JPS58102445A - Voltage dividing resistor in electron gun structure - Google Patents
Voltage dividing resistor in electron gun structureInfo
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- JPS58102445A JPS58102445A JP20139981A JP20139981A JPS58102445A JP S58102445 A JPS58102445 A JP S58102445A JP 20139981 A JP20139981 A JP 20139981A JP 20139981 A JP20139981 A JP 20139981A JP S58102445 A JPS58102445 A JP S58102445A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/48—Electron guns
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は陰極線管の内部に電子銃構体と共に組み込まれ
て、この電子銃構体を*威する所定の電番に所定の電圧
を分圧して供給するための抵抗器に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a resistor that is incorporated together with an electron gun assembly inside a cathode ray tube and is used to divide and supply a predetermined voltage to a predetermined electrical number that powers the electron gun assembly. It is something.
本出願人は先に「%願昭53−86507号」により、
カラー陰極線管用電子銃構体に用いられる分圧用抵抗器
を提案した。上記出願による発明では、電子銃構体の近
傍KJII膜抵抗器を配し、この厚膜抵抗器の一端に外
部からアノード電圧を加えると共に所定位置で分圧され
た電圧を電子銃の所定の電極に供給するようにしている
。本発明は上記厚膜抵抗器に関するものであるが、本発
明の鰭明に先立ち、上記出願の実施例についてその概略
を第1〜6図と共に説明する6
第1〜5#lJはトリニトロン(登録商標)方式による
陰極線管lこ適用した場合の実施例を示す。The present applicant previously applied for "% Application No. 53-86507".
We proposed a voltage dividing resistor used in the electron gun assembly for color cathode ray tubes. In the invention according to the above application, a KJII film resistor is arranged near the electron gun assembly, and an anode voltage is applied from the outside to one end of the thick film resistor, and a voltage divided at a predetermined position is applied to a predetermined electrode of the electron gun. We are trying to supply it. The present invention relates to the above-mentioned thick film resistor. Prior to the details of the present invention, the outline of the embodiment of the above-mentioned application will be explained with reference to FIGS. An example in which a cathode ray tube according to the trademark) method is applied is shown below.
第1図及び1142図において(1)は電子銃、(2)
はガラス製のステム、(3)はステム(2)と一体的な
排気パイプ、(4)はステム(2)に設けた趨子ビン、
GzxGsは夫々円筒状を成し、互いに同軸的に配クリ
された第1〜第5グリツドs (5161は上記グリッ
ドG、〜G5を支持片(71を介して支持するためのビ
ードガラス製の支持体、+81(91はグリッドGsの
フランジQ(Ik権付けた内筒コンバージェンス電極、
aU21は上記支持体(51(61に支持片a3を介し
て支持された外側コンバージェンス電極、Iは上記7ラ
ンジ(IQに一体的に設けられた接片で、後述するよう
にこの電子銃(11が封入される陰極線管のネック部の
内周面に塗布されたカーボン膜に接触するととくより所
定の電圧が加えられる。051はグリッド01〜G、の
鍔面に金属支持片−及びリード1ilI(ハ)で両端を
支持されたセラミック勢の絶縁基板で、その表面には抵
抗体(17)がプリントされ、さらにガラスコートされ
て設けられている。抵抗体αηの一端には電1k (3
0a)が形成され、この電極(30m)とグリッドG、
とが支持片(16+で接続され、このグリッドG11i
とグリッドG。In Figure 1 and Figure 1142, (1) is an electron gun, (2)
is a glass stem, (3) is an exhaust pipe integrated with stem (2), (4) is a spiral bottle provided on stem (2),
GzxGs each have a cylindrical shape, and the first to fifth grids s are arranged coaxially with each other. Body, +81 (91 is the flange Q of the grid Gs (inner cylinder convergence electrode with Ik right attached,
aU21 is an outer convergence electrode supported by the support member (51 (61) via support piece a3, I is a contact piece integrally provided with the 7 langes (IQ), and as described later, this electron gun (11 051 is a metal support piece and a lead 1ilI ( It is a ceramic insulating substrate supported at both ends by C), and a resistor (17) is printed on its surface and further coated with glass.One end of the resistor αη has an electric current of 1k (3
0a) is formed, and this electrode (30m) and grid G,
and are connected by the support piece (16+), and this grid G11i
and Grid G.
とがり一ド嶽σ罎で接続されている。菫な抵抗体(17
)の所定位皺には電極(30b)が形成され、この電極
(50b)とグリッドG4とがリード&mで接続されて
いる。さらに電極(30m)から所定の長さ隔った位置
には電極(30c)が形成され、この電1j (30c
)とコンi(−ジエンスミ極ana3とがリードScl
υで接続されている。またさらに抵抗体r1nの他端部
には電極(30d )が形成され、この電極(3[1d
)と端子ビン(41)とがリードlII■で接続され
ている。尚、コンバージェンス電41(Ill(121
は互いに電気的に接続さねている。The points are connected by a single point. Violet resistance body (17
An electrode (30b) is formed on the wrinkle at a predetermined position of ), and this electrode (50b) and the grid G4 are connected by a lead &m. Furthermore, an electrode (30c) is formed at a position separated by a predetermined length from the electrode (30m), and this electrode 1j (30c
) and con i (-jiensumi polar ana3 lead Scl
connected by υ. Furthermore, an electrode (30d) is formed at the other end of the resistor r1n, and this electrode (3[1d
) and the terminal pin (41) are connected by leads lII■. In addition, the convergence voltage 41 (Ill (121)
are electrically connected to each other.
上記構成による電子銃(11は第3図のように陰極線管
のネック部(ハ)内に封入される。このネック部(ハ)
の内周面iζは接片Iが接触するカーボン膜■が形成さ
れており、このカーボン膜(ハ)は図示せずもファンネ
ル部に設けた電圧供給ボタンと電気的に接続され、外部
からこのボタンを介して例えば約30KVの高電圧が加
えられている。The electron gun (11) having the above structure is enclosed in the neck part (c) of the cathode ray tube as shown in FIG.
A carbon film (C) with which the contact piece I comes into contact is formed on the inner circumferential surface iζ of the A high voltage of approximately 30 KV, for example, is applied via the button.
上記構成によれば、カーボン膜Q41ζこ加えられた高
電圧は接片(14+を介してコンバージェンス電極(8
)(9)及びグリッドGsに加えられる。才たグリッド
G5の電圧はリード*Q9を介してグリッドG、に加え
られると共に、支持片ablを介して抵抗体(1’/I
の一端部に加えられる・これによってコンバージェンス
電極181 (91及びグリッドG、、G、 は同電
位に保たれる・才な抵抗体a71<加えられた電圧は1
点で分圧されてリード!IIQIIを介してコンバージ
ェンス電極antiaに加えられ、さらにb点で分圧さ
れてリードS■を介してグリッドG4に加えられる。こ
t−++ζよってコンバージェンス電極011(121
の電位をコンバージェンス電極181(91の電位より
やや低くシ(例えば29KV)、グリッドG4の電位を
さらに低くする(例えば12KV)ことがで音る。また
抵抗体(17+の他端部はリード線のを介してビン(4
m)に接続さね、このビン(4a)はorf抵抗器(ハ
)を介してアースされている。この可費抵抗器(ハ)は
グリッド04′Ikひコンバージェンス11極(Ill
(121の電位を微調整するために設けられる。尚、グ
リッドG、、G、には所定のビン(4;を介して外部か
ら所定の電圧が夫々加えられる。According to the above configuration, the high voltage applied to the carbon film Q41ζ is applied to the convergence electrode (8) via the contact piece (14+).
)(9) and added to grid Gs. The voltage of the resistive grid G5 is applied to the grid G through the lead *Q9, and is also applied to the resistor (1'/I) through the support piece abl.
is applied to one end of the convergence electrode 181 (91 and the grids G, , G, are kept at the same potential).
Lead by dividing the pressure at a point! It is applied to the convergence electrode antia via IIQII, and further divided at point b and applied to grid G4 via lead S■. By this t-++ζ, the convergence electrode 011 (121
By setting the potential of the convergence electrode 181 (91) slightly lower (e.g. 29 KV) and further lowering the potential of the grid G4 (e.g. 12 KV), the other end of the resistor (17+) is connected to the lead wire. via the bin (4
m), this pin (4a) is grounded via an orf resistor (c). This disposable resistor (c) is connected to the grid 04'Ik convergence 11 pole (Ill
(121). Note that a predetermined voltage is applied to each of the grids G, , G from the outside via a predetermined bin (4;).
以上によtlFi、接片Iから得られる電圧に基き、こ
の電圧を抵抗体07]で分圧して各電極に加えることに
より、各W+極を所定の電位に保持することができる。As described above, each W+ pole can be held at a predetermined potential by dividing this voltage by the resistor 07 and applying it to each electrode based on the voltage obtained from tlFi and contact I.
尚、本実施例では抵抗体(171からコンバージェンス
電圧とフォーカス電圧とを抵抗分割で取り出しているが
、コンバージェンス電圧のみまたはフォーカス電圧のみ
を取り出すようにしてもよい。コンバージェンス電圧の
みを取り出す場合の一例としては、グリッドG4への給
電を抵抗体(171からではなく、従来のように端子ビ
ン(4)から0ないし5KVの電圧を供給することによ
り行わわる場合がある。In this embodiment, the convergence voltage and focus voltage are extracted from the resistor (171) by resistance division, but it is also possible to extract only the convergence voltage or only the focus voltage.As an example of a case where only the convergence voltage is extracted In some cases, power is supplied to the grid G4 by supplying a voltage of 0 to 5 KV not from the resistor (171) but from the terminal pin (4) as in the conventional case.
またフォーカス電圧のみを増り出す場合はコンバージェ
ンス電極のない場合であって、トリニトロン方式以外の
陰極線管に対しても適用される。Further, when only the focus voltage is increased, this is the case without a convergence electrode, and is also applicable to cathode ray tubes other than the trinitron type.
この場合については第1図のコンiく−ジエンスミ極1
8+ +910υazのないものを考えわばよい。In this case, the connection in Figure 1 - Diensumi pole 1
Just think of something without 8+ +910υaz.
以上によれば、カーボン膜c!4)に高1圧を供給する
ために、陰極線管のファンネル部に簡単な構造のアノー
ドボタンを1個設けるだけでよく、従来用いられていた
同軸ボタンを用いる必要がなくなる。Iた従来性われて
いた管内のケーブル配憩工根も省略でき、組立て作業を
容易に行うことができる勢の効果か得られる0
次iこ分圧用の厚膜抵抗器について述べる。According to the above, carbon film c! 4) In order to supply a high voltage of 1, it is sufficient to provide only one anode button of a simple structure in the funnel portion of the cathode ray tube, and there is no need to use the conventionally used coaxial button. We will describe a thick film resistor for zero-order i-voltage partial pressure, which can omit the conventional cable distribution root in the pipe and facilitates assembly work.
厚膜抵抗器は第1W!J及び第2図に示すように、基板
051に抵抗体(171及U 1K ’I1M (30
a) 〜(30d) ヲ形成した構造を有している。こ
のよう番こ陰極線管の内部に組み込まれて使用される抵
抗体fiηの材料に要求される条件としては、(II、
1liiik耐えること、(2)、気化量の少いとと
i31%スパッタリングの少いこと、(41,抵抗値便
化の少いこと、等である・(11については、陰極線管
の製造工Iff(おけるフリットシールやノッキング時
の高温によるガスの放出に基く、真空度の低下が重要な
問題となる。Thick film resistor is the 1st W! As shown in FIG. J and FIG.
a) - (30d) It has a structure formed by wo. The conditions required for the material of the resistor fiη that is incorporated and used inside this type of cathode ray tube are (II,
1liiiik, (2), less vaporization and i31% sputtering, (41, less reduction in resistance value, etc.). An important problem is the reduction in the degree of vacuum due to the release of gas due to the frit seals and high temperatures during knocking.
フリットシールの工程では、430t:’位で加熱が行
われるが、この加熱によるガスの発生が少いこ々が必要
である。才たノッキング工程では電子銃の組立て完了後
に、コンバージェンス電極と端子ビンとの間に、定格の
2〜3倍である50〜60KVの高圧パルスを印加して
、各グリッドG、〜G。In the frit sealing process, heating is performed at about 430 t:', but it is necessary to generate as little gas as possible due to this heating. In the advanced knocking process, after the assembly of the electron gun is completed, a high voltage pulse of 50 to 60 KV, which is 2 to 3 times the rated voltage, is applied between the convergence electrode and the terminal bin to separate each grid G, ~G.
間で放電を生じさせることkよって、円筒状グリッドの
エツジに不責に形成された細かい](りを取り除くよう
にしている。上記の高圧は抵抗体a7+にも加えられる
ことになり、このため抵抗体aDには、その抵抗1[R
と電流■とによるL2Rに甚く高熱が発生する。この熱
によって抵抗体a9が変質して抵抗wLRが変化したり
、ガスを放出したりしないようにすることが必要である
・抵抗値Rは300〜1000Jに選ばれるが、その安
定度に厳しい稍縦を要求される。この他に重要な問題と
して、ノッキングによる高電界によって生じる沿面放電
のために抵抗体anのパターン間でスパッタリングが生
じ、このために抵抗値Rが変化したり、スパッター物質
が電子銃に対して悪影会を及ばずので、とわを防止する
ことが必要である。By causing a discharge between the edges of the cylindrical grid, the fine ridges that have formed unnecessarily are removed.The high voltage mentioned above is also applied to the resistor a7+, and therefore The resistor aD has its resistance 1[R
Extremely high heat is generated in L2R due to the current and current. It is necessary to prevent the resistor a9 from changing in quality due to this heat, changing the resistance wLR, or releasing gas.The resistance value R is selected to be 300 to 1000 J, but its stability is difficult. Vertical is required. Another important problem is that sputtering occurs between the patterns of the resistor an due to creeping discharge caused by the high electric field due to knocking, which changes the resistance value R, and that the sputtered material is harmful to the electron gun. It is necessary to prevent this from happening because it does not affect the shadow meeting.
以上のような要求を実用上満足できるものとして、本実
施例では抵抗体(171の材料としてRLJO2−ガラ
ス系を用いている。−例として悔珪酸ガラスを結合剤と
し、これ婆こ&I02粉末とTI、Al2O,勢の添加
剤とを加え、さらにエチルセルロース等の有機バインダ
とBOA勢の溶剤で混合、fjt押してペースト化した
ものが用いられる。基板aa+とじては、90〜97−
のアルミナから成るものが用いられる。この基板上に拗
02−ガラス糸ペーストをスクリーン印刷法により、第
1m及び第2図のよう務こジグザグ状あるいは波状に形
成する。次に750〜850Cで40〜60分焼成する
ことにより、抵抗体anを得ることができる。尚、Ru
O2−ガラス系ねる。焼成後における抵抗体071の膜
厚は10〜15μmである。In order to practically satisfy the above-mentioned requirements, in this example, RLJO2-glass is used as the material of the resistor (171).For example, silicic acid glass is used as a binder, and the material is made of RLJO2-glass. A paste is used in which TI, Al2O, and other additives are added, and an organic binder such as ethyl cellulose is mixed with a BOA-based solvent and pressed to form a paste.
A material made of alumina is used. On this substrate, a 02-glass thread paste is formed in a zigzag or wavy shape as shown in FIGS. 1m and 2 by screen printing. Next, by firing at 750 to 850C for 40 to 60 minutes, a resistor an can be obtained. In addition, Ru
O2-glass system. The film thickness of the resistor 071 after firing is 10 to 15 μm.
次に電極(30a)〜(30d)について述べる。Next, the electrodes (30a) to (30d) will be described.
一般に斯種厚膜抵抗器の電極材料としては、抵抗体α9
の場合と同様に前記(11〜(4:で述べた条件力S要
求される。本実施例では電極材料として、抵抗比が抵抗
体Q71よりも高く、面積抵抗が低l/Nものを用いて
いる。第4図A%Bは厚膜抵抗器の第1の実施例を示す
ものであり、以下その製造方法を述べる。Generally, the electrode material for this type of thick film resistor is the resistor α9.
As in the case of (11 to (4)), the conditional force S described in (4) is required. In this example, a material with a resistance ratio higher than that of the resistor Q71 and a low sheet resistance of l/N is used as the electrode material. 4A and 4B show a first embodiment of a thick film resistor, and the manufacturing method thereof will be described below.
先ず、アルミナ基@ 051 ic R55O2−ガラ
ス糸ペーストをスクリーン印刷により塗布し、電極(3
(Im)〜(3(Jd)を所定形状に形成する。ガラス
ペーストとれる。次に)luo 2−ガラス系ペースト
の面積抵抗の高いものを各電極間ζζ図示のような波状
に塗布して、抵抗体aηを形成する。この場合各電極(
30a )〜(30d)の互いに対向する縁部が若干覆
われるようなガードパターン(31g)〜(31f)が
設けられる。First, alumina-based @ 051 ic R55O2-glass thread paste was applied by screen printing, and the electrodes (3
(Im) to (3 (Jd)) are formed into a predetermined shape. The glass paste is removed.Next) luo 2-A glass-based paste with a high sheet resistance is applied between each electrode ζζ in a wave shape as shown in the figure. A resistor aη is formed. In this case, each electrode (
Guard patterns (31g) to (31f) are provided such that mutually opposing edges of 30a) to 30d are slightly covered.
次に電極及び抵抗体が形成された基tIi、(151を
焼成することによって、第4図A、Bの抵抗器を得るこ
とができる。尚、焼成後における電4t(30m)〜(
30d)の膜厚は10μm前後である。Next, the resistors shown in FIG. 4A and B can be obtained by firing the base tIi (151) on which the electrodes and resistors are formed.
The film thickness of 30d) is approximately 10 μm.
この抵抗器では、低い抵抗値の電@(30a)〜(3[
Jd )の縁部を高い抵抗値のガードパターン(31m
)〜(61f)で横っているので、ノッキング時の放電
によるアークが電極に集中しζこくくなり、スパッタリ
ングを抑えることができる。尚、第5図に亀2の冥施例
として示すように、電Q(30m)〜(30d)の各々
の全体を抵抗体(+71で被模するようにしてもよい。In this resistor, a low resistance value of voltage @(30a) to (3[
Jd) with a high resistance guard pattern (31 m
) to (61f), the arc caused by the discharge during knocking concentrates on the electrode and becomes thicker, making it possible to suppress sputtering. Incidentally, as shown in FIG. 5 as an example of the turtle 2, each of the electric currents Q (30m) to (30d) may be entirely covered with a resistor (+71).
その場合は接触抵抗が多少増すが、膜厚が薄いので夾用
上間組はない。In that case, the contact resistance increases somewhat, but since the film is thin, there is no compensating upper layer.
第6図A、Bは第6の実迦例を示すもので、着’lit
(15+ (1)1t & (30a) 〜(5CI
d)及び抵抗体anを含む表面にガラス層(至)を設け
ることによって、ガスの放出及びスパッタリングによる
抵抗値変化を防止するようにしたものである。ガラス層
(至)としては−1砿珪酸沿ガラスにAj20.の微粉
末を10〜40916程度混入したガラスペーストが用
いられる。−例れに有機バインダと溶剤を10〜20嘩
加オて混合したものをスクリーン印刷により塗布する。Figures 6A and 6B show the sixth practical example.
(15+ (1)1t & (30a) ~(5CI
By providing a glass layer on the surface including d) and the resistor an, changes in resistance value due to gas release and sputtering are prevented. The glass layer (total) is -1 silicic acid glass with Aj20. A glass paste containing about 10 to 40,916 fine powders is used. - For example, a mixture of an organic binder and a solvent at a strength of 10 to 20% is applied by screen printing.
この際膜厚を厚くするために、50〜120メツシユ(
厚さ200〜600μm )のスクリーンを使用して、
2層または3層に重ねて印刷する。次に550〜650
Cで20〜60分焼成して、膜厚200〜4005m
のガラス層aつを得るo httos粉末は、ガラス層
c3々の機械的!iIi&を上けることを目的として混
入される◎即ち、ガラス層04の膜厚を厚くすると、外
力によりブラックが入り易くなるので、これを防止する
ために混入されている・これと共にガラス層Qのj11
張係数をアルミナ基板(151のI#ms数に近づける
ことができる効果も侍られる。At this time, in order to increase the film thickness, 50 to 120 mesh (
Using a screen with a thickness of 200 to 600 μm,
Print in two or three layers. Next 550-650
Bake for 20 to 60 minutes at C to obtain a film thickness of 200 to 4005 m.
o httos powder to obtain one glass layer of three mechanical! It is mixed for the purpose of increasing the iIi & ◎In other words, when the thickness of the glass layer 04 is increased, black tends to be formed due to external force, so it is mixed to prevent this. j11
The effect of making the tensile modulus close to the I#ms number of the alumina substrate (151) can also be enjoyed.
尚、謝6図では、電極(30m) 〜(30d)にガイ
ドパターンを設けていないが、紺5図あるいは第6図の
抵抗器番こ、ガラス層(2)を形成するよう−こしても
よい。才たガ)ス層O7のうちの最上層の50〜100
sn 程度の部分を、)J20.を混入しないガラスで
形成するようにしてもよいOA/20.を混入すると若
干耐圧が下るが、上述のようにすれば、抵抗1はの変化
を抑えながら耐圧を大きくとることができる。In addition, in Figure 6, no guide pattern is provided for the electrodes (30m) to (30d), but the resistor pattern in Figure 5 or Figure 6 is also rubbed to form the glass layer (2). good. 50 to 100 of the top layer of the gas layer O7
sn portion, )J20. OA/20. If the resistor 1 is mixed in, the withstand voltage will drop slightly, but by doing as described above, the withstand voltage can be increased while suppressing the change in the resistor 1.
上述したガラス層(至)を般けた厚膜抵抗詐を用いるこ
とにより、ノッキング時における抵抗体(171のパタ
ーン間の放電によるスパッタリングに葺く抵抗変化を大
巾に軽減することができる。しかしながらノッキングに
よる抵抗値変化の問題は未だ充分改善されたとは云えず
、ノッキング[4こ尚も大巾な抵抗値変化が見られる場
合があった0本発明は上記問題をさらに改善するもので
、以下本発明の実施例を図面と共に説明する。By using the above-mentioned thick film resistor including the glass layer, it is possible to greatly reduce the resistance change caused by sputtering due to discharge between the patterns of the resistor (171) at the time of knocking. It cannot be said that the problem of resistance value change caused by knocking [4] has been sufficiently improved. Embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.
本宛#U者寺はノッキングによる抵抗体aDの抵抗値変
化の他の原因の一つが、抵抗体(17+とグリッド間の
放電番こめることをつきとめた。即ち、第2図及び第6
図の場合、グリッドG、はG、と接続されているため、
ノッキング時#c 60 KVの高圧パルスが加えられ
ると、G、も略60KVになる。一方、抵抗体(171
g′)o、と対向する部分は接地側に近いため低い電位
となっている。従って、この部分とG、との電位差が大
きくなり、この間に放電が生じる。The author, #U, discovered that one of the other causes of the resistance value change of the resistor aD due to knocking is the discharge between the resistor (17+) and the grid.
In the case of the figure, since grid G, is connected to G,
When a high voltage pulse of #c 60 KV is applied during knocking, G also becomes approximately 60 KV. On the other hand, the resistor (171
The portion facing g') and o is close to the ground side and therefore has a low potential. Therefore, the potential difference between this portion and G increases, and a discharge occurs between this portion.
この放電電流Iは第7図に示すように抵抗体aηの一部
(17a)を通じて接地へ流れる。この放電電流Iによ
り抵抗体(17)の上記部分(17m)の抵抗値が変化
する・このような現象は特に、管径の細いmIIIA線
管番こ生じ易い。This discharge current I flows to ground through a portion (17a) of the resistor aη as shown in FIG. This discharge current I causes a change in the resistance value of the above-mentioned portion (17m) of the resistor (17). Such a phenomenon is particularly likely to occur in mIIIA wire tubes with small tube diameters.
本発明は上記放電電流■を直接接地−に逃すようにした
もので、第8〜9図にその実施例を示す。The present invention is designed to directly release the discharge current (1) to the ground (-), and an embodiment thereof is shown in FIGS. 8 and 9.
本発明は48図に示すように、前記ガラス層(至)の表
面に第2の抵抗体(至)を設けたものである。この抵抗
体−は抵抗体071と同一成分から成るもので1示のよ
うに絶縁基板Q5の長手方向に沿って所定巾で形成され
、その一端部がil!地細亀他(30d)に接続され、
他端部はグリッド0.(図示せず)と略対向する位置t
で延長されている。In the present invention, as shown in FIG. 48, a second resistor is provided on the surface of the glass layer. This resistor is made of the same components as the resistor 071, and is formed with a predetermined width along the longitudinal direction of the insulating substrate Q5 as shown in 1, and has one end portion il! Connected to Jishogame et al. (30d),
The other end is grid 0. (not shown)
has been extended.
抵抗体(17)のパターンは前述した第4〜6図のもの
ても勿論よいが、紺9図に示すパターンであってもよい
。The pattern of the resistor (17) may of course be the one shown in FIGS. 4 to 6 described above, but it may also be the pattern shown in FIG.
第9図の場合は、電極(30c )が別の抵抗体(17
b)を介して電極(30暑)と接続さねている。この場
合電極(30a)がアノード電位となり、電41 (3
0c)がコンバージェンス電位となる。第8図のII!
施例は上記第9図のパターンが形成された抵抗器を用い
た場合を示している。この場合、絶縁基板a9の寸法は
、例えば巾9m、長さ821III、厚さ0.8■であ
り、抵抗体(至)の寸法は巾61W11長さ25−1厚
さ10〜15−である。才たガラス層(至)は例えは厚
さ500μmに形成され、抵抗体07)の抵抗値は例え
V1600MΩである。In the case of Figure 9, the electrode (30c) is connected to another resistor (17).
b) It is connected to the electrode (30 heat) via. In this case, the electrode (30a) becomes an anode potential, and the electric potential 41 (3
0c) becomes the convergence potential. II in Figure 8!
The example uses a resistor formed with the pattern shown in FIG. 9 above. In this case, the dimensions of the insulating substrate a9 are, for example, width 9m, length 821III, and thickness 0.8cm, and the dimensions of the resistor (total) are width 61W11 length 25-1 thickness 10~15- . The glass layer (1) is formed to have a thickness of, for example, 500 μm, and the resistance value of the resistor 07) is, for example, V1600 MΩ.
上記構成によれは、ノッキング時に電極(30m)(3
(Jd)間に高圧が加えられて、グリッドG5との間で
放電が生じても、第10−に示すように放電亀fiIが
第2の抵抗体(至)を通じて直硬誉地−に流れる。即ち
、抵抗体−が一種の避雷針の役目をして、抵抗体anを
保睡することがで舎る。According to the above configuration, the electrode (30 m) (3
Even if a high voltage is applied between (Jd) and a discharge occurs between the grid G5 and the grid G5, the discharge torque fiI flows through the second resistor (to) to the straight hard ground as shown in 10th. . In other words, the resistor an acts as a kind of lightning rod to protect the resistor an.
sepの抵抗器を用いて実験を行った結果では、抵抗体
(至)を般けない場合は、600MΩの抵抗値に対して
、ノッキング後、100MΩの抵抗値の減少が見られた
が、抵抗体(至)を般けた場合は、0〜2MΩ程度の抵
抗値の減少にとど才った。また抵抗体(の長さは25〜
3ScW&の範囲で効果は殆んど変らなかった。また抵
抗体缶の巾は4■より6−の方がより効果が認めらねた
。The results of an experiment using a SEP resistor showed that when the resistor was not used, the resistance value decreased by 100MΩ after knocking compared to the resistance value of 600MΩ. When the body was exposed, the resistance value decreased by about 0 to 2 MΩ. Also, the resistor (length is 25~
The effect hardly changed within the range of 3ScW&. Furthermore, the effect was less observed when the width of the resistor can was 6-inches than when it was 4inches.
尚、抵抗体嬢を設けない場合は、ガラス層0′Aの表面
がチャージアップして高電位になると、抵抗体(7)と
の間で放電が生じ、このときガラス層(イ)が破壊され
るおそれがある。本発明では抵抗体(至)によりガラス
層0々の表面が常に接地電位ζζ保たれるので、そのよ
うなことがない。In addition, if the resistor element is not provided, when the surface of the glass layer 0'A is charged up and becomes a high potential, a discharge will occur between it and the resistor element (7), and at this time the glass layer (A) will be destroyed. There is a risk that In the present invention, such a problem does not occur because the surfaces of the glass layers are always kept at the ground potential ζζ by the resistor.
以上述べたように本発明は、例えtf#!1a14及び
纂2図のように陰極線管の内部に組み込まれて用いられ
且つ絶縁基板上の抵抗体を含む表面にガラス層か形成さ
れて成る抵抗器において、上記ガラス層の表面−と、一
端が接地される第2の抵抗体を用いた電子銃傘体におけ
る分圧用抵抗器に係るものである。As described above, the present invention is applicable to tf#! In a resistor that is used by being incorporated into a cathode ray tube as shown in Figures 1a14 and 2, and in which a glass layer is formed on the surface including the resistor on an insulating substrate, the surface of the glass layer and one end thereof are This relates to a voltage dividing resistor in an electron gun umbrella using a second resistor that is grounded.
従って本発明によれば、陰極線管の製造工程におけるノ
ッキング等による高温、高圧ζこ対してより安定で、抵
抗値精度の高い厚膜抵抗器を得ることができる。Therefore, according to the present invention, it is possible to obtain a thick film resistor that is more stable against high temperatures and high pressures ζ caused by knocking or the like during the manufacturing process of cathode ray tubes and has a high resistance value accuracy.
第1図は抵抗器の使用状態の一例を示す斜視図、第2図
は抵抗器から電子銃の電極に分圧することを示す回路図
、第3図は陰極線管のネック部の概略的な側面断面図、
第4Fj!JA%Bは本発明を適用し得る抵抗器の第1
の実施例を示す平面図及び断面−面図、第5図は第2の
実施例を示す断面細面図、第68tJA、Bは第3の実
施例を示す平面図及び断In側面図、第7図は上記抵抗
器とグリッドG。
との関係を示す模式図、謝8図は本発明の実施例を示す
tI+夜図、第9図は第8図の抵抗器のガラス 層
を取去った場合の平面図、第10図は本発明抵抗器とグ
リッドG、との関係を示す模式図である・才だ図面に用
いられた符号において、
(11・・・・・・・・・・・・・・・電子銃a〜・・
・・・・・・・・・・・・・絶縁基板(171・・・・
・・・・・・・・・・・抵抗体G、〜G5・・・・・・
グリッド
cカ・・・・・・・・・・・・・・ガラス層a1・・・
・・・・・・・・・・・・第2の抵抗体である。
代理人 上屋 勝
(自発)手続補正書
昭和57年2月 4日
特許庁長官殿
1、事件の表示
昭和 年特許願第2015?9号
6
事件との関係 特許出願人
東京部品用区北品用6丁目7番蕊号
(218)ソニー株式会社
6、補正により増加する発明の数
(1)、明細書路14頁8行目r (30a) Jを「
30(0」に訂正し、「(30C)」を[30(1)
Jに訂正する。
(2)、同#!15頁8行目「鐸」を「■」に訂正する
◎(3)、同頁13行1r体(7)」を「体(171J
に訂正する・−以 上−Figure 1 is a perspective view showing an example of how the resistor is used, Figure 2 is a circuit diagram showing voltage division from the resistor to the electrodes of the electron gun, and Figure 3 is a schematic side view of the neck of the cathode ray tube. cross section,
4th Fj! JA%B is the first resistor to which the present invention can be applied.
Fig. 5 is a cross-sectional thin view showing the second embodiment, No. 68tJA,B is a plan view and cross-sectional side view showing the third embodiment, Fig. 7 The figure shows the above resistor and grid G. Figure 8 is a schematic diagram showing the relationship between This is a schematic diagram showing the relationship between the invention resistor and the grid G.In the symbols used in the drawing, (11......Electron gun a...
・・・・・・・・・・・・Insulating substrate (171...
・・・・・・・・・Resistor G, ~G5・・・・・・
Grid c......Glass layer a1...
.....This is the second resistor. Attorney Masaru Ueya (Voluntary) Procedural Amendment Written on February 4, 1981 Mr. Commissioner of the Japan Patent Office 1 Indication of the case Showa year Patent Application No. 2015?9 No. 6 Relationship to the case Patent applicant Tokyo Parts Co., Ltd. Kitashin 6-chome, No. 7 (218) Sony Corporation 6, Number of inventions increased by amendment (1), page 14, line 8 r (30a) J changed to "
30(0)” and “(30C)” to [30(1)
Correct to J. (2), Same #! On page 15, line 8, “Taku” is corrected to “■” ◎(3), on the same page, line 13, 1r type (7)” is changed to “type” (171J)
Correct the above.
Claims (1)
されると共に、上記絶縁基板が電子銃構体の一部に、こ
の電子銃構体を構成する複数の電極の配列方向と上記長
手方向とが略平行となるようにして配され、上記第1の
抵抗体の一端部がアノード電圧に保持されると共に、他
端部が充分に低い電圧に保持さね、上記第1の抵抗体の
所定位置で分圧された電圧が上記電子銃一体の所定の電
接に供給されるように成され、さらに上記絶縁基鈑の上
記第1の抵抗体を含む表面にガラス層が形成された抵抗
器において、上記ガラス場の表面に謝2の抵抗体を上記
長手方向に沿って形成し、この@2の抵抗体の−I+1
lilsを上記j11の抵抗体の上記低電圧鉤趨部と接
続したことを特徴とする電子銃構体におりる分圧用抵抗
器。A first resistor is formed on the surface of the insulating substrate along the longitudinal direction, and the insulating substrate is formed as a part of the electron gun structure in the direction in which the plurality of electrodes constituting the electron gun structure are arranged and in the longitudinal direction. are arranged so that they are substantially parallel to each other, one end of the first resistor is held at the anode voltage, and the other end is held at a sufficiently low voltage. A resistor configured such that a voltage divided at a predetermined position is supplied to a predetermined electrical connection of the electron gun integrally, and further comprising a glass layer formed on a surface of the insulating substrate including the first resistor. In the container, a resistor of 2 is formed along the longitudinal direction on the surface of the glass field, and -I+1 of the resistor of @2 is formed.
A voltage dividing resistor in an electron gun assembly, characterized in that a resistor j11 is connected to the low voltage hook part of the resistor j11.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20139981A JPS58102445A (en) | 1981-12-14 | 1981-12-14 | Voltage dividing resistor in electron gun structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20139981A JPS58102445A (en) | 1981-12-14 | 1981-12-14 | Voltage dividing resistor in electron gun structure |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58102445A true JPS58102445A (en) | 1983-06-18 |
Family
ID=16440440
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20139981A Pending JPS58102445A (en) | 1981-12-14 | 1981-12-14 | Voltage dividing resistor in electron gun structure |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58102445A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60124339A (en) * | 1983-12-08 | 1985-07-03 | Sony Corp | Resistor built in cathode ray tube |
JPS6313242A (en) * | 1986-07-04 | 1988-01-20 | Sony Corp | Resistor incorporated in cathode-ray tube |
US4786842A (en) * | 1984-05-24 | 1988-11-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Resistor assembly |
-
1981
- 1981-12-14 JP JP20139981A patent/JPS58102445A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60124339A (en) * | 1983-12-08 | 1985-07-03 | Sony Corp | Resistor built in cathode ray tube |
US4786842A (en) * | 1984-05-24 | 1988-11-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Resistor assembly |
JPS6313242A (en) * | 1986-07-04 | 1988-01-20 | Sony Corp | Resistor incorporated in cathode-ray tube |
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