NL7807758A - Televisieopneembuis. - Google Patents

Description

1 lt 4 v» ΧΛ- PHN 9195 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken te Eindhoven.

Televisieopneembuis

De uitvinding heeft betrekking op een kathode-straalbuis bevattende een buisvormig omhullingsdeel uit isolerend materiaal voorzien van een inwendig aangebrachte elektrisch geleidende wandbedekking en tenminste één zich 5 dwars op de wandbedekking uitstrekkende elektrode, welke elektrode in het omhullingsdeel wordt ondersteund door een zich dwars op de lengte-as van het omhullingsdeel uitstrekkend draagvlak, welk draagvlak is gevormd door een in hoofdzaak sprongsgewijze afname van de inwendige dwarsafmetingen 10 van het omhullingsdeel.

Een dergelijke televisieopneembuis, is beschreven in het Amerikaanse octrooischrift 3*912.851. Daarin betreft het een gaaselektrode, die op een schouder rust gevormd door een plaatselijke insnoering van de omhulling en die door 15 middel van indium aan de buiswand is bevestigd.

In het Amerikaanse octrooischrift 2.938.13^ is een elektronenkanonsysteem beschreven, waarvan een aantal elektrodes in een omhulling worden ondersteund door draagvlakken, die door een trapsgewijze vernauwing van de 20 inwendige diameter van de omhulling zijn verkregen. Met behulp van verende middelen worden de elektroden tegen de draagvlakken gedrukt.

Het Nederlandse octrooischrift 42114 beschrijft een kathodestraalbuis, waarin de elektroden in een binnen 25 de buis aangebracht cylindervormig isolatielichaam zijn ge plaatst. Het isolatielichaam is voorzien van trappen, waarin de een verende rand bezittende elektroden zijn vastgeklemd.

Een deel van de inwendige wand van het isolatielichaam is 780 77 58 - 2 - « ί ΡΗΝ 9195 ...... ..................................... ............................- ...........

met een elektrisch geleidende laag bedekt.

De huidige ontwikkeling van elektronenbuizen en in het bijzonder die van televisieopneembuizen richt zich meer en meer op de vervaardiging van kleine aan nauwe tole-5 ranties onderworpen buizen. Daarnaast gaat deze ontwikkeling gepaard met een vereenvoudiging van de buiskonstruktie in het bijzonder met betrekking tot de konstruktie van het in de buis toegepaste dektrodensysteem. Waar mogelijk worden de elektroden vervangen door wandelektroden in de vorm van 10 dunne film elektroden, die op de binnenwand van de omhulling van de buis zijn aangebracht. Een probleem is echter, dat de noodzakelijke onderbrekingen in de geleidende wandbedek-king ter verkrijging van elektrisch van elkaar geïsoleerde wandelektroden, een plaatselijke verstoring van de elektrische 15 veldverdeling in de buis kunnen veroorzaken. Een dergelijke verstoring wordt in'hoöfdzaak veroorzaakt door elektrische oplading van de buiswand terplaatse van een onderbreking in de geleidende wandbedekking. De invloed, die een dergelijke verstoring van de elektrische veldverdeling op bijvoorbeeld 20 de stralengang van een in de buis opgewekte elektronenbundel heeft, is des te storender naarmate de onderbreking minder rotatie-symmetrisch is en naarmate de binnendiameter van de buisomhulling kleiner is. Veldverstoringen kunnen verder veroorzaakt worden door de bevestigingen waarmee b.v. gaas-25 elektroden en elektroden ter begrenzing van de diameter van een elektronenbundel, zoals een diafragma, aan een geleidende wandbedekking zijn bevestigd.

Het doel van de uitvinding is een konstruktie te verschaffen, waarbij een onderbreking in de geleidende 30 wandbedekking geen ongewenste verstoring van de elektrische veldverdeling in de buis geeft. Een televisieopneembuis van de in de aanvang aangegeven soort heeft daartoe volgens de uitvinding het kenmerk, dat de geleidende wandbedekking in de nabijheid van de zich dwars op de wandbedekking uitstrek-35 kende elektrode is onderbroken en de sprongsgewijze aöiame van de inwendige dwarsafmetingen van het omhullingsdeel in 780 77 58 . . "v$ 3 PHN 9195 ............_____________ ; _______________________________ tenminste een eerste en een tweede trap plaatsvindt, waarbij gemeten in de richting van afnemende dwarsafmeting de eerste trap het draagvlak voor de elektrode vormt en op een wand-gedeelte van de tweede trap de onderbreking in de geleidende 5 wandbedekking is aangebracht. Aldus bevindt de onderbreking in de geleidende wandbedekking zich op een plaats, waar deze elektronenoptisch geen invloed heeft op de gang van de elektronenstralen in de elektimenbundel. Ook behoeven nu geen zware eisen aan het rotatiesymmetrisch zijn van de 10 onderbreking te worden gesteld, zodat deze op betrekkelijk ruwe wijze bijvoorbeeld door middel van slijpen in de geleidende wandbedekking kunnen worden aangebracht. Wanneer de onderbreking in de wandbedekking op een afstand a van de naar de lengte-as van het omhullingsdeel toegekeerde rand 15 van de tweede trap is gelegen en de afstand tussen de door het draagvlak van de eerste trap ondersteunde elektrode en het zich dwars op de lengte-as van de omhulling uitstrekkende deel van de tweede trap b bedraagt, wordt het verband tussen deze afstanden bij voorkeur zo gekozen dat 20 a > 0,5 b.

Het door de eerste trap gevormde draagvlak bepaalt nauwkeurig de positie van de elektrode in de omhulling. Om deze positie te fixeren wordt de elektrode aan de buiswand bevestigd. Ook deze bevestiging mag elektronenoptisch 25 geen invloed op de elektronenbundelvorming hebben. Dit wordt volgens de uitvinding gerealiseerd doordat de elektrode aan de van het draagvlak afgekeerde zijde elektrisch en mechanisch met de geleidende wandbedekking is verbonden.

Op die wijze verbonden ligt de bevestiging van de elektrode 30 in een veldvrije of nagenoeg veldvrije ruimte.

Door het aldus vermijden van storende invloeden op de veldverdeling in de buis is het zinvol gebleken de elektrodenconstructie wat betreft de positionering, de . lengte- en dwarsafmetingen van de elektroden aan zeer 35 nauwe toleranties te onderwerpen. Met behulp van een als zodanig bekende techniek kunnen toleranties kleiner dan 780 77 58 ♦ -4 - 4 PHN 919 5................................ -.........................- ........................................... -.........

2^um worden verkregen wanneer volgens de uitvinding het buisvormige omhullingsdeel bestaat uit een glazen buis voorzien van een door aanzuigen op de geprofileerde metalen doorn verkregen, inwendig geprofileerde wand. Dit 5 heeft tevens het voordeel, dat op eenvoudige wijze en in één enkele bewerking de trappen nodig voor het ondersteunen van de elektroden in de buis en het aanbrengen van de onderbrekingen in de wandbedekking worden verkregen.

De uitvinding wordt toegelicht aan de hand van 10 de tekening, waarin: figuur 1 in doorsnede een televisieopneembuis volgens de uitvinding toont, figuren 2 en 3 een detail van de buis volgens figuur 1 weergeven, 15 figuren 4 en 5 twee fasen van het vervaardigings- procédé van de buis volgens figuur 1 illustreren en figuur 6 schematisch een andere uitvoeringsvorm van een televisieopneembuis volgens de uitvinding toont.

De onder weglating van voor de uitvinding niet 20 wezenlijke details in figuur 1 geschetste opneembuis bevat een glazen omhulling 1, die aan één einde met een glazen venster 2 voorzien van een fotogevoelige laag 3 is afgesloten. In de buis bevindt zich een elektronenkanon 4, waaraan via een aantal doorvoerpennen 5 de gewenste elek-25 trische spanningen kunnen worden toegevoerd. De binnenwand van de omhulling 1 is met een dunne nikkel-laag 6 bedekt door middel van een bekend procédé zoals b.v. stroomloos vernikkelen (electroless plating). De buis bevat verder een gaaselektrode 7 en een diafragma 8 met een doorl^at-30 opening 9» welke door een door het elektronenkanon 4 opge-' wekte elektronenbundel worden gepasseerd alvorens deze op de fotogevoelige laag 3 landt. De nikkel-laag 6 is in de nabijheid van de gaaselektrode 7 en het diafragma 8 in omtreksrichting onderbroken,zodat deze laag in drie delen 33 wordt gescheiden. Elk van deze delen vormt een wandelektrode die bijdraagt tot het vormen van een qua vorm en afmetingen gewenste trefvlek van de elektronenbundel op de fotogevoe- 780 7 7 58 Λ 5 ......

ΡΗΝ 9195...................................................„.........................................................................;.......................................................................................................................... ..........

lige laag 3· Teneinde veldverstorende invloeden van de met 10 en 11 aangegeven onderbrekingen in de laag 6 tot een minimum te beperken neemt, zoals in figuur 2 en 3 in detail weergegeven, de inwendige diameter van de omhulling 1 ter 5 plaatse van de gaaselektrode 7 en b·®* diafragma 8 sprongs gewijze af. Eik van deze afnamen vindt in een eerste trap 12, 12’ en een tweede trap 13* 13* plaats. De eerste trap 12 respektievelijk 12’ vormt een draagvlak voor de gaaselektrode 7 respektievelijk het diafragma 8. De onder-10 brekingen 10 en 11 zijn in een wandgedeelte van de tweede trap 13 respektievelijk 13* aangebracht. Deze onderbrekingen zijn verkregen door de wandbedekking 6 plaatselijk weg te slijpen. De ligging van de onderbrekingen 10 en 11 is zodanig, dat zij elektronenoptisch geen storende invloed op 15 de vorm en richting van de elektronenbundel kunnen uitoefe nen. De afstand a tussen de onderbreking (10, 11) en de rand (l4, 15) van de tweede trap (-13,- 13') is daartoe groter dan de helft van de afstand b tussen de elektrode (7, 8) en het zich dwars op de lengté-as vein de buis uitstrekkende 20 deel van de tweede trap (13, 13*)· De gaaselektrode 7 en het diafragma 8 zijn door middel van een bolletje indium (16, 17) aan de van de draagvlakken afgekeerde zijden met de nikkel-laag 6 mechanisch en elektrisch verbonden. De bolletjes indium (16, 17) bevinden zich aldus in een veld-25 vrije ruimte, zodat ook deze geen storende invloed op de vorm en richting van de elektronenbundel kunnen uitoefenen.

In figuur h is in doorsnede een deel van de buis-omhulling 1 weergegeven in een fase van het vervaardigings-procédé waarin deze omhulling nog niet van een geprofileerde 30 binnenwand is voorzien. In de omhulling bevindt zich een metalen doorn 20, die -.overeenkomstig de aan te brengen profilering in de binnenwand van de omhulling 1 van sprongsgewijze diameterveranderingen 21,22,23 en 2k is voorzien.

De glazen omhulling 1 wordt door verwarming week gemaakt 35 en tegen de eveneens verwarmde doorn 20 aangezogen of aange drukt, waardoor het glas tegen de doorn gaat aanliggen en 780 7 7 58

Claims (4)

1. Kathodestraalbuis bevattende een buisvormig om- hullingsdeel uit isolerend materiaal voorzien van een inwendig aangebrachte elektrisch geleidende wandbedekking en tenminste één zich dwars op de wandbedekking uitstrekkende 30 elektrode, welke elektrode in het omhullingsdeel wordt ondersteund door een zich dwars op de lengte-as van het omhullingsdeel uitstrekkend draagvlak, welk draagvlak is gevormd door een in hoofdzaak sprongsgewijze afname van de inwendige dwarsafmetingen van het omhullingsdeel, met het •35 kenmerk, dat de geleidende wandbedekking in de nabijheid van de zich dwars op de wandbedekking uitstrekkende elek- 7807758 7 - ' . PHN 91.95....................;................................................................................................ trode is onderbroken en de sprongsgewijze afname van de inweidige dwarsafmetingen van het omhullingsdeel in tenminste een eerste en een tweede trap plaatsvindt, waarbij gemeten in de richting van afhemende dwarsafmeting de 5 eerste trap het draagvlak voor de elektrode vormt en op een wandgedeelte van de tweede trap de onderbreking in de geleidende wandbedekking is aangebracht.

2. Kathodestraalbuis volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de onderbreking in de wandbedekking opeen 10 afstand a van de naar de lengte-as van het omhullingsdeel toegekeerde rand van de tweede trap is gelegen en de afstand tussen de door het draagvlak van de eerste trap ondersteunde elektrode en het zich dwars op de lengte-as van de omhulling uitstrekkende deel van de tweede trap b bedraagt, 15 zodanig dat a 0,5 b.

3. Kathodestraalbuis volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat de elektrode aan de van het draagvlak afgekeerde zijde elektrisch en mechanisch met de geleidende wandbedekking is verbonden. 20

4. Kathodestraalbuis volgens conclusie 1, 2 of 3» met het kenmerk, dat het buisvormige omhullingsdeel bestaat uit een glazen buis voorzien van een door aanzuigen op een geprofileerde metalen doom verkregen, inwendig geprofileerde wand. 25 7807758