NL7713743A - Corpusculairstraal-optische inrichting voor het verkleind afbeelden van een masker op een te bestralen preparaat. - Google Patents

Corpusculairstraal-optische inrichting voor het verkleind afbeelden van een masker op een te bestralen preparaat.

Info

Publication number
NL7713743A
NL7713743A NL7713743A NL7713743A NL7713743A NL 7713743 A NL7713743 A NL 7713743A NL 7713743 A NL7713743 A NL 7713743A NL 7713743 A NL7713743 A NL 7713743A NL 7713743 A NL7713743 A NL 7713743A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
iradiated
mask
preparation
optical device
reduced image
Prior art date
Application number
NL7713743A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of NL7713743A publication Critical patent/NL7713743A/xx

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/3002—Details
    • H01J37/3007—Electron or ion-optical systems

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
NL7713743A 1977-01-20 1977-12-12 Corpusculairstraal-optische inrichting voor het verkleind afbeelden van een masker op een te bestralen preparaat. NL7713743A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2702445A DE2702445C3 (de) 1977-01-20 1977-01-20 Korpuskularstrahloptisches Gerät zur verkleinernden Abbildung einer Maske auf ein zu bestrahlendes Präparat

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7713743A true NL7713743A (nl) 1978-07-24

Family

ID=5999233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7713743A NL7713743A (nl) 1977-01-20 1977-12-12 Corpusculairstraal-optische inrichting voor het verkleind afbeelden van een masker op een te bestralen preparaat.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4140913A (enExample)
JP (1) JPS5392671A (enExample)
DE (1) DE2702445C3 (enExample)
FR (1) FR2378349A1 (enExample)
GB (1) GB1598735A (enExample)
NL (1) NL7713743A (enExample)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55110041A (en) * 1979-02-16 1980-08-25 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Electron beam projector
US4231811A (en) * 1979-09-13 1980-11-04 Intel Corporation Variable thickness self-aligned photoresist process
US4276477A (en) * 1979-09-17 1981-06-30 Varian Associates, Inc. Focusing apparatus for uniform application of charged particle beam
US4331875A (en) * 1980-04-07 1982-05-25 Burroughs Corporation Shadow casting electron-beam system
DE3410885A1 (de) * 1984-03-24 1985-10-03 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Fehlerkorrigierte korpuskularstrahllithographie
US4980562A (en) * 1986-04-09 1990-12-25 Varian Associates, Inc. Method and apparatus for high efficiency scanning in an ion implanter
JPS62295347A (ja) * 1986-04-09 1987-12-22 イクリプス・イオン・テクノロジ−・インコ−ポレイテツド イオンビ−ム高速平行走査装置
US4745281A (en) * 1986-08-25 1988-05-17 Eclipse Ion Technology, Inc. Ion beam fast parallel scanning having dipole magnetic lens with nonuniform field
US4859856A (en) * 1988-01-11 1989-08-22 International Business Machines Corporation Telecentric sub-field deflection with vail
EP0364929B1 (en) * 1988-10-20 1995-09-06 Fujitsu Limited Fabrication method of semiconductor devices and transparent mask for charged particle beam
JPH03270215A (ja) * 1990-03-20 1991-12-02 Fujitsu Ltd 荷電粒子ビーム露光方法及び露光装置
JP2837515B2 (ja) * 1990-06-20 1998-12-16 富士通株式会社 電子ビーム露光装置
US5311028A (en) * 1990-08-29 1994-05-10 Nissin Electric Co., Ltd. System and method for producing oscillating magnetic fields in working gaps useful for irradiating a surface with atomic and molecular ions
US5132544A (en) * 1990-08-29 1992-07-21 Nissin Electric Company Ltd. System for irradiating a surface with atomic and molecular ions using two dimensional magnetic scanning
US5136167A (en) * 1991-01-07 1992-08-04 International Business Machines Corporation Electron beam lens and deflection system for plural-level telecentric deflection
DE4243489A1 (de) * 1992-12-22 1994-06-23 Zeiss Carl Fa Verfahren zur Beleuchtung mit einem fokussierten Elektronenstrahl und zugehöriges elektronen-optisches Beleuchtungssystem
US5466904A (en) * 1993-12-23 1995-11-14 International Business Machines Corporation Electron beam lithography system
US5523580A (en) * 1993-12-23 1996-06-04 International Business Machines Corporation Reticle having a number of subfields
US5674413A (en) * 1993-12-23 1997-10-07 International Business Machines Corporation Scattering reticle for electron beam systems
DE19633320C2 (de) * 1996-08-19 2001-05-17 Rubitec Gesellschaft Fuer Innovation & Technologie Ruhr Univ Bochum Mbh Verfahren zur verkleinernden Abbildung einer Maske auf einem Substrat und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE19946447B4 (de) * 1998-10-13 2012-01-19 Ims Nanofabrication Ag Teilchenoptisches Abbildungssystem für Lithographiezwecke
US6677599B2 (en) * 2000-03-27 2004-01-13 Applied Materials, Inc. System and method for uniformly implanting a wafer with an ion beam
AU2001270133A1 (en) 2000-06-22 2002-01-02 Proteros, Llc Ion implantation uniformity correction using beam current control
DE10034412A1 (de) 2000-07-14 2002-01-24 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Verfahren zur Elektronenstrahl-Lithographie und elektronen-optisches Lithographiesystem
US6822246B2 (en) * 2002-03-27 2004-11-23 Kla-Tencor Technologies Corporation Ribbon electron beam for inspection system
US10176965B1 (en) * 2017-07-05 2019-01-08 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Aberration-corrected multibeam source, charged particle beam device and method of imaging or illuminating a specimen with an array of primary charged particle beamlets
DE102021122388A1 (de) * 2021-08-30 2023-03-02 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Teilchenstrahlsäule

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3491236A (en) * 1967-09-28 1970-01-20 Gen Electric Electron beam fabrication of microelectronic circuit patterns
US3745385A (en) * 1972-01-31 1973-07-10 Matsushita Electric Industrial Co Ltd Piezoelectric ceramic resonator
FR39852E (fr) * 1972-06-30 1932-03-24 Ig Farbenindustrie Ag Procédé de production de colorants solides pour cuve

Also Published As

Publication number Publication date
DE2702445A1 (de) 1978-07-27
DE2702445C3 (de) 1980-10-09
US4140913A (en) 1979-02-20
DE2702445B2 (de) 1980-02-14
FR2378349B1 (enExample) 1982-02-26
FR2378349A1 (fr) 1978-08-18
GB1598735A (en) 1981-09-23
JPS5392671A (en) 1978-08-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7713743A (nl) Corpusculairstraal-optische inrichting voor het verkleind afbeelden van een masker op een te bestralen preparaat.
NL7803035A (nl) Lichtgevoelige film en werkwijze voor de vervaardiging ervan.
NL178355C (nl) Koppeling voor stralingsgeleiders.
NL188076B (nl) Inrichting voor radiografie.
JPS5432349A (en) Inspection device for laser range finder
NL174300B (nl) Beeldreproduktie-inrichting voor het vervaardigen van beeldcombinaties.
NL7809572A (nl) Beeldbeschouwingstoestel.
NL7806291A (nl) Uitschakelmechanisme voor kernreactoren.
NL7811577A (nl) Inrichting voor lithografie met behulp van een elek- tronenbundel.
JPS53117398A (en) Optical device for calculating formula axial cross direction sectional camera
NL7803109A (nl) Kerngenerator voor fabricage van radionucliden.
NL177548B (nl) Beeldregistratie-inrichting met vermijding van regelstructuren.
DK540379A (da) Optisk monteringsenhed til billeddannende apparater
NL7713613A (nl) Met corpusculaire stralen werkende optische inrichting voor het afbeelden van een masker op een preparaat.
AT362460B (de) Bildverstaerkerroehre
NL7811884A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een zeer zuiver teref- taalzuur.
NL178922C (nl) Beeldversterkerbuis.
NL7806450A (nl) Werkwijze voor het vastleggen van beelden op een voor straling gevoelig materiaal.
NL173789C (nl) Verbindingsinrichting voor lichtgeleiders.
NL7801661A (nl) Inrichting voor het weergeven van lichte beel- den tegen een donkere achtergrond.
NL7702261A (nl) Beeldversterkerbuis.
NL7802756A (nl) Verbruikbare gifstaaf voor kernreactor.
NL7809988A (nl) Draaginrichting voor gietpannen.
BE868441A (nl) Antikleursluierstoffen voor fotografische kleurenmaterialen
FI782325A7 (fi) Automatiskt system foer reglering av ljushetsgraden i en panoramaroentgenfotograferingsapparat

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed