NL7511096A - Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van epitactische lagen. - Google Patents

Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van epitactische lagen.

Info

Publication number
NL7511096A
NL7511096A NL7511096A NL7511096A NL7511096A NL 7511096 A NL7511096 A NL 7511096A NL 7511096 A NL7511096 A NL 7511096A NL 7511096 A NL7511096 A NL 7511096A NL 7511096 A NL7511096 A NL 7511096A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
manufacture
equipment
epitactic
layers
epitactic layers
Prior art date
Application number
NL7511096A
Other languages
English (en)
Other versions
NL168279B (nl
NL168279C (nl
Original Assignee
Max Planck Gesellschaft
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Max Planck Gesellschaft filed Critical Max Planck Gesellschaft
Publication of NL7511096A publication Critical patent/NL7511096A/nl
Publication of NL168279B publication Critical patent/NL168279B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL168279C publication Critical patent/NL168279C/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B19/00—Liquid-phase epitaxial-layer growth
    • C30B19/06—Reaction chambers; Boats for supporting the melt; Substrate holders
    • C30B19/066—Injection or centrifugal force system

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
NLAANVRAGE7511096,A 1974-09-20 1975-09-19 Werkwijze en inrichting voor het vormen van een epitaxiale laag. NL168279C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE742445146A DE2445146C3 (de) 1974-09-20 1974-09-20 Verfahren und Vorrichtung zur Ausbildung epitaktischer Schichten

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7511096A true NL7511096A (nl) 1976-03-23
NL168279B NL168279B (nl) 1981-10-16
NL168279C NL168279C (nl) 1982-03-16

Family

ID=5926387

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7511096,A NL168279C (nl) 1974-09-20 1975-09-19 Werkwijze en inrichting voor het vormen van een epitaxiale laag.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4373988A (nl)
JP (1) JPS582200B2 (nl)
DE (1) DE2445146C3 (nl)
FR (1) FR2285714A1 (nl)
GB (1) GB1519478A (nl)
NL (1) NL168279C (nl)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH629034A5 (de) * 1978-03-31 1982-03-31 Ibm Vorrichtung zum herstellen mehrschichtiger halbleiterelemente mittels fluessigphasen-epitaxie.
DE2842605C2 (de) * 1978-09-29 1983-12-08 Georg Dr. 8521 Langensendelbach Müller Verfahren zum Herstellen von Kristallen hoher Kristallgüte
JPS58188792A (ja) * 1982-04-30 1983-11-04 Sanshin Ind Co Ltd 船外機等のプロペラ組立体
US4597823A (en) * 1983-09-12 1986-07-01 Cook Melvin S Rapid LPE crystal growth
FR2566808B1 (fr) * 1984-06-27 1986-09-19 Mircea Andrei Procede et reacteur de croissance epitaxiale en phase vapeur
DE3674329D1 (de) * 1985-09-24 1990-10-25 Sumitomo Electric Industries Verfahren zur synthese von bornitrid des kubischen systems.
US5326716A (en) * 1986-02-11 1994-07-05 Max Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V. Liquid phase epitaxial process for producing three-dimensional semiconductor structures by liquid phase expitaxy
US4717688A (en) * 1986-04-16 1988-01-05 Siemens Aktiengesellschaft Liquid phase epitaxy method
US6375741B2 (en) * 1991-03-06 2002-04-23 Timothy J. Reardon Semiconductor processing spray coating apparatus
US6716334B1 (en) 1998-06-10 2004-04-06 Novellus Systems, Inc Electroplating process chamber and method with pre-wetting and rinsing capability
US6099702A (en) * 1998-06-10 2000-08-08 Novellus Systems, Inc. Electroplating chamber with rotatable wafer holder and pre-wetting and rinsing capability
DE10241703A1 (de) * 2002-09-09 2004-03-18 Vishay Semiconductor Gmbh Reaktor und Verfahren zur Flüssigphasenepitaxie
US8668422B2 (en) * 2004-08-17 2014-03-11 Mattson Technology, Inc. Low cost high throughput processing platform
US20120027953A1 (en) * 2010-07-28 2012-02-02 Synos Technology, Inc. Rotating Reactor Assembly for Depositing Film on Substrate

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1353571A (en) * 1914-06-27 1920-09-21 Elektrochemische Werke Gmbh Method of and apparatus for forming large crystals
US2459869A (en) * 1946-08-10 1949-01-25 Bell Telephone Labor Inc Crystal growing apparatus
US3335084A (en) * 1964-03-16 1967-08-08 Gen Electric Method for producing homogeneous crystals of mixed semiconductive materials
US3697330A (en) * 1970-03-27 1972-10-10 Sperry Rand Corp Liquid epitaxy method and apparatus
FR2086578A5 (nl) * 1970-04-02 1971-12-31 Labo Electronique Physique
US3713883A (en) * 1970-05-27 1973-01-30 Western Electric Co Method of and apparatus for growing crystals from a solution
US3873463A (en) * 1972-02-23 1975-03-25 Philips Corp Method of and device for manufacturing substituted single crystals
JPS4896461A (nl) * 1972-03-24 1973-12-10
JPS4951180A (nl) * 1972-09-19 1974-05-17
US3913212A (en) * 1972-12-15 1975-10-21 Bell Telephone Labor Inc Near-infrared light emitting diodes and detectors employing CdSnP{HD 2{B :InP heterodiodes

Also Published As

Publication number Publication date
GB1519478A (en) 1978-07-26
DE2445146A1 (de) 1976-04-01
FR2285714A1 (fr) 1976-04-16
DE2445146C3 (de) 1979-03-08
FR2285714B1 (nl) 1978-09-29
JPS582200B2 (ja) 1983-01-14
NL168279B (nl) 1981-10-16
NL168279C (nl) 1982-03-16
US4373988A (en) 1983-02-15
DE2445146B2 (de) 1978-07-13
JPS5157162A (en) 1976-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7500777A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van konstruktiemateriaal.
NL7500385A (nl) Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van glasvezels.
NL7508297A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bedrijven van een etsmachine.
NL7507947A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een samengesteld profiel of dergelijke.
NL7605872A (nl) Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van vacuumbeton.
NL7511096A (nl) Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van epitactische lagen.
NL7508829A (nl) Werkwijze voor de bereiding van aldehyden.
NL7502412A (nl) Werkwijze voor het veresteren van trichloor- silaan.
NL7503421A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van samengestel- de profielen alsmede inrichting voor het uitvoe- ren van die werkwijze.
NL7709274A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van verpakkingen.
NL7506458A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van opwikkelrollen uit platte materiaalbanen.
NL7411368A (nl) Werkwijze en inrichting voor de bereiding van
NL7506616A (nl) Werkwijze en inrichting voor de bereiding van waterstof.
NL7606598A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van koekjes.
NL184850C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van elektroband respektievelijk dynamoband.
NL7512662A (nl) Werkwijze en inrichting voor het produceren van waterstof.
NL7501469A (nl) Werkwijze en inrichting ter vervaardiging van en omhulde produkten.
NL7508684A (nl) Werkwijze en inrichting voor de bereiding van silicium.
NL7510284A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van schroeflijnvormig gewikkelde koppelelementen voor ritssluitingen.
NL7707945A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van verpakkingen.
NL7501210A (nl) Laminaat en werkwijze voor de vervaardiging rkwijze voor de toepassing daarvan.
NL7507762A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van breisels met dwarssteken en op de aldus verkregen breisels.
NL7507580A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van beklede filamenten.
BE829345A (nl) Werkwijze voor de winning van ortho-fenyleenol
NL7414160A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van vlokken.

Legal Events

Date Code Title Description
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent