NL175107C - Werkwijze voor het aanbrengen van een laag van een positief werkende elektronenresist en werkwijze ter vervaardiging van een resistpatroon. - Google Patents

Werkwijze voor het aanbrengen van een laag van een positief werkende elektronenresist en werkwijze ter vervaardiging van een resistpatroon.

Info

Publication number
NL175107C
NL175107C NL7602708A NL7602708A NL175107C NL 175107 C NL175107 C NL 175107C NL 7602708 A NL7602708 A NL 7602708A NL 7602708 A NL7602708 A NL 7602708A NL 175107 C NL175107 C NL 175107C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
resistant
applying
manufacturing
layer
cartridge
Prior art date
Application number
NL7602708A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7602708A (nl
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Publication of NL7602708A publication Critical patent/NL7602708A/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL175107C publication Critical patent/NL175107C/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146—Laser beam
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
NL7602708A 1975-03-20 1976-03-16 Werkwijze voor het aanbrengen van een laag van een positief werkende elektronenresist en werkwijze ter vervaardiging van een resistpatroon. NL175107C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB1166075A GB1500541A (en) 1975-03-20 1975-03-20 Method of producing positive-working electron resist coatings

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL7602708A NL7602708A (nl) 1976-09-22
NL175107C true NL175107C (nl) 1984-09-17

Family

ID=9990342

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7602708A NL175107C (nl) 1975-03-20 1976-03-16 Werkwijze voor het aanbrengen van een laag van een positief werkende elektronenresist en werkwijze ter vervaardiging van een resistpatroon.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4061832A (nl)
JP (2) JPS51117577A (nl)
DE (1) DE2610301C2 (nl)
FR (1) FR2304943A1 (nl)
GB (1) GB1500541A (nl)
NL (1) NL175107C (nl)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5466829A (en) * 1977-11-07 1979-05-29 Fujitsu Ltd Pattern formation materil
JPS5466122A (en) * 1977-11-07 1979-05-28 Fujitsu Ltd Pattern formation material
DE2757931A1 (de) * 1977-12-24 1979-07-12 Licentia Gmbh Verfahren zum herstellen von positiven aetzresistenten masken
DE2757932A1 (de) * 1977-12-24 1979-07-05 Licentia Gmbh Strahlungsempfindliche positiv arbeitende materialien
JPS54158173A (en) * 1978-06-05 1979-12-13 Fujitsu Ltd Micropattern forming method
DE2828128A1 (de) * 1978-06-27 1980-01-10 Licentia Gmbh Strahlungsempfindliche positiv arbeitende materialien
JPS5590942A (en) * 1978-12-29 1980-07-10 Fujitsu Ltd Positive type resist material
EP0016679B1 (fr) * 1979-03-09 1982-06-09 Thomson-Csf Substances de photomasquage, leur procédé de préparation, et masque obtenu
JPS55133042A (en) * 1979-04-04 1980-10-16 Fujitsu Ltd Pattern forming method
US4276365A (en) * 1979-07-02 1981-06-30 Fujitsu Limited Positive resist terpolymer composition and method of forming resist pattern
DE3246825A1 (de) * 1982-02-24 1983-09-01 Max Planck Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen Positives resistmaterial
US4448875A (en) * 1983-03-31 1984-05-15 Gaf Corporation Electron beam sensitive mixture resist
JP2707785B2 (ja) * 1990-03-13 1998-02-04 富士通株式会社 レジスト組成物およびパターン形成方法
US5789140A (en) * 1996-04-25 1998-08-04 Fujitsu Limited Method of forming a pattern or via structure utilizing supplemental electron beam exposure and development to remove image residue

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3441545A (en) * 1963-11-01 1969-04-29 Du Pont Modification of olefin-carboxylic acid halide copolymers
US3647771A (en) * 1964-01-30 1972-03-07 Sumitomo Chemical Co Alternating copolymers of alpha-olefins and vinyl compounds and a process for manufacturing the same
GB1275632A (en) * 1968-06-25 1972-05-24 Hart Schaffner & Marx Inc A method of making tailored garments
US3631157A (en) * 1970-02-09 1971-12-28 Dow Chemical Co Reactive mixed anhydride-containing polymers and a method for their preparation
JPS5119047B2 (nl) * 1972-04-14 1976-06-15
GB1445345A (en) * 1972-12-21 1976-08-11 Mullard Ltd Positive-working electron resists
JPS5639680B2 (nl) * 1974-04-02 1981-09-14

Also Published As

Publication number Publication date
NL7602708A (nl) 1976-09-22
US4061832A (en) 1977-12-06
DE2610301C2 (de) 1985-01-17
JPS6342770B2 (nl) 1988-08-25
JPS51117577A (en) 1976-10-15
DE2610301A1 (de) 1976-09-30
GB1500541A (en) 1978-02-08
JPS5798517A (en) 1982-06-18
FR2304943A1 (fr) 1976-10-15
FR2304943B1 (nl) 1978-12-08
JPS5719411B2 (nl) 1982-04-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7602566A (nl) Werkwijze voor het vormen van een patroon in een laag.
NL188237C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een stof uit meerdere lagen.
NL7614031A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een bekle- ding met een metallische deklaag.
NL7502841A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een metaal- elektrode.
NL7613487A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een buig- zame lamellaire tussenlaag.
NL184368C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een antistatische laag op een substraat.
NL176642C (nl) Werkwijze voor het bedekken van een substraat met een laag polymeermateriaal.
NL185244C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een stralingsgevoelige kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat een laag uit een dergelijke kopieermassa bevat.
NL179707C (nl) Werkwijze ter bereiding van microcapsules en vellen voorzien van een bekleding met microcapsules.
NL185690C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een vlakdrukvorm.
NL7711910A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een dubbele eenmaal gebrande emaillaag.
NL183344C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een lichtdoorlatend brandwerend paneel, en een dergelijk paneel.
NL175107C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een laag van een positief werkende elektronenresist en werkwijze ter vervaardiging van een resistpatroon.
NL7612458A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een interconnector.
NL7605927A (nl) Inrichting en werkwijze voor het behandelen van een oppervlak.
BE839598A (nl) Werkwijze en inrichting voor het door kathodeverstuiving op een drager aanbrengen van een laag materiaal
NL7602264A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een metaalbe- kleding op een metaalsubstraat.
NL180707C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een positieve fotoresistlaag.
NL172978B (nl) Afdichtende bekleding voor een ondergrond en werkwijze voor het aanbrengen van een zodanige bekleding.
NL186720B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een fotografisch registratiemateriaal.
NL7608397A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een polyurethanlaag op een substraat.
NL7601586A (nl) Werkwijze voor het behandelen van een put.
NL7605089A (nl) Vezel, werkwijze voor het bekleden van een vezel en daarvoor geschikte inrichting.
NL7710607A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een laag met een structuur op een substraat.
NL180812C (nl) Werkwijze voor het versterken van het randgedeelte van een plaat van poreus materiaal.

Legal Events

Date Code Title Description
BC A request for examination has been filed
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee