NL7707198A - Werkwijze en inrichting voor de regeling van een plasma-etsproces. - Google Patents

Werkwijze en inrichting voor de regeling van een plasma-etsproces.

Info

Publication number
NL7707198A
NL7707198A NL7707198A NL7707198A NL7707198A NL 7707198 A NL7707198 A NL 7707198A NL 7707198 A NL7707198 A NL 7707198A NL 7707198 A NL7707198 A NL 7707198A NL 7707198 A NL7707198 A NL 7707198A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
arrangement
etching process
plasma etching
plasma
etching
Prior art date
Application number
NL7707198A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Northern Telecom Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Northern Telecom Ltd filed Critical Northern Telecom Ltd
Publication of NL7707198A publication Critical patent/NL7707198A/nl

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32917—Plasma diagnostics
    • H01J37/32935—Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
    • G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/0006—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature
    • H05H1/0012—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature using electromagnetic or particle radiation, e.g. interferometry
    • H05H1/0025—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature using electromagnetic or particle radiation, e.g. interferometry by using photoelectric means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
NL7707198A 1976-09-13 1977-06-29 Werkwijze en inrichting voor de regeling van een plasma-etsproces. NL7707198A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CA261,108A CA1071579A (en) 1976-09-13 1976-09-13 End point control in plasma etching

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7707198A true NL7707198A (nl) 1978-03-15

Family

ID=4106853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7707198A NL7707198A (nl) 1976-09-13 1977-06-29 Werkwijze en inrichting voor de regeling van een plasma-etsproces.

Country Status (7)

Country Link
JP (1) JPS6013072B2 (nl)
CA (1) CA1071579A (nl)
DE (1) DE2736262A1 (nl)
FR (1) FR2364593A1 (nl)
GB (1) GB1569939A (nl)
NL (1) NL7707198A (nl)
SE (1) SE439266B (nl)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54142143A (en) * 1978-04-27 1979-11-06 Anelva Corp Dry type etching device
FR2487574A1 (fr) * 1980-07-24 1982-01-29 Efcis Procede et dispositif d'attaque sous plasma d'une couche mince
US4415402A (en) * 1981-04-02 1983-11-15 The Perkin-Elmer Corporation End-point detection in plasma etching or phosphosilicate glass
JPS5839781A (ja) * 1981-09-02 1983-03-08 Toshiba Corp 反応性イオンエツチング装置
JPS58100740A (ja) * 1981-12-11 1983-06-15 Hitachi Ltd プラズマ分布モニタ
US4482424A (en) * 1983-05-06 1984-11-13 At&T Bell Laboratories Method for monitoring etching of resists by monitoring the flouresence of the unetched material
DE4016211A1 (de) * 1990-05-19 1991-11-21 Convac Gmbh Verfahren zur ueberwachung und steuerung eines aetzvorgangs und vorrichtung hierfuer
JP2002520836A (ja) * 1998-07-11 2002-07-09 ボーゲム リミティッド 改良されたプロセスモニタ方法
DE19860152C1 (de) * 1998-12-24 2000-06-15 Temic Semiconductor Gmbh Verfahren zur Erkennung von Lackverbrennungen
DE102014107385A1 (de) * 2014-05-26 2015-11-26 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronischer Halbleiterchip und Verfahren zu dessen Herstellung
GB201611652D0 (en) * 2016-07-04 2016-08-17 Spts Technologies Ltd Method of detecting a condition

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US366492A (en) * 1887-07-12 Ash-sifter
JPS529353B2 (nl) * 1972-04-18 1977-03-15
JPS5135639A (ja) * 1974-09-20 1976-03-26 Hitachi Ltd Himakunopurazumaetsuchingushorishutenkenshutsuho
JPS5421711B2 (nl) * 1975-01-20 1979-08-01
JPS5326674A (en) * 1976-08-25 1978-03-11 Hitachi Ltd Plasma etching

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5334641A (en) 1978-03-31
FR2364593A1 (fr) 1978-04-07
GB1569939A (en) 1980-06-25
DE2736262A1 (de) 1978-03-16
JPS6013072B2 (ja) 1985-04-04
CA1071579A (en) 1980-02-12
SE439266B (sv) 1985-06-10
SE7710257L (sv) 1978-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7709484A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een glazen omhulling.
NL7712975A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een hol paneel.
NL7806343A (nl) Kolomvormige konstruktie en werkwijze voor de vervaar- diging daarvan.
NL185043C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een voorwerp onder toepassing van een plasma-etsing.
NL7703452A (nl) Werkwijze van compensering voor de walsrolaf- wijking in een kalander.
NL7703174A (nl) Werkwijze ter bereiding van een lokmiddel voor kakkerlakken.
NL7508297A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bedrijven van een etsmachine.
NL7803620A (nl) Spuitbus en een werkwijze voor de vervaardiging van een spuitbus.
NL7807983A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderin- richting.
NL7701512A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een magnetische legering.
NL7605872A (nl) Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van vacuumbeton.
NL7711638A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een enzym- houdend preparaat en gevormd preparaat, ver- vaardigd met de werkwijze.
NL7704871A (nl) Werkwijze voor de bereiding van glycolesters.
NL7707198A (nl) Werkwijze en inrichting voor de regeling van een plasma-etsproces.
NL7606976A (nl) Werkwijze voor het monteren van een kathode- straalbuis.
NL182476C (nl) Werkwijze voor de bereiding van een 4-halogeen-beta-pyron.
NL7614213A (nl) Werkwijze en preparaat voor de bestrijding van ketelsteen en afzettingen op gaswassers.
NL7705266A (nl) Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van samengestelde oppervlakte-elementen.
NL7709634A (nl) Werkwijze voor de polymerisatie van alkenen.
NL7701399A (nl) Werkwijze voor de bereiding en toepassing van een chloralderivaat.
NL7710037A (nl) Werkwijze voor de regenerering van een katalysa- tor.
NL7801730A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een urethanelas- tomeer en een aldus verkregen urethanelastomeer.
NL7513111A (nl) Werkwijze en inrichting voor het doorlopend ver- vaardigen van een schuimstofstreng.
NL7600365A (nl) Werkwijze en inrichting voor de meertrappige vloei- stof-vloeistof-tegenstroom-extraktie.
NL7609490A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een laminaat.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed