NL7602116A - Werkwijze voor het verkrijgen van een magnetisch actief plasma voor het vormen van dunne lagen aan het oppervlak van vaste substraten, en een inrichting voor het uitvoeren van deze werkwijze. - Google Patents

Werkwijze voor het verkrijgen van een magnetisch actief plasma voor het vormen van dunne lagen aan het oppervlak van vaste substraten, en een inrichting voor het uitvoeren van deze werkwijze.

Info

Publication number
NL7602116A
NL7602116A NL7602116A NL7602116A NL7602116A NL 7602116 A NL7602116 A NL 7602116A NL 7602116 A NL7602116 A NL 7602116A NL 7602116 A NL7602116 A NL 7602116A NL 7602116 A NL7602116 A NL 7602116A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
procedure
obtaining
thin layers
forming thin
solid substrates
Prior art date
Application number
NL7602116A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Ceske Vysoke Uceni Tech
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ceske Vysoke Uceni Tech filed Critical Ceske Vysoke Uceni Tech
Publication of NL7602116A publication Critical patent/NL7602116A/xx

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
    • H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
    • H01J65/046—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using capacitive means around the vessel
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/36—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
NL7602116A 1975-03-04 1976-03-01 Werkwijze voor het verkrijgen van een magnetisch actief plasma voor het vormen van dunne lagen aan het oppervlak van vaste substraten, en een inrichting voor het uitvoeren van deze werkwijze. NL7602116A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS143675A CS176690B1 (enrdf_load_stackoverflow) 1975-03-04 1975-03-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7602116A true NL7602116A (nl) 1976-09-07

Family

ID=5348709

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7602116A NL7602116A (nl) 1975-03-04 1976-03-01 Werkwijze voor het verkrijgen van een magnetisch actief plasma voor het vormen van dunne lagen aan het oppervlak van vaste substraten, en een inrichting voor het uitvoeren van deze werkwijze.

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPS51112182A (enrdf_load_stackoverflow)
CS (1) CS176690B1 (enrdf_load_stackoverflow)
DE (1) DE2606937A1 (enrdf_load_stackoverflow)
NL (1) NL7602116A (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2587729B1 (fr) * 1985-09-24 1988-12-23 Centre Nat Rech Scient Procede et dispositif de traitement chimique, notamment de traitement thermochimique et de depot chimique dans un plasma homogene de grand volume
CH671407A5 (enrdf_load_stackoverflow) * 1986-06-13 1989-08-31 Balzers Hochvakuum
JP2805009B2 (ja) * 1988-05-11 1998-09-30 株式会社日立製作所 プラズマ発生装置及びプラズマ元素分析装置
JP2546405B2 (ja) * 1990-03-12 1996-10-23 富士電機株式会社 プラズマ処理装置ならびにその運転方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS51112182A (en) 1976-10-04
CS176690B1 (enrdf_load_stackoverflow) 1977-06-30
DE2606937A1 (de) 1976-09-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL188237C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een stof uit meerdere lagen.
NL7611952A (nl) Werkwijze voor het selektief galvaniseren van een gebied van een oppervlak.
NL7613440A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7710659A (nl) Werkwijze voor het vormen van een epitaxiale laag op het oppervlak van een substraat.
NL7506594A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting en halfgeleiderinrichting ver- vaardigd met behulp van de werkwijze.
NL183244C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een elastisch vlies.
NL7714538A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een magnetisch registratie-medium.
NL7701376A (nl) Werkwijze en inrichting voor de vorming en af- zetting op een substraat van monomoleculaire lagen van amfifiele moleculen; evenals substra- ten behandeld onder toepassing van de werkwijze.
NL7607391A (nl) Werkwijze voor het vormen van een ductiele metalen bekledingslaag op tenminste een deel van het opper- vlak van een metalen substraat.
NL7604935A (nl) Plaatmateriaal en werkwijze voor het ver- vaardigen daarvan.
NL7601048A (nl) Werkwijze voor het epoxideren van alkenen.
NL7605927A (nl) Inrichting en werkwijze voor het behandelen van een oppervlak.
NL7602264A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een metaalbe- kleding op een metaalsubstraat.
NL7608923A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7602349A (nl) Werkwijze voor het uitlijnen van masker en een plaatje.
NL7700799A (nl) Inrichting voor het met een ionenstraal behandelen van substraten.
NL7700641A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een bekleding voor halfgeleidersubstraten.
NL7505154A (nl) Werkwijze voor het neerslaan van een metaal op een oppervlak van en isolerende substraat en artikel verkregen onder gebruik van deze werk- wijze.
NL7606206A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een trilin- richting, alsmede een trilinrichting.
NL175107C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een laag van een positief werkende elektronenresist en werkwijze ter vervaardiging van een resistpatroon.
NL7603727A (nl) Werkwijze en inrichting voor het elektronisch opwekken van klanken of geluid.
BE847443A (nl) Werkwijze voor het verharden van fotografische lagen,
NL7707198A (nl) Werkwijze en inrichting voor de regeling van een plasma-etsproces.
NL185044B (nl) Halfgeleider-component en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL7602116A (nl) Werkwijze voor het verkrijgen van een magnetisch actief plasma voor het vormen van dunne lagen aan het oppervlak van vaste substraten, en een inrichting voor het uitvoeren van deze werkwijze.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed