NL7508674A - Werkwijze en inrichting voor het gelijktijdig ont- wikkelen en conserveren van drukplaten, benevens een daarvoor geschikte behandelingsvloeistof. - Google Patents

Werkwijze en inrichting voor het gelijktijdig ont- wikkelen en conserveren van drukplaten, benevens een daarvoor geschikte behandelingsvloeistof.

Info

Publication number
NL7508674A
NL7508674A NL7508674A NL7508674A NL7508674A NL 7508674 A NL7508674 A NL 7508674A NL 7508674 A NL7508674 A NL 7508674A NL 7508674 A NL7508674 A NL 7508674A NL 7508674 A NL7508674 A NL 7508674A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
establishment
preservation
printing plates
treating fluid
fluid suitable
Prior art date
Application number
NL7508674A
Other languages
English (en)
Other versions
NL181957B (nl
NL181957C (nl
Original Assignee
Hoechst Co American
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Co American filed Critical Hoechst Co American
Publication of NL7508674A publication Critical patent/NL7508674A/nl
Publication of NL181957B publication Critical patent/NL181957B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL181957C publication Critical patent/NL181957C/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
NL7508674A 1974-07-22 1975-07-21 Werkwijze voor het bereiden van een vloeistof voor het behandelen van een met een fotohardbare laag beklede drukplaat alsmede werkwijze voor het gelijktijdig ontwikkelen en conserveren van een dergelijke drukplaat onder toepassing van een aldus bereide vloeistof. NL181957C (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US49084874A 1974-07-22 1974-07-22
US54518775A 1975-01-29 1975-01-29

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7508674A true NL7508674A (nl) 1976-01-26
NL181957B NL181957B (nl) 1987-07-01
NL181957C NL181957C (nl) 1987-12-01

Family

ID=27050209

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7508674A NL181957C (nl) 1974-07-22 1975-07-21 Werkwijze voor het bereiden van een vloeistof voor het behandelen van een met een fotohardbare laag beklede drukplaat alsmede werkwijze voor het gelijktijdig ontwikkelen en conserveren van een dergelijke drukplaat onder toepassing van een aldus bereide vloeistof.

Country Status (8)

Country Link
JP (1) JPS5136302A (nl)
AU (1) AU500711B2 (nl)
BR (1) BR7504643A (nl)
DE (1) DE2530502C2 (nl)
FR (1) FR2280107A1 (nl)
GB (1) GB1515174A (nl)
IT (1) IT1040993B (nl)
NL (1) NL181957C (nl)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1090189A (en) * 1976-05-03 1980-11-25 American Hoechst Corporation Lithographic plate finisher comprising a solvent phase and an aqueous phase containing tapioca dextrin
DE2809774A1 (de) * 1978-03-07 1979-09-13 Hoechst Ag Verfahren und entwicklerloesung zum entwickeln von belichteten lichtempfindlichen kopierschichten
JPS54136002U (nl) * 1978-03-13 1979-09-20
JPS54136001U (nl) * 1978-03-14 1979-09-20
JPS54169501U (nl) * 1978-05-19 1979-11-30
FR2428863A1 (fr) * 1978-06-15 1980-01-11 Martino Peter Appareil automatique pour traiter des plaques d'imprimerie, notamment pour l'offset
JPS5543526A (en) * 1978-09-22 1980-03-27 Toray Ind Inc Continuous washing-out device for photosensitive resin plate
DE3100259A1 (de) * 1981-01-08 1982-08-05 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren und entwicklergemisch zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten
DE3346979A1 (de) * 1983-12-24 1985-07-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Entwickler fuer positivfotoresists
DE3439597A1 (de) * 1984-10-30 1986-04-30 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers
DE3713329A1 (de) * 1986-04-30 1987-11-05 Basf Ag Verfahren und vorrichtung zum auswaschen von belichteten druckplatten
JP2626992B2 (ja) * 1988-05-10 1997-07-02 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版用現像液組成物及び現像方法
JPH039362A (ja) * 1989-06-07 1991-01-17 Sanyo Kokusaku Pulp Co Ltd 感光フィルム現像機および感光フィルム現像方法
US5316892A (en) * 1992-07-23 1994-05-31 Eastman Kodak Company Method for developing lithographic printing plates
US5279927A (en) * 1992-07-23 1994-01-18 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability
EP0602736B1 (en) * 1992-12-17 1997-11-05 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates which exhibits reduced sludge formation
US5380623A (en) * 1992-12-17 1995-01-10 Eastman Kodak Company Aqueous developer for lithographic printing plates which provides improved oleophilicity
ATE527581T1 (de) * 2005-03-29 2011-10-15 Fujifilm Corp Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
JP2007223216A (ja) 2006-02-24 2007-09-06 Fujifilm Corp 平版印刷版原版の処理方法、検版方法、画像品質管理方法、およびそれらに用いる染色用水溶液
EP2194429A1 (en) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
EP2196851A1 (en) 2008-12-12 2010-06-16 Eastman Kodak Company Negative working lithographic printing plate precursors comprising a reactive binder containing aliphatic bi- or polycyclic moieties
EP2293144B1 (en) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing
CN110023840A (zh) 2016-12-01 2019-07-16 爱克发有限公司 制造含有重氮化合物的平版印刷版前体的方法
CN108345188A (zh) * 2017-12-29 2018-07-31 江苏乐彩印刷材料有限公司 一种ctp版材显影液

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL76414C (nl) * 1949-07-23
US3019105A (en) * 1957-02-28 1962-01-30 Harris Intertype Corp Treatment of diazo-sensitized lithographic plates
US3019106A (en) * 1959-06-30 1962-01-30 Algraphy Ltd Processing of pre-sensitised lithographic printing plates
US3091533A (en) * 1958-05-22 1963-05-28 Developer composition for a light
GB921529A (en) * 1958-07-04 1963-03-20 Algraphy Ltd Improvements in or relating to the processing of pre-sensitised lithographic printing plates
GB1102952A (en) * 1963-09-05 1968-02-14 Howson Ltd W H Processing of presensitized photolithographic printing plates
GB1188527A (en) * 1966-05-31 1970-04-15 Algraphy Ltd Development of Light-Sensitive Layers
GB1253026A (nl) * 1967-09-08 1971-11-10
JPS5023324B1 (nl) * 1971-04-05 1975-08-07
US3906536A (en) * 1971-07-27 1975-09-16 Robert C Graham Apparatus for processing printing plates precoated on both sides
JPS5032643B2 (nl) * 1971-10-04 1975-10-23
US3771428A (en) * 1971-10-21 1973-11-13 Azoplate Corp Apparatus for processing two sides of a printing plate
BE793607A (fr) * 1972-01-05 1973-07-02 Hoechst Co American Appareil pour le traitement des deux faces d'une plaque d'impression
JPS5343285B2 (nl) * 1972-07-26 1978-11-18
DE2238414C3 (de) * 1972-08-04 1982-01-07 Polychrome Corp., 10702 Yonkers, N.Y. Gerät zur Entwicklung von Offset-Druckplatten
JPS4937704A (nl) * 1972-08-10 1974-04-08
JPS4879006A (nl) * 1973-01-04 1973-10-23

Also Published As

Publication number Publication date
DE2530502C2 (de) 1985-07-18
FR2280107A1 (fr) 1976-02-20
NL181957B (nl) 1987-07-01
BR7504643A (pt) 1976-07-06
FR2280107B1 (nl) 1977-12-16
JPS5136302A (en) 1976-03-27
IT1040993B (it) 1979-12-20
DE2530502A1 (de) 1976-02-05
NL181957C (nl) 1987-12-01
AU8328175A (en) 1977-01-27
AU500711B2 (en) 1979-05-31
GB1515174A (en) 1978-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7508674A (nl) Werkwijze en inrichting voor het gelijktijdig ont- wikkelen en conserveren van drukplaten, benevens een daarvoor geschikte behandelingsvloeistof.
NL161998C (nl) Werkwijze en inrichting voor het aanbrengen van een dichtings-, pakking- of beschermingsmateri- aal op houderdelen.
NL176344C (nl) Werkwijze en inrichting voor het bedrukken van voorwerpen.
NL175702C (nl) Werkwijze en inrichting voor het besturen van het drukverloop van een beademingsinrichting.
NL188354C (nl) Werkwijze voor de bereiding van een substraat voor de kwantitatieve bepaling van plasmakallikreine en werkwijze voor het kwantitatief bepalen van plasmakallikreine.
NL7704735A (nl) Behandelingsvloeistof voor vlakdrukplaten.
NL7605927A (nl) Inrichting en werkwijze voor het behandelen van een oppervlak.
NL7512085A (nl) Werkwijze voor het uitvoeren van een kiemproces en daarvoor geschikte inrichting.
NL169434B (nl) Werkwijze voor het afwerken van een wals.
NL163732C (nl) Werkwijze en inrichting voor het uitvoeren van een soldeerbewerking.
NL171817B (nl) Werkwijze voor het bereiden van homogene vloeibare mengsels, alsmede werkwijze voor het behandelen van oppervlakken onder toepassing van deze mengsels.
NL174325C (nl) Radiologisch toestel, en werkwijze voor het bedrijven daarvan.
NL185895C (nl) Werkwijze en inrichting voor het ontgassen van een vloeistof.
NL168043C (nl) Werkwijze voor het bereiden van superfluide helium, en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL7712291A (nl) Gealkyleerde hydroxylaminen, werkwijze voor het bereiden ervan en werkwijze voor het bereiden van een geneesmiddel voor het behandelen van hypertonie.
NL7606206A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een trilin- richting, alsmede een trilinrichting.
NL7410115A (nl) Werkwijze en inrichting voor het beluchten van een vloeistof.
NL162753C (nl) Werkwijze voor het opbrengen van een bekledingslaag op een draagband, alsmede inrichting voor het toepassen van deze werkwijze.
NL7415037A (nl) Werkwijze en middel voor het aktiveren van cholesterineoxydase.
NL7412144A (nl) Werkwijze en inrichting voor het aanbrengen van vloeistof op een onderlaag, bijvoorbeeld in een drukproces.
NL168731C (nl) Werkwijze voor het reconditioneren van een vat.
NL7506609A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een middel tegen hypercholesterolemie.
NL7514317A (nl) Werkwijze voor het afwerken van onder-waterputten, en samenstel voor het uitvoeren daarvan.
NL7503921A (nl) Werkwijze voor het bepalen van acute giftigheid in een waterige vloeistof, alsmede inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL7410538A (nl) Werkwijze en inrichting voor het filtreren van een vloeistof.

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
SNR Assignments of patents or rights arising from examined patent applications

Owner name: HOECHST CELANESE CORPORATION

BK Erratum

Free format text: IN PAT.BUL.23/87,PAGES 2892 AND 2894:CORR.:HOECHST CELANESE CORPORATION TE SOMERVILLE CORRECTION TOPAMPHLET

V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee