by voltage division of the anode voltage. According to. The invention suffices in such a case to suffice with only one anode button of simple construction with 790 55 24 * -9-; the use of a specially shaped knob, such as a coaxial knob, is then unnecessary. The cable serving for connecting the anode button to the convergence electrodes then becomes superfluous, so that in that case too a simplified construction is obtained.
Zoals de figuren 1 en 2 laten zien, bestaat de weerstand uit een substraat 15 van isolerend materiaal, waarop een weerstandslaag 17 met aansluitelectroden 30a - 30d is 10 gevormd.As shown in Figs. 1 and 2, the resistor consists of a substrate 15 of insulating material, on which a resistive layer 17 with connection electrodes 30a-30d is formed.
De toepassing van een dergelijke weerstandslaag 17 in een kathodestraalbuis brengt met zich mede, dat het toegepaste weerstandsmateriaal aan bepaalde eisen voldoet. In de eerste plaats dient de temperatuurkarakteristiek van het mate-15 riaal bij hoge temperaturen niet te veranderen. Bovendien mag het materiaal niet verdampen. Voorts dient het materiaal tegen "sputtering" bestendig te zijn. Tenslotte mogen slechts zeer geringe variaties in de weerstandswaarde optreden.The use of such a resistance layer 17 in a cathode-ray tube means that the resistance material used meets certain requirements. First, the temperature characteristic of the material should not change at high temperatures. In addition, the material must not evaporate. Furthermore, the material should be resistant to sputtering. Finally, only very slight variations in the resistance value may occur.
Bij de vervaardiging van een kathodestraalbuis maakt 20 men vaak gebruik van een proces, dat bekend is als "knocking"? uiteraard dient het toegepaste weerstandsmateriaal niet de neiging te vertonen om bij de hoge temperaturen, die bij genoemd proces optreden, ter verdampen. Algemeen geldt namelijk, - dat een daling van het binnen een kathodestraalbuis heersende 25 vacuum tot een vermindering van de levensduur van de buis leidt.In the manufacture of a cathode ray tube, one often uses a process known as "knocking"? of course, the resistance material used should not tend to evaporate at the high temperatures that occur in said process. Generally, it holds that a decrease in the vacuum prevailing within a cathode ray tube leads to a decrease in the service life of the tube.
Aangezien een eventuele verdamping van binnen een dergelijke buis toegepast materiaal zeer schadelijk is, dient men derhalve zowel bij de keuze van toegepaste materialen als 30 bij de vooraf gaande behandeling zeer zorgvuldig te werk te gaan.Since any evaporation of material used within such a tube is very harmful, care must therefore be taken both in the choice of materials used and in the previous treatment.
Na de montage van het electronenkanon wordt tijdens het genoemde "knocking"-proces een hoge spanning van tweemaal de bedrijfsspanning, bijvoorbeeld 50-60 KV, tussen de conver-35 gentie-electrode en de aansluitpen aangelegd teneinde tussen de verschillende roosters - Gj. een 'boogontlading tot stand te brengen, welke tot gevolg heeft, dat zeer fijne materiaal- 79055 24 'Λ -10- deeltjes, die zich aan de ruwe eindranden van de cylinder- vormige roosters bevinden, worden verwijderd. Aangezien de desbetreffende hoge spanning ook over de weerstand 17 komt te staan, zal in de weerstand 17 een warmte-ontwikkeling volgens 2 5 de formule I R optreden, waarbij I de stroom door en R de weerstandswaarde van de weerstand 17 is. In verband met het voorgaande is het noodzakelijk om te verhinderen, dat de weer- standswaarde van de weerstand 17 zich wijzigt of dat het weer-standsmateriaal zelf verdampt als gevolg van de tijdelijke 10 oververhitting.After the mounting of the electron gun, during the said "knocking" process, a high voltage of twice the operating voltage, for example 50-60 KV, is applied between the conversion electrode and the connecting pin in order to move between the different grids - Gj. creating an arc discharge which results in the removal of very fine material particles, which are located on the rough end edges of the cylindrical grids. Since the relevant high voltage will also be applied across resistor 17, a heat development according to formula I R will occur in resistor 17, where I is the current through and R is the resistance value of resistor 17. In view of the foregoing, it is necessary to prevent the resistance value of the resistor 17 from changing or the resistance material itself from evaporating due to the temporary overheating.
Voor de weerstandswaarde R kan bijvoorbeeld een willekeurig geschikte waarde tussen 300 en 1000 MOhm worden gekozen, doch de eventueel optredende variaties van de desbetreffende weerstandswaarde dienen zo klein mogelijk te zijn. Zoals 15 figuur 2 laat zien, heeft de weerstand van de baan 17 tussen de aansluitelectrode 30a en de plaats a een waarde en tussen de plaats a en de aansluitelectrode 30d een waarde R2· De waarde van het produkt Rl dient ter verkrijging van R1 + R2 20 een voldoende stabiele weerstandswaarde binnen grenzen van - 0,3 % van de vooraf bepaalde, nominale waarde te blijven.For the resistance value R, for example, any suitable value between 300 and 1000 MOhm can be chosen, but any variations of the relevant resistance value that may occur should be as small as possible. As Figure 2 shows, the resistance of the path 17 between the connecting electrode 30a and the position a has a value and between the position a and the connecting electrode 30d has a value R2 · The value of the product R1 serves to obtain R1 + R2 20 to maintain a sufficiently stable resistance value within the limits of - 0.3% of the predetermined nominal value.
Een ander probleem van belang wordt gevormd door de oppervlakte-ontladingsverschijnselen, die tijdens het "knocking"-proces door het hoge spanningsveld worden opgewekt 25 en "sputtering" langs de weerstandsbaan 17 kunnen veroorzaken. Daardoor verandert de weerstandswaarde R van de baan, terwijl het bij "sputtering" vrijkomende materiaal schadelijk voor een goede functionering van het electronenkanon is. Derhalve dient er op te worden toegezien, dat geen "sputtering" optreedt.Another problem of interest is the surface discharge phenomena, which are generated by the high voltage field during the "knocking" process and can cause "sputtering" along the resistance path 17. As a result, the resistance value R of the web changes, while the material released during sputtering is detrimental to the proper functioning of the electron gun. Therefore, care should be taken that no "sputtering" occurs.
30 Volgens de uitvinding wordt als materiaal voor de weerstand 17 rutheniumoxide-glas gebruikt. Dergelijk materiaal bestaat uit een mengsel van een bindmiddel, bijvoorbeeld boorsilicaatglas, rutheniumoxidepoeder met toevoegingen zoals Ti of A^O^, een organisch bindmiddel zoals ethylcellulose en 35 een oplosmiddel zoals butylcarbitolacetaat, waardoor de gewenste eigenschappen worden verkregen.According to the invention, the material for the resistor 17 is ruthenium oxide glass. Such a material consists of a mixture of a binder, for example borosilicate glass, ruthenium oxide powder with additives such as Ti or A 2 O 3, an organic binder such as ethyl cellulose and a solvent such as butylcarbitol acetate, whereby the desired properties are obtained.
7905524 -11-7905524 -11-
Een pasta voor het maken van de weerstands laag wordt verkre-. gen door de genoemde stoffen door elkaar te roeren, waarna de aldus verkregen pasta volgens het in de figuren 1 en 2 weergegeven zig-zag-patroon op een keramisch substraat 15, dat 5 bijvoorbeeld 90-97 % bevat, wordt aangebracht.A paste for making the resistance layer is obtained. by stirring the said substances together, after which the paste thus obtained is applied according to the zig-zag pattern shown in Figures 1 and 2 on a ceramic substrate 15, which for instance contains 90-97%.
Vervolgens wordt het aldus behandelde substraat binnen een temperatuurgebied van 75Q-850°C gedurende 40-60 minuten verhit, waarna over de weerstandsbaan en de aansluit-electroden een bedekkingslaag van glas wordt aangebracht.The substrate thus treated is then heated within a temperature range of 75 DEG-850 DEG C. for 40-60 minutes, after which a coating of glass is applied over the resistance path and the connecting electrodes.
10 Omtrent de pasta van rutheniumoxide en glas kan worden gesteld, dat naarmate de gewichtsverhouding van de componenten Ru02 en glas (RuC^/gias) toeneemt, de soortelijke oppervlakte-weerstand afneemt. Naarmate de korrelgrootte van het rutheniumoxide toeneemt, zal de oppervlakteweerstand afnemen.Regarding the paste of ruthenium oxide and glass, it can be stated that as the weight ratio of the components RuO2 and glass (RuCl / gias) increases, the surface resistivity decreases. As the grain size of the ruthenium oxide increases, the surface resistance will decrease.
15 Volgens de uitvinding wordt voor de genoemde ge wichtsverhouding Ru02/glas een waarde van ongeveer 20/80 gekozen.According to the invention, a value of about 20/80 is chosen for the said weight ratio RuO 2 / glass.
Na de genoemde verhitting bedraagt de dikte van de weerstandslaag 17 ongeveer 10-15 ^,ηιη. Hoewel de aldus vervaar-20 digde weerstand tijdens het "knocking”-proces aan hoge temperaturen en drukken wordt onderworpen, blijkt de in de weer-standswaarde optredende verandering minder dan 10 % te bedragen, terwijl practisch geen verdamping optreedt. Aangezien rutheniumoxide een "sputtering"-coëfficiënt van lage waarde 25 heeft, treedt in vergelijking met tot nog toe bekende elec-tronenkanonnen practisch geen beschadiging door tijdens de "sputtering" vrijkomend materiaal op.After said heating, the thickness of the resistance layer 17 is about 10-15 µm. Although the resistance thus produced is subjected to high temperatures and pressures during the knocking process, the change in the resistance value appears to be less than 10%, while practically no evaporation occurs. Since ruthenium oxide sputters has a coefficient of low value 25, compared to previously known electron guns practically no damage occurs by material released during the sputtering.
De aansluitelectroden 30a - 30d kunnen op de volgende wijze worden vervaardigd.The terminal electrodes 30a-30d can be manufactured in the following manner.
30 Gewoonlijk wordt voor het materiaal van de aansluit electroden van een weerstandsbaan van het hier beschouwde type Ag of Ag-Pd gebruikt, dat in een betrekkelijk dikke laag wordt aangebracht. Wanneer de weerstandsbaan binnen een vacuum-omgeving zoals het inwendige van een kathodestraalbuis wordt 35 aangebracht, gelden de vier hiervoor genoemde vereisten evenzeer voor de aansluitelectroden als voor het materiaal van 790 55 24 -12- de weerstandsbaan zelf.Usually, the material of the connection electrodes of a resistive track of the type considered here is Ag or Ag-Pd, which is applied in a relatively thick layer. When the resistance path is applied within a vacuum environment such as the interior of a cathode ray tube, the four aforementioned requirements apply equally to the connection electrodes as to the material of the resistance path itself.
Het belangrijkste probleem wordt gevormd door eventuele verdamping van het electrodemateriaal en door inwerking van "sputtering" op het electrodemateriaal tijdens de hoge 5 temperatuur en onder de invloed van het sterke electrische veld, welke tijdens het "knocking"-proces worden toegepast. Tijdens dit proces uitgevoerde experimenten ingeval van toepassing van Ag of Ag-Pd als materiaal voor de aansluitelec-troden bij een weerstandsbaan 17 van op een substraat van 10 Al2Og aangebracht Ru02-glas hadden tot resultaat, dat aan de aansluitelectroden een sterkere verdamping optreedt dan aan het Ru02~glas, terwijl de boogontlading zich hoofdzakelijk aan het oppervlak van de aansluitelectroden concentreert.The main problem is caused by possible evaporation of the electrode material and by the effect of "sputtering" on the electrode material during the high temperature and under the influence of the strong electric field, which are applied during the "knocking" process. Experiments carried out during this process when using Ag or Ag-Pd as the material for the connection electrodes at a resistance path 17 of RuO2 glass applied to a substrate of 10 Al2Og resulted in a higher evaporation at the connection electrodes than at the Ru02 glass, while the arc discharge concentrates mainly on the surface of the connection electrodes.
Volgens de uitvinding worden de aansluitelectroden 15 van hetzelfde materiaal als dat van de weerstandsbaan 17 vervaardigd, bijvoorbeeld van Ru02~glas. Ook materiaal met een hoge gewichtsverhouding Ru02-glas doch een lagere oppervlakte-weerstandswaarde dan dié van het voor de weerstandsbaan'17 gebruikte materiaal komt voor gebruik als aansluitelectrode 20 in aanmerking.According to the invention, the connection electrodes 15 are made of the same material as that of the resistance path 17, for example of RuO2 glass. Material with a high weight ratio of RuO2 glass but a lower surface resistance value than that of the material used for the resistance path 17 is also suitable for use as a connecting electrode.
Een eerste uitvoeringsvorm van een weerstand volgens de uitvinding is weergegeven in de figuren 5A-5B. De desbetreffende weerstand of weerstandsbaan wordt op de volgende wijze vervaardigd. .A first embodiment of a resistor according to the invention is shown in Figures 5A-5B. The respective resistor or resistance path is manufactured in the following manner. .
25 Aangenomen wordt, dat de aansluitelectroden 30a - 30d en de weerstandsbaan 17 zelf volgens het in figuur 5A weergegeven patroon op het substraat 15 dienen te worden aangebracht, waarbij de aansluitelectroden na het verhittings-proces een dikte van ongeveer 10 pm. moeten hebben.It is believed that the terminal electrodes 30a-30d and the resistive path 17 themselves should be applied to the substrate 15 according to the pattern shown in Figure 5A, the terminal electrodes having a thickness of about 10 µm after the heating process. have to have.
30 Uit experimenteel onderzoek van een weerstandsele- ment volgens figuur 4 is gebleken, dat aan de aansluitelectroden van RuC>2 een geringere verdamping optreedt dan aan aansluitelectroden van Ag of Ag-Pd. Het bij verdamping van aansluitelectroden van het laatstgenoemde type vrijkomende 35 eras bevat hoofdzakelijk zuurstof. Wanneer een pasta van Ag aan een behandeling bij hoge temperatuur wordt onderworpen, treedt oxidatie op, waarbij een mengsel van een stabiel oxide, bij- 790 5 5 24 -13- c voorbeeld Ag^O , wordt verkregen.Experimental research of a resistance element according to figure 4 has shown that less evaporation occurs on the connection electrodes of RuC> 2 than on connection electrodes of Ag or Ag-Pd. The eras released on evaporation of connecting electrodes of the latter type mainly contains oxygen. When a paste of Ag is subjected to a high temperature treatment, oxidation occurs, whereby a mixture of a stable oxide, e.g. Ag90, is obtained.
Eerst worden de aansluitelectroden 30a - 30d in de vooraf bepaalde, gewenste vorm op het oppervlak van het substraat 15 van Α120^ gevormd als dunne lagen, bijvoorbeeld 5 door zeefdruk (screen printing). Als materiaal voor de aansluitelectroden wordt een glaspasta gebruikt, waarvan de gewichtsverhouding RuO^/glas meer dan 35/65 bedraagt.First, the terminal electrodes 30a-30d are formed in the predetermined desired shape on the surface of the 15120 ^ substrate 15 as thin layers, for example, by screen printing. A glass paste is used as the material for the connection electrodes, the weight ratio of which is RuO / glass exceeds 35/65.
Vervolgens wordt de weerstandsbaan 17 -volgens een zig-zag-patroon tussen de aansluitelectroden aangebracht in 10 de vorm van een pastalaag van RuC^-glas met een hoge opper-vlakteweerstandswaarde (sheet resistivity); verwezen wordt naar figuur 5A. Daarbij worden einddelen 31a - 31f gevormd, welke de tegenovergelegen randen van respectievelijk de aansluitelectroden 30a - 3Of bedekken, zodat een goede elec-15 trische verbinding met de aansluitelectroden wordt verkregen (zie figuur 5B). Bij de vervaardiging van een weerstandsbaan 17 volgens de figuren 5A en 5B vindt verhitting van het substraat van A1203 plaats met behulp van een onstabiel oxide, bijvoorbeeld AgO of Ag202; dit onstabiele oxide zal worden 20 ontleed tot Ag20 en 02, waardoor een stabiel oxide wordt verkregen. Bij de weerstandsbaan 17 volgens de onderhavige uitvinding hebben de reeds genoemde einddelen 31a - 31f daarvan een hoge weerstandswaarde; zij bedekken de tegenovergelegen randen van de aansluitelectroden, die een lage weer-25 standswaarde hebben.Subsequently, the resistance path 17, in accordance with a zig-zag pattern, is placed between the connection electrodes in the form of a paste layer of RuCl 2 glass with a high surface resistivity value; reference is made to Figure 5A. End parts 31a-31f are thereby formed which cover the opposite edges of the connecting electrodes 30a-3 or respectively, so that a good electrical connection with the connecting electrodes is obtained (see figure 5B). In the manufacture of a resistance web 17 according to Figs. 5A and 5B, heating of the substrate of Al2 O3 takes place using an unstable oxide, for example AgO or Ag2O2; this unstable oxide will decompose to Ag 2 O and O 2 to give a stable oxide. In the resistance path 17 according to the present invention, the aforementioned end parts 31a-31f thereof have a high resistance value; they cover the opposite edges of the connection electrodes, which have a low resistance value.
Als gevolg daarvan wordt tegengegaan, dat de tijdens het "knocking"-proces optredende boogontlading zich op de aansluitelectroden concentreert, zodat geen "sputtering" optreedt.As a result, the arc discharge occurring during the knocking process is prevented from concentrating on the connection electrodes, so that no sputtering occurs.
30 Bij de tweede uitvoeringsvorm, weergegeven in figuur 6, wordt iedere aansluitelectrode 30a - 30d volledig bedekt door het materiaal van de weerstandsbaan 17. Hoewel de contact- of overgangsweerstand in geringe mate toeneemt, treden geen problemen op, daar de op de aansluitelectroden aange-35 brachte weerstandslaag zeer dun is.In the second embodiment, shown in Figure 6, each terminal electrode 30a-30d is completely covered by the material of the resistor track 17. Although the contact or transition resistance increases slightly, no problems arise as the terminals on the terminal electrodes 35 resistance layer is very thin.
Bij de in de figuren 7A en 7B Weergegeven, derde uitvoeringsvorm is over de op het substraat 15 gevormde weer- 790 55 24 '·# -14- standsbaan 17 en aansluitelectroden 30a - 30d een glaslaag 32 aangebracht? deze verhindert, dat bij de hoge behandelings-temperaturen verdamping van materiaal van de aansluitelectroden en de weerstandsbaan optreedt en dat de weerstands-5 waarde als gevolg van "sputtering” verandert.In the third embodiment shown in Figs. 7A and 7B, a glass layer 32 is applied over the resistive path 17 formed on the substrate 15 and terminal electrodes 30a-30d. this prevents evaporation of material from the electrodes and the resistive path at the high treatment temperatures and the resistance value from changing due to "sputtering".
Als materiaal voor de glaslaag 32 wordt een pasta met boorsilicaat-loodglas en 10-40 gew. & A^O^ Poec^er (grained powder) gebruikt. Voor de verhouding tussen de ge-wichtsdelen boorsilicaat-loodglas en aluminiumoxide 10 (crlas/A^O-j) worden waarden tussen 90/10 en 75/25 gekozen.As the material for the glass layer 32, a paste with borosilicate lead glass and 10-40 wt. & A ^ O ^ Poec ^ er (grained powder) used. Values between 90/10 and 75/25 are chosen for the ratio between the parts by weight of borosilicate-lead glass and alumina (crlas / Al 2 O-j).
Het mengsel van boorsilicaat-loodglas en aluminiumoxide in de vooraf bepaalde mengverhouding en 10-20 % organisch bindmiddel en oplosmiddel wordt door zeefdruk (screen printing) op het weerstandselement aangebracht. Teneinde een uiteinde-15 lijk dikke beschermingslaag te verkrijgen, wordt het mengsel als een twee- of drievoudige laag aangebracht door middel van een "50-100 mesh screen" (200-300 ^am dikte). Hen glaslaag 32 met een dikte van 200-400 ^um wordt verkregen door gedurende 20-30 minuten tot een temperatuur van 550-650°C te verhitten.The mixture of borosilicate-lead glass and alumina in the predetermined mixing ratio and 10-20% organic binder and solvent is screen-printed on the resistive element. In order to obtain an ultimately thick protective layer, the mixture is applied as a two or three layer by means of a "50-100 mesh screen" (200-300 µm thickness). Their glass layer 32 having a thickness of 200-400 µm is obtained by heating to a temperature of 550-650 ° C for 20-30 minutes.
20 Het doel van de toevoeging van Al^O^-poeder aan het glasmateriaal is het verbeteren van de mechanische sterkte van de glaslaag 32. In het algemeen kan worden gesteld, dat wanneer de glaslaag 32 een grote dikte heeft, het gevaar van scheuren door incidentele belastingen toeneemt. De toevoeging 25 van aluminiumoxide aan het glasmateriaal verhindert dit echter. Bovendien is het op die wijze mogelijk, om de uitzettings-.coëfficiënt van de glaslaag in overeenstemming met dié van het A^Og-substraat 15 te brengen. De variatie Van de weerstands-waarde van de met een A^O^ bevattende glaslaag 32 bedekte 30 weerstandsbaan na het zogenaamde "knocking”-proces is weergegeven in figuur 8, waarin drie verschillende percentages AI2O3 zijn vergeleken. De bovenste kromme heeft betrekking op een gewichtspercentage A^O^ van 0 %, de middelste kromme op een gewichtspercentage van 20 % en de onderste kromme op een 35 gewichtspercentage van 10 %.The purpose of the addition of Al 2 O 3 powder to the glass material is to improve the mechanical strength of the glass layer 32. Generally, it can be said that when the glass layer 32 has a large thickness, the risk of cracking by incidental taxes are increasing. However, the addition of aluminum oxide to the glass material prevents this. In addition, it is possible in this way to match the expansion coefficient of the glass layer with that of the A0 Og substrate 15. The variation of the resistance value of the resistance path covered with an A 2 O 3 glass layer 32 after the so-called "knocking" process is shown in Figure 8, in which three different percentages of Al 2 O 3 are compared. The top curve refers to a weight percentage A ^ O ^ of 0%, the middle curve at 20% by weight and the bottom curve at 35% by weight of 10%.
De weerstandsbaan 17 wordt derhalve op de beschreven wijze met één of meer glaslagen van verschillende dikte 790 5 5 24 -15- bedekt.The resistance path 17 is therefore covered in the manner described with one or more glass layers of different thickness 790 5 -15 -15.
Het electronenkanon volgens de uitvinding wordt onderworpen aan een "knockincf'-behandeling, waarna de afwijking van de weerstandswaarde van de weerstandsbaan 17 wordt gecorrigeerd 5 met behulp van de variabele weerstand 25 volgens figuur 2.The electron gun according to the invention is subjected to a "knock-in" treatment, after which the deviation of the resistance value of the resistance path 17 is corrected with the aid of the variable resistor 25 according to figure 2.
Figuur 8 laat de weerstandscorrectiewaarden zien als functie van de dikte van de glaslaag 32. Wanneer een glaslaag 32 met 10-20 gew. % AljO^ een dikte in het gebied van 200-400 ^im heeft, is de benodigde weerstandswaardecorrectie zeer gering, 10 daar de kromme nagenoeg vlak verloopt en lager ligt dan bij de andere voorbeelden. Indien de glaslaag geen bevat, kan zijn dikte niet meer dan 80-100 bedragen in verband met de eisen van mechanische sterkte en stabiliteit (constantheid) van de weerstandswaarde. In het geval van een glaslaag 15 zonder A1203 met een dikte van minder dan 80-100 ^im is de verandering van de weerstandswaarde zeer groot als gevolg van "sputtering" en van de verhitting tot hoge temperatuur; in verband daarmede kan een glas van dergelijke samenstelling -in de praktijk niet worden gebruikt.Figure 8 shows the resistance correction values as a function of the thickness of the glass layer 32. When a glass layer 32 with 10-20 wt. When the thickness of AljO 2 has a thickness in the range of 200-400 µm, the resistance value correction required is very small, since the curve is almost flat and lower than in the other examples. If the glass layer does not contain, its thickness cannot exceed 80-100 due to the requirements of mechanical strength and stability (constancy) of the resistance value. In the case of a glass layer 15 without Al2 O3 with a thickness of less than 80-100 µm, the change of the resistance value is very large due to sputtering and heating to high temperature; in connection therewith, a glass of such composition cannot be used in practice.
20 Indien de glaslaag meer dan 40 gew. % Α12<33 bevat, wordt de laag poreus, waardoor onvoldoende bescherming van de weerstandsbaan 17 en de aansluitelectroden 30a — 30d tegen de invloed van "sputtering” en tegen concentratie van de boogontlading op de electroden wordt verkregen. Hoewel de aan-25 sluitelectroden 30a - 30d bij de uitvoeringsvorm volgens figuur 7 niet door einddelen van de weerstandsbaan zelf worden bedekt, zijn zij evenzeer tegen "sputtering" beschermd als in het geval van de uitvoeringsvormen volgens de figuren 5 en 6, waarbij een glaslaag 32 over de weerstandsbaan ligt; zelfs in-30 dien het buitenste-laaggedeelte.van de glaslaag 32 uit glas zonder Al2C>3 bestaat en een dikte in het gebied van 50-100 pm' heeft, komt het voor practisch gebruik in aanmerking. In het algemeen kan worden gesteld dat wanneer de glaslaag een meng-component A^O^ bevat, de drempelspanning van de glaslaag 35 enigszins daalt. Door de beschreven maatregelen kunnen de veranderingen van de weerstandswaarde echter worden gereduceerd, 790 55 24 -16- terwijl een hoge drempelspanningswaarde wordt verkregen.If the glass layer exceeds 40 wt. % Α12 <33, the layer becomes porous, whereby insufficient protection of the resistive path 17 and the connection electrodes 30a-30d against the influence of "sputtering" and against concentration of the arc discharge on the electrodes is obtained. Although the connection electrodes 30a 30d in the embodiment according to figure 7 are not covered by end parts of the resistance path itself, they are just as protected against sputtering as in the case of the embodiments according to figures 5 and 6, in which a glass layer 32 lies over the resistance path; even if the outer layer portion of the glass layer 32 consists of glass without Al2C> 3 and has a thickness in the range of 50-100 µm, it is suitable for practical use. the glass layer contains a mixing component A ^ O ^, the threshold voltage of the glass layer 35 decreases somewhat, however, the changes in the resistance value can be reduced by the measures described, 790 55 24 -16- while obtaining a high threshold voltage value.
Figuur 9 toont twee krommen, die respectievelijk met een gebroken en een volle lijn zijn getekend. De met een gebroken lijn getekende kromme heeft betrekking op aansluitelec-5 troden van Ag zonder een beschermende glaslaag,· terwijl de met een volle lijn getekende kromme betrekking heeft op een weerstand met aansluitelectroden van RuC^· De krommen tonen de hoeveelheid zuurstof, die uit het aansluitelectrodemat'eriaal verdampt, als functie van verschillende temperatuurwaarden.· ♦ 10 De hoeveelheid verdampte zuurstof is langs de ordinaat van de • grafiek weergegeven door de ionisatiestroomsterkte, die bij massaspectrometrisch onderzoek van het verdampende C^-gas door omzetting wordt verkregen. Zoals uit de grafiek blijkt, verschaft de uitvinding de mogelijkheid om tot een weerstands-15 baan met een dikke laag van nauwkeurig bepaalde weerstandswaarde te komen, welke onder de hoge temperaturen en drukken, die bij de vervaardiging van kathodestraalbuizen worden toegepast, stabiele electrische eigenschappen vertoont.Figure 9 shows two curves, drawn with broken and solid lines, respectively. The dashed curve refers to Ag terminal electrodes without a protective glass layer, while the solid curve represents a resistance with RuC terminal electrodes. The curves show the amount of oxygen released from the the terminal electrodes evaporate as a function of different temperature values. The quantity of evaporated oxygen is shown along the ordinate of the graph by the ionisation current, which is obtained by conversion by mass spectrometric examination of the evaporating gas. As can be seen from the graph, the invention provides the ability to achieve a thick film resistance path of precisely determined resistance value which exhibits stable electrical properties under the high temperatures and pressures used in the manufacture of cathode ray tubes. .
Volgens de uitvinding.wordt over het gehele 20 oppervlak van de weefstandsbaan een isolerende glaslaag aangebracht, welke "sputtering" verhindert tijdens de behandeling van het electronenkanon aan het "knocking"-proces, waarbij een tweemaal zo hoge spanning als de tijdens normaal bedrijf toegepaste, hoge spanning wordt aangelegd. Zoals reeds is op-25 gemerkt, dient het "knocking"-proces om door boogontladingen bramen van de verschillende electroden te verwijderen.According to the invention, an insulating glass layer is applied over the entire surface of the weaving web, which prevents "sputtering" during the treatment of the electron gun from the "knocking" process, whereby twice the voltage applied during normal operation, high voltage is applied. As already noted, the "knocking" process serves to remove burrs from the various electrodes by arc discharges.
Indien geen isolerende glaslaag zou worden toegepast, dan is het waarschijnlijk, dat de weerstandsbaan wordt beschadigd door de tijdens het genoemde proces optredende 30 boogontladingen tussen delen van de weerstand; de onderhavige uitvinding beschermt de weerstand daartegen. Voorts wordt opgemerkt, dat indien de weerstand zou worden vervaardigd van gebruikelijk materiaal, zoals zilver of zilverlegeringen, na het "knocking"-proces een aanzienlijke verandering van de 35 weerstandswaarde zal zijn opgetreden. Bovendien kan nog worden opgemerkt, dat wanneer' zilver bf zilver bevattend materiaal 7905524 -17” ·* wordt gebruikt, tijdens het genoemde proces zuurstof zal vrij-komen. Wanneer de temperatuur van het weerstandsmateriaal stijgt zal een gedeelte van de zuurstof verdampen, hetgeen een ongewenste daling van het vacuum veroorzaakt.If an insulating glass layer were not to be used, then it is likely that the resistance path will be damaged by the arc discharges occurring between parts of the resistance during the said process; the present invention protects the resistance thereto. It is further noted that if the resistor were to be made of conventional material, such as silver or silver alloys, a significant change in the resistance value would have occurred after the "knocking" process. Moreover, it should also be noted that when silver or silver-containing material 7905524-17 * is used, oxygen will be released during said process. When the temperature of the resistive material rises, some of the oxygen will evaporate, causing an undesired drop in vacuum.
5 De toepassing van rutheniumoxide leidt bij toepas sing van de uitvinding ertoe, dat een weerstand wordt verkregen, waaruit tijdens het "knocking"-proces geen zuurstof verdampt? de toevoeging van de glaslaag 32 beschermt de weer-. stand. Een voorbeeld daarvan is weergegeven in de figuren 7A en 10 7B. Door de weerstandsbaan te bedekken met glas van vooraf bepaalde dikte wordt een uitstekende beveiliging tegen beschadiging van de weerstandsbaan verkregen. Gewoonlijk zullen dikke glaslagen de neiging tot poreusheid vertonen, hetgeen niet bevorderlijk is voor een boogontlading. Bovendien is het 15 moeilijk om glaslagen met een dikte van meer dan 100 Jpm aan te brengen. Volgens de onderhavige uitvinding wordt echter aan het als beschermingslaag dienende glas een hoeveelheid aluminium-oxide in poedervorm (A^O^) toegevoegd, zodat een mengsel ontstaat, dat een goede beschermingsglaslaag vormt, welke zeer 20 sterk is en een hoge doorslagspanningswaarde heeft; bovendien is het glas niet poreus.When using the invention, the use of ruthenium oxide results in a resistance from which no oxygen evaporates during the "knocking" process. the addition of the glass layer 32 protects the weather. stand. An example thereof is shown in Figures 7A and 10B. Covering the resistance path with glass of predetermined thickness provides excellent protection against damage to the resistance path. Usually thick glass layers will tend to become porous, which is not conducive to arc discharge. Moreover, it is difficult to apply glass layers with a thickness of more than 100 Jpm. According to the present invention, however, an amount of powdered aluminum oxide (A 2 O 3) is added to the protective glass glass to form a mixture which forms a good protective glass layer which is very strong and has a high breakdown voltage value; in addition, the glass is not porous.
De weerstandsbaan is vervaardigd van rutheniumoxide en glas, waarbij de zich aan de bovenzijde bevindende aan-sluitelectrode een lagere weerstandswaarde dan het hoofdge-25 deelte van de weerstandsbaan heeft.The resistance path is made of ruthenium oxide and glass, the top electrode located on the top having a lower resistance value than the main portion of the resistance path.
Bij de onderhavige uitvinding is de thermische uit-zettingscoëfficient van de glaslaag ongeveer gelijk aan dié van het substraat. Dit laatstgenoemde is vervaardigd van keramisch materiaal, zoals A^O^, terwijl de glaslaag A^O^ in 30 poedervorm, een bindmiddel, een oplosmiddel en glas bevat, waarbij de gewichtsverhouding van het tot het glas zo danig is gekozen, dat de thermische uitzettingscoëfficient van de laag en van het keramisch substraat zo goed als geheel met elkaar overeenkomen.In the present invention, the thermal expansion coefficient of the glass layer is approximately equal to that of the substrate. The latter is made of ceramic material, such as A ^ O ^, while the glass layer A ^ O ^ in powder form contains a binder, a solvent and glass, the weight ratio of the to the glass being chosen such that the thermal coefficient of expansion of the layer and of the ceramic substrate correspond as good as a whole.
35 Zoals figuur 8 laat zien, zal de verandering van de weerstandswaarde bij een glaslaag zonder A^O^ zeer groot zijn, terwijl een dergelijke glaslaag ook gemakkelijk door 79055 - J* -18- een geringe schok tot scheuren kan worden gebracht.As shown in figure 8, the change of the resistance value for a glass layer without A 2 O 2 will be very great, while such a glass layer can also easily be cracked by a slight shock.
Door toevoeging van zoals de krommen 10 % en 20 % laten zien, zal de bestendigheid van de glaslaag tegen scheuren aanzienlijk worden verbeterd.By adding as the curves show 10% and 20%, the resistance of the glass layer to cracking will be considerably improved.
5 Het glas dient niet meer dan 40 gew. % Al^O^ te bevatten, daar anders poreusiteit optreedt.5 The glass should not exceed 40 wt. % Al ^ O ^, otherwise porosity will occur.
Wanneer het A^O^ i-n een gewichtsverhouding van 10-40 % met het glas wordt gemengd, zal zowel de mechanische 9 sterkte als de bestendigheid tegen "sputtering11 goed zijn, 10 terwijl de dikte van de glaslaag in het gebied van 100-400 jam kan liggen, waardoor zeer goede eigenschappen worden verkregen.When the A ^ O ^ is mixed with the glass in a weight ratio of 10-40%, both the mechanical strength and the resistance to sputtering11 will be good, while the thickness of the glass layer will be in the range of 100-400 µm can lie, so that very good properties are obtained.
Zoals figuur 8 in het diktegebied van 200-400 ^un laat zien, is de verandering van de weerstandswaarde na. "knocking" minder dan 10 Mr. Deze weerstandswaarde kan worden 15 gecorrigeerd met behulp van de weerstand 25, hetgeen in geval van een grote waardeverandering niet goed mogelijk zou zijn.As Figure 8 shows in the thickness range of 200-400 µm, the change in resistance value is after. knocking less than 10 Mr. This resistance value can be corrected with the aid of the resistor 25, which would not be possible in the event of a large change in value.
Bij de uitvoeringsvorm volgens figuur 5 zijn de aan-sluitelectroden aan hun bovenzijde gedeeltelijk bedekt met het 20 weerstandsmateriaal, waardoor bescherming tegen boogontla-dingen wordt verkregen. Een deel van de aansluitelectroden dient onbedekt te blijven, teneinde aanraking van buitenaf mogelijk te maken.In the embodiment according to Figure 5, the connection electrodes are partially covered on their top side with the resistive material, whereby protection against arc discharges is obtained. Some of the connection electrodes should be left uncovered to allow outside contact.
De uitvinding beperkt zich niet tot de in het voor-25 gaande beschreven en in de tekening weergegeven uitvoeringsvormen. Verschillende wijzigingen, kunnen in de beschreven onderdelen en in hun onderlinge samenhang worden aangebracht, zonder dat daarbij het kader van de uitvinding wordt overschreden.The invention is not limited to the embodiments described above and shown in the drawing. Various modifications can be made in the described parts and in their mutual connection, without exceeding the scope of the invention.
30 7S0 5 5 2430 7S0 5 5 24
Claims (22)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8650778 | 1978-07-15 | ||
| JP8650778A JPS5514627A (en) | 1978-07-15 | 1978-07-15 | Voltage dividing resistor for electron gun structure |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL7905524A true NL7905524A (en) | 1980-01-17 |
Family
ID=13888885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL7905524A NL7905524A (en) | 1978-07-15 | 1979-07-16 | Electron gun for a cathode ray tube serving as a color image tube, plus resistance with electrodes for such an electron gun. |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5514627A (en) |
| AU (1) | AU537737B2 (en) |
| DE (1) | DE2928702A1 (en) |
| FR (1) | FR2431183A1 (en) |
| GB (1) | GB2028576B (en) |
| NL (1) | NL7905524A (en) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5829894Y2 (en) * | 1978-09-05 | 1983-06-30 | 三菱電機株式会社 | electron gun structure |
| GB2122414A (en) * | 1982-06-15 | 1984-01-11 | Thorn Emi Brimar Limited | Cathode ray tubes incorporating a protective resistor |
| JPS6079644A (en) * | 1983-10-07 | 1985-05-07 | Mitsubishi Electric Corp | Electron gun for high power klystron |
| JPS60130033A (en) * | 1983-12-16 | 1985-07-11 | Sony Corp | Built-in resistor of cathode ray tube |
| JPS60169771A (en) * | 1984-02-14 | 1985-09-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Electrostatic potential detection apparatus |
| JPS60212943A (en) * | 1984-04-06 | 1985-10-25 | Sony Corp | Resistor installed in cathode-ray tube |
| JPS60239001A (en) * | 1984-05-12 | 1985-11-27 | ソニー株式会社 | Coating insulating resistor |
| DE3575495D1 (en) * | 1984-05-24 | 1990-02-22 | Toshiba Kawasaki Kk | RESISTANCE BUILT INTO AN ELECTRONIC TUBE. |
| US4672269A (en) * | 1984-06-14 | 1987-06-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Built-in resistor for a cathode ray tube |
| DE3774943D1 (en) * | 1986-06-27 | 1992-01-16 | Toshiba Kawasaki Kk | A RESISTANCE AND AN ELECTRON PIPE CONTAINING THIS RESISTANCE. |
| JPH0785403B2 (en) * | 1986-10-25 | 1995-09-13 | ソニー株式会社 | Built-in resistor of cathode ray tube |
| JPH02214484A (en) * | 1989-02-15 | 1990-08-27 | Mitsubishi Electric Corp | Speed control and brake device for single phase induction motor |
| JP2823223B2 (en) * | 1989-03-17 | 1998-11-11 | 株式会社東芝 | Voltage-dividing resistance element and electron tube for internal electron tube |
| JPH07161308A (en) * | 1993-12-07 | 1995-06-23 | Hitachi Ltd | Electron gun for color cathode-ray tube |
| EP0986089B1 (en) * | 1998-09-08 | 2008-03-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Field emission display including oxide resistor |
| US6495966B2 (en) | 1999-09-08 | 2002-12-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Field emission display including a resistor |
| WO2004066412A2 (en) * | 2003-01-20 | 2004-08-05 | Lg. Philips Displays | Resistive high-voltage divider, electron gun incorporating a resistive divider and cathode ray tube |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE893109C (en) * | 1942-03-08 | 1953-10-12 | Siemens Planiawerke Ag | Heating rod with protective layer for electrical resistance ovens |
| DE1465394B2 (en) * | 1964-11-12 | 1972-12-14 | CTS Corp , Elkhart, Ind (VStA) | ELECTRICAL RESISTOR ELEMENT |
| GB1136503A (en) * | 1965-01-27 | 1968-12-11 | English Electric Co Ltd | Processes for coating articles with glass-ceramic |
| US3654121A (en) * | 1968-12-23 | 1972-04-04 | Engelhard Min & Chem | Electrolytic anode |
| DE2050125A1 (en) * | 1970-10-13 | 1972-04-20 | Moeller J D Optik | Process for the production of electrical fuse elements |
| US3914514A (en) * | 1973-08-16 | 1975-10-21 | Trw Inc | Termination for resistor and method of making the same |
| US4016525A (en) * | 1974-11-29 | 1977-04-05 | Sprague Electric Company | Glass containing resistor having a sub-micron metal film termination |
| US3932786A (en) * | 1974-11-29 | 1976-01-13 | Rca Corporation | Electron gun with a multi-element electron lens |
| JPS5389360A (en) * | 1977-01-17 | 1978-08-05 | Sony Corp | Electronic gun constituent |
-
1978
- 1978-07-15 JP JP8650778A patent/JPS5514627A/en active Granted
-
1979
- 1979-07-16 NL NL7905524A patent/NL7905524A/en not_active Application Discontinuation
- 1979-07-16 DE DE19792928702 patent/DE2928702A1/en active Granted
- 1979-07-16 GB GB7924700A patent/GB2028576B/en not_active Expired
- 1979-07-16 AU AU48937/79A patent/AU537737B2/en not_active Ceased
- 1979-07-16 FR FR7918378A patent/FR2431183A1/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6217347B2 (en) | 1987-04-17 |
| DE2928702A1 (en) | 1980-02-07 |
| FR2431183A1 (en) | 1980-02-08 |
| AU4893779A (en) | 1980-02-21 |
| JPS5514627A (en) | 1980-02-01 |
| AU537737B2 (en) | 1984-07-12 |
| GB2028576A (en) | 1980-03-05 |
| DE2928702C2 (en) | 1993-07-08 |
| FR2431183B1 (en) | 1982-05-14 |
| GB2028576B (en) | 1982-09-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL7905524A (en) | Electron gun for a cathode ray tube serving as a color image tube, plus resistance with electrodes for such an electron gun. | |
| GB1580011A (en) | Television picture tubes | |
| US4746838A (en) | Ink for forming resistive structures and display panel containing the same | |
| US4349767A (en) | Cathode ray tube resistance of ruthenium oxide and glass containing alumina powder | |
| US3691421A (en) | Doubled layer heater coating for electron discharge device | |
| US4255689A (en) | Cathode ray tube with resistor means on glass support rods | |
| US4374344A (en) | Color picture tube with electrically conductive frit film on envelope surface | |
| US4503357A (en) | Cathode-ray tube | |
| US6624561B2 (en) | Color cathode ray tube having an internal voltage-dividing resistor | |
| US6433469B1 (en) | Cathode ray tube having an internal voltage-dividing resistor | |
| US6445117B1 (en) | Cathode ray tube having an internal voltage-divider resistor | |
| KR100350178B1 (en) | Resistor for cathode-ray tube, method for producing the same, cathode-ray tube, and FED including the resistor | |
| US6495952B1 (en) | Cathode ray tube having an internal voltage-dividing resistor | |
| CA1154877A (en) | Electron gun for a cathode ray tube | |
| JP2003513427A (en) | Resistance assembly and cathode ray tube | |
| JPS58102445A (en) | Voltage dividing resistor in electron gun structure | |
| JP3406617B2 (en) | Resistor for cathode ray tube electron gun | |
| JP2000149816A (en) | Resistor for cathode ray tube, its manufacture, cathode ray tube and fed | |
| US6495966B2 (en) | Field emission display including a resistor | |
| US4521715A (en) | Photoemissive cathode formed on conductive strips | |
| EP0776868B1 (en) | Resistor for cathode ray tube and method of preparing same | |
| JP2823223B2 (en) | Voltage-dividing resistance element and electron tube for internal electron tube | |
| KR100351080B1 (en) | Cathode ray tube having an internal voltage-dividing resistor | |
| JPH0334827Y2 (en) | ||
| US20060208622A1 (en) | Cathode ray tubes |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
| BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
| BB | A search report has been drawn up | ||
| BC | A request for examination has been filed | ||
| BV | The patent application has lapsed |