NL7513401A - Werkwijze en inrichting voor het neerleggen van dunne lagen uit isolerende materialen of van wei- nig geleidende materialen door een reactieve ver- stuiving in een bij hoge frekwentie inductief plas- ma. - Google Patents

Werkwijze en inrichting voor het neerleggen van dunne lagen uit isolerende materialen of van wei- nig geleidende materialen door een reactieve ver- stuiving in een bij hoge frekwentie inductief plas- ma.

Info

Publication number
NL7513401A
NL7513401A NL7513401A NL7513401A NL7513401A NL 7513401 A NL7513401 A NL 7513401A NL 7513401 A NL7513401 A NL 7513401A NL 7513401 A NL7513401 A NL 7513401A NL 7513401 A NL7513401 A NL 7513401A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
thin layers
low conductive
inductive plasma
frequency inductive
materials
Prior art date
Application number
NL7513401A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Euratom
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Euratom filed Critical Euratom
Publication of NL7513401A publication Critical patent/NL7513401A/xx

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/228—Gas flow assisted PVD deposition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036—Reactive sputtering
    • C23C14/0084—Producing gradient compositions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Inorganic Insulating Materials (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
NL7513401A 1974-11-22 1975-11-17 Werkwijze en inrichting voor het neerleggen van dunne lagen uit isolerende materialen of van wei- nig geleidende materialen door een reactieve ver- stuiving in een bij hoge frekwentie inductief plas- ma. NL7513401A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
LU71343A LU71343A1 (enExample) 1974-11-22 1974-11-22

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7513401A true NL7513401A (nl) 1976-05-25

Family

ID=19727807

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7513401A NL7513401A (nl) 1974-11-22 1975-11-17 Werkwijze en inrichting voor het neerleggen van dunne lagen uit isolerende materialen of van wei- nig geleidende materialen door een reactieve ver- stuiving in een bij hoge frekwentie inductief plas- ma.

Country Status (14)

Country Link
US (1) US4050408A (enExample)
JP (1) JPS5176596A (enExample)
BE (1) BE835669A (enExample)
CA (1) CA1071936A (enExample)
CH (1) CH607939A5 (enExample)
DE (1) DE2552380A1 (enExample)
DK (1) DK513875A (enExample)
FR (1) FR2292051A1 (enExample)
GB (1) GB1504548A (enExample)
IE (1) IE41938B1 (enExample)
IT (1) IT1052238B (enExample)
LU (1) LU71343A1 (enExample)
NL (1) NL7513401A (enExample)
SE (1) SE7513124L (enExample)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4125086A (en) * 1977-01-06 1978-11-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Nozzle beam type metal vapor source
US4231774A (en) * 1978-04-10 1980-11-04 International Telephone And Telegraph Corporation Method of fabricating large optical preforms
JPS5940227B2 (ja) * 1980-06-24 1984-09-28 富士通株式会社 リアクティブスパッタリング方法
US4406252A (en) * 1980-12-29 1983-09-27 Rockwell International Corporation Inductive heating arrangement for evaporating thin film alloy onto a substrate
JPS57123969A (en) * 1981-01-26 1982-08-02 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Formation of zinc oxide film by vapor phase method using plasma
JPS57158369A (en) * 1981-03-26 1982-09-30 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Formation of dielectric film by plasma vapor phase method
US4428812A (en) * 1983-04-04 1984-01-31 Borg-Warner Corporation Rapid rate reactive sputtering of metallic compounds
WO1985002418A1 (en) * 1983-12-01 1985-06-06 Shatterproof Glass Corporation Gas distribution system for sputtering cathodes
JPH074523B2 (ja) * 1986-09-25 1995-01-25 キヤノン株式会社 反応装置
GB8713986D0 (en) * 1987-06-16 1987-07-22 Shell Int Research Apparatus for plasma surface treating
GB2217349B (en) * 1988-03-29 1992-06-24 Univ Hull Vapour deposited self-sealing ceramic coatings
DE3914722A1 (de) * 1989-05-04 1990-11-08 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Verfahren zum auftragen von keramischen material
US5356674A (en) * 1989-05-04 1994-10-18 Deutsche Forschungsanstalt Fuer Luft-Raumfahrt E.V. Process for applying ceramic coatings using a plasma jet carrying a free form non-metallic element
US5601652A (en) * 1989-08-03 1997-02-11 United Technologies Corporation Apparatus for applying ceramic coatings
DE4237980A1 (de) * 1992-11-11 1994-05-19 Krupp Ag Hoesch Krupp Verfahren zur Erzeugung einer mehrlagigen nitrierten oder Nitrid-Beschichtung durch reaktives Plasmaspritzen
US5620523A (en) * 1994-04-11 1997-04-15 Canon Sales Co., Inc. Apparatus for forming film
US7591957B2 (en) * 2001-01-30 2009-09-22 Rapt Industries, Inc. Method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for surface modification
US7510664B2 (en) 2001-01-30 2009-03-31 Rapt Industries, Inc. Apparatus and method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for shaping of damage free surfaces
US6660177B2 (en) 2001-11-07 2003-12-09 Rapt Industries Inc. Apparatus and method for reactive atom plasma processing for material deposition
US7371992B2 (en) 2003-03-07 2008-05-13 Rapt Industries, Inc. Method for non-contact cleaning of a surface
DE102004022358B3 (de) * 2004-04-30 2005-11-03 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Hartstoffbeschichtungsverfahren und dessen Verwendung
US10119195B2 (en) 2009-12-04 2018-11-06 The Regents Of The University Of Michigan Multichannel cold spray apparatus
KR101770576B1 (ko) * 2009-12-04 2017-08-23 더 리젠츠 오브 더 유니버시티 오브 미시건 동축 레이저 보조형 콜드 스프레이 노즐
WO2011108671A1 (ja) * 2010-03-04 2011-09-09 イマジニアリング株式会社 被膜形成装置、及び被膜形成物の製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3010009A (en) * 1958-09-29 1961-11-21 Plasmadyne Corp Method and apparatus for uniting materials in a controlled medium
US3247014A (en) * 1963-05-29 1966-04-19 Battelle Development Corp Method of coating solid particles
US3690291A (en) * 1971-04-28 1972-09-12 Nasa Deposition apparatus
US3710070A (en) * 1971-06-09 1973-01-09 Northern Natural Gas Co Low voltage, compact electrically augmented burner
US3839618A (en) * 1972-01-03 1974-10-01 Geotel Inc Method and apparatus for effecting high-energy dynamic coating of substrates
US3756193A (en) * 1972-05-01 1973-09-04 Battelle Memorial Institute Coating apparatus
JPS5213927B2 (enExample) * 1972-07-13 1977-04-18
FR2245779B1 (enExample) * 1973-09-28 1978-02-10 Cit Alcatel

Also Published As

Publication number Publication date
IE41938L (en) 1976-05-22
FR2292051A1 (fr) 1976-06-18
DK513875A (da) 1976-05-23
DE2552380A1 (de) 1976-08-12
LU71343A1 (enExample) 1976-03-17
IE41938B1 (en) 1980-04-23
JPS5176596A (en) 1976-07-02
CH607939A5 (enExample) 1978-12-15
GB1504548A (en) 1978-03-22
US4050408A (en) 1977-09-27
SE7513124L (sv) 1976-05-24
FR2292051B1 (enExample) 1978-05-12
IT1052238B (it) 1981-06-20
BE835669A (fr) 1976-03-16
CA1071936A (en) 1980-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7513401A (nl) Werkwijze en inrichting voor het neerleggen van dunne lagen uit isolerende materialen of van wei- nig geleidende materialen door een reactieve ver- stuiving in een bij hoge frekwentie inductief plas- ma.
NL185116C (nl) Werkwijze voor het behandelen van oppervlakken van tussenprodukten bij het vervaardigen van halfgeleiders.
NL185355C (nl) Werkwijze voor het impregneren en gronden van zuigende substraten.
NL7509934A (nl) Elektrische inrichting voor het tijdelijk en plaatselijk onderdrukken van pijn.
NL7600308A (nl) Werkwijze en inrichting voor het verdampen en verwarmen van vloeibaar natuurlijk gas.
NL7802646A (nl) Werkwijze en apparaat voor het met plasma be- handelen van halfgeleidermaterialen.
NL141556B (nl) Werkwijze voor het verbeteren van de kerfslagwaarde en weerstand tegen aantasting door agressieve oplosmiddelen van een polyfenyleenoxyde en voorwerpen, vervaardigd van aldus bereid polyfenyleenoxyde.
SE419469B (sv) Forfarande for brensleinsprutning samt elektroniskt styrt brensleinsprutningssystem for genomforande av forfarandet
NL149234B (nl) Werkwijze en inrichting voor het afzetten van dunne lagen geleidend of halfgeleidend materiaal op het oppervlak van een lichaam.
NL7601646A (nl) Werkwijze voor het vormen van laminaat van in hoofdzaak lagen van verknoopt opgeschuimd poly- etheen.
NL141750B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een, uit dunne lagen opgebouwde, geintegreerde schakeling, alsmede geintegreerde schakeling verkregen door toepassing van de werkwijze.
NL7609186A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van uit meer- dere lagen bestaande microbedradingen.
NL7501919A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van filterpropjes ten gebruike bij sigaretten en dergelijke voorwerpen.
NL7509392A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een expansie- mengsel voor cementconglomeraten en voorwerpen vervaardigd uit cementconglomeraten met dit expansiemengsel.
NL7607678A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van meerlagige condensatoren en aldus vervaar- digde condensatoren.
NL7605872A (nl) Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van vacuumbeton.
NL7705952A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een supra- geleidende nb3sn-laag op een niobiumoppervlak voor hoogfrequent toepassingen.
NL7607150A (nl) Werkwijze voor het isoleren van 3-hydroxy- steroiden en 3-oxosteroiden.
NL183466C (nl) Werkwijze voor het harden van een onverzadigd elastomeer en aldus gehard voorwerp.
NL165778C (nl) Werkwijze en inrichting voor het voorkomen van lucht- vervuiling bij het uitdrukken van cokes uit cokesovens.
BE828235A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van uit meerdere lagen bestaande bouwelementen
NL7608104A (nl) Werkwijze voor het winnen van polyethyleen- terefthalaat.
NL7608072A (nl) Werkwijze voor het verbeteren van de mecha- nische eigenschappen van met novolak gebonden voorwerpen.
NL7601653A (nl) Werkwijze en inrichting voor het automatisch be- palen van de dikte van neergeslagen lagen.
NL184066C (nl) Werkwijze voor het polymeriseren van tetrahydrofuran of door alkyl gesubstitueerd tetrahydrofuran tot poly(tetramethyleenether)glycol met estereindgroepen, werkwijze voor de bereiding van poly(tetramethyleenether)glycol uit de aldus bereide poly(tetramethyleenether)glycolester en gevormde voortbrengselen, vervaardigd onder toepassen van het aldus bereide poly(tetramethyleenether)glycol of de ester daarvan.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed