NL7510828A - Werkwijze voor het ontwikkelen van belichte voor electronenstralen gevoelige resistfilms. - Google Patents

Werkwijze voor het ontwikkelen van belichte voor electronenstralen gevoelige resistfilms.

Info

Publication number
NL7510828A
NL7510828A NL7510828A NL7510828A NL7510828A NL 7510828 A NL7510828 A NL 7510828A NL 7510828 A NL7510828 A NL 7510828A NL 7510828 A NL7510828 A NL 7510828A NL 7510828 A NL7510828 A NL 7510828A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
procedure
resist films
ray sensitive
sensitive resist
developing electronic
Prior art date
Application number
NL7510828A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Rca Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rca Corp filed Critical Rca Corp
Publication of NL7510828A publication Critical patent/NL7510828A/xx

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/143Electron beam

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
NL7510828A 1974-09-16 1975-09-15 Werkwijze voor het ontwikkelen van belichte voor electronenstralen gevoelige resistfilms. NL7510828A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/506,444 US3961101A (en) 1974-09-16 1974-09-16 Process for improved development of electron-beam-sensitive resist films

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7510828A true NL7510828A (nl) 1976-03-18

Family

ID=24014616

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7510828A NL7510828A (nl) 1974-09-16 1975-09-15 Werkwijze voor het ontwikkelen van belichte voor electronenstralen gevoelige resistfilms.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US3961101A (xx)
JP (1) JPS5159634A (xx)
CA (1) CA1035472A (xx)
DE (1) DE2539691A1 (xx)
FR (1) FR2284907A1 (xx)
GB (1) GB1513388A (xx)
NL (1) NL7510828A (xx)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1120763A (en) * 1977-11-23 1982-03-30 James A. Carothers Enhancement of resist development
US4359520A (en) * 1977-11-23 1982-11-16 International Business Machines Corporation Enhancement of resist development
US4415653A (en) * 1981-05-07 1983-11-15 Honeywell Inc. Method of making sensitive positive electron beam resists
US4409319A (en) * 1981-07-15 1983-10-11 International Business Machines Corporation Electron beam exposed positive resist mask process
GB2166254A (en) * 1984-10-08 1986-04-30 British Telecomm Method for the production of a metal patterning mask
US4613561A (en) * 1984-10-17 1986-09-23 James Marvin Lewis Method of high contrast positive O-quinone diazide photoresist developing using pretreatment solution
JPH0721640B2 (ja) * 1984-11-19 1995-03-08 富士通株式会社 レジスト現像方法
JPS61156125A (ja) * 1984-12-28 1986-07-15 Fujitsu Ltd 光ディスク用原盤のプリグルーブパターン形成方法
JPS622254A (ja) * 1985-06-27 1987-01-08 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料の現像方法
US4710449A (en) * 1986-01-29 1987-12-01 Petrarch Systems, Inc. High contrast low metal ion positive photoresist developing method using aqueous base solutions with surfactants
US5783367A (en) * 1989-09-20 1998-07-21 Fujitsu Limited Process for production of semiconductor device and resist developing apparatus used therein
DE69031153T2 (de) * 1989-09-20 1997-12-04 Fujitsu Ltd Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
EP0698825A1 (en) * 1994-07-29 1996-02-28 AT&T Corp. An energy sensitive resist material and a process for device fabrication using the resist material
JPH08235645A (ja) * 1995-02-28 1996-09-13 Pioneer Video Corp 光記録媒体用現像方法及び光記録媒体用現像装置
US7666579B1 (en) * 2001-09-17 2010-02-23 Serenity Technologies, Inc. Method and apparatus for high density storage of analog data in a durable medium
JP2006344310A (ja) * 2005-06-09 2006-12-21 Sony Corp 現像方法および現像装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL280959A (xx) * 1961-07-28
GB1115245A (en) * 1965-06-01 1968-05-29 Agfa Gevaert Nv Method for recording and reproducing information by surface deformation of a polymeric composition
GB1115813A (en) * 1965-06-01 1968-05-29 Agfa Gevaert Nv Method for recording and reproducing information by surface modification of a polymeric composition
US3482973A (en) * 1965-10-01 1969-12-09 Xerox Corp Imaging system
US3707373A (en) * 1969-03-17 1972-12-26 Eastman Kodak Co Lithographic plate developers
US3639185A (en) * 1969-06-30 1972-02-01 Ibm Novel etchant and process for etching thin metal films
US3647443A (en) * 1969-09-12 1972-03-07 Eastman Kodak Co Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions
US3674591A (en) * 1969-11-28 1972-07-04 Stromberg Datagraphix Inc Surface deformation imaging process
US3649393A (en) * 1970-06-12 1972-03-14 Ibm Variable depth etching of film layers using variable exposures of photoresists
US3759711A (en) * 1970-09-16 1973-09-18 Eastman Kodak Co Er compositions and elements nitrogen linked apperding quinone diazide light sensitive vinyl polym
US3770433A (en) * 1972-03-22 1973-11-06 Bell Telephone Labor Inc High sensitivity negative electron resist
US3859099A (en) * 1972-12-22 1975-01-07 Eastman Kodak Co Positive plate incorporating diazoquinone
US3852771A (en) * 1973-02-12 1974-12-03 Rca Corp Electron beam recording process

Also Published As

Publication number Publication date
DE2539691A1 (de) 1976-03-25
GB1513388A (en) 1978-06-07
US3961101A (en) 1976-06-01
CA1035472A (en) 1978-07-25
FR2284907A1 (fr) 1976-04-09
JPS5159634A (en) 1976-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL163161C (nl) Inrichting voor het reproduceren van afbeeldingen.
NL7612028A (nl) Inrichting voor het fotografisch aanbrengen van een masker.
BE829895A (nl) Werkwijze voor het verharden van fotografische lagen
NL7510828A (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van belichte voor electronenstralen gevoelige resistfilms.
NL7706870A (nl) Voor mikrograveren bestemde voor straling ge- voelige film.
NL7609752A (nl) Vervaardiging van voor straling gevoelige positieve beschermingslaag (resist).
NL7510830A (nl) Verbeterde werkwijze voor het ontwikkelen van reservefilms.
NL7605183A (nl) Inrichting voor het ontwikkelen van elektro- statische beelden.
NL7504208A (nl) Middelen voor het installeren en beveiligen van schakelingen.
BE835908A (nl) Tonerpofder voor het ontwikkelen van elektrostatische beelden
NL7506164A (nl) Inrichting voor het ontwikkelen van elektro- fotografisch materiaal.
BE838632A (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van fotografische, zilverhalogenide-materialen
NL7507546A (nl) Ontwikkelinrichting voor fotografische films.
NL7710978A (nl) Inrichting voor het ontwikkelen van electro- fotografische copieermaterialen.
NL7502943A (nl) Fotografische werkwijze, werkwijze voor het bereiden van lichtgevoelige verbindingen en inrichting voor het toepassen ervan.
NL7711280A (nl) Inrichting voor de fotografische registratie van gegevens.
BE827654A (nl) Werkwijze voor het verharden van fotografische lagen
NL7505512A (nl) Lichtgevoelig materiaal voor xerografische beeldplaat.
BE830866A (nl) Werkwijze voor het verharden van fotografische lagen
NL7500786A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van diazotypie- -materiaal.
NL7714416A (nl) Ontwikkelinrichting voor het ontwikkelen van diazokopieermateriaalbladen.
NL7508254A (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van fotografische filmstroken, en inrichting voor toepassing van de werkwijze.
NL7505041A (nl) Werkwijze en inrichting voor het ontwikkelen van een elektrisch beeld.
NL182347C (nl) Inrichting voor het bepalen van de equivalente dosis van neutronen.
NL7501968A (nl) Werkwijze en ontwikkelaar voor het ontwikkelen van lichtgevoelige lagen.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed