NL7409158A - Inrichting voor de vervaardiging van epitakti- sche lagen op substraten van verbindingshalf- geleidermateriaal. - Google Patents

Inrichting voor de vervaardiging van epitakti- sche lagen op substraten van verbindingshalf- geleidermateriaal.

Info

Publication number
NL7409158A
NL7409158A NL7409158A NL7409158A NL7409158A NL 7409158 A NL7409158 A NL 7409158A NL 7409158 A NL7409158 A NL 7409158A NL 7409158 A NL7409158 A NL 7409158A NL 7409158 A NL7409158 A NL 7409158A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
epitaktic
substrates
layers
manufacture
equipment
Prior art date
Application number
NL7409158A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of NL7409158A publication Critical patent/NL7409158A/xx

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B19/00—Liquid-phase epitaxial-layer growth
    • C30B19/06—Reaction chambers; Boats for supporting the melt; Substrate holders
    • C30B19/061—Tipping system, e.g. by rotation
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10S117/90—Apparatus characterized by composition or treatment thereof, e.g. surface finish, surface coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
NL7409158A 1973-07-05 1974-07-05 Inrichting voor de vervaardiging van epitakti- sche lagen op substraten van verbindingshalf- geleidermateriaal. NL7409158A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2334306A DE2334306B2 (de) 1973-07-05 1973-07-05 Vorrichtung zur Herstellung von epitaktischen Schichten auf Substraten aus Verbindungshalbleiter-Material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7409158A true NL7409158A (nl) 1975-01-07

Family

ID=5886064

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7409158A NL7409158A (nl) 1973-07-05 1974-07-05 Inrichting voor de vervaardiging van epitakti- sche lagen op substraten van verbindingshalf- geleidermateriaal.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US3889635A (enrdf_load_stackoverflow)
JP (1) JPS5738559B2 (enrdf_load_stackoverflow)
DE (1) DE2334306B2 (enrdf_load_stackoverflow)
FR (1) FR2236270B1 (enrdf_load_stackoverflow)
GB (1) GB1433568A (enrdf_load_stackoverflow)
NL (1) NL7409158A (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2847091C3 (de) * 1978-10-28 1982-03-25 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Ga↓1↓-↓x↓Al↓x↓ AS:Si-Epitaxieschichten
US4597823A (en) * 1983-09-12 1986-07-01 Cook Melvin S Rapid LPE crystal growth
US4594128A (en) * 1984-03-16 1986-06-10 Cook Melvin S Liquid phase epitaxy

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3522792A (en) * 1967-11-14 1970-08-04 Us Agriculture Device for applying a coating of varying thickness
DE1922528B2 (de) * 1969-05-02 1971-09-30 Streichgeraet zum herstellen von duennschichtchromato graphieplatten
US3791344A (en) * 1969-09-11 1974-02-12 Licentia Gmbh Apparatus for liquid phase epitaxy
US3664294A (en) * 1970-01-29 1972-05-23 Fairchild Camera Instr Co Push-pull structure for solution epitaxial growth of iii{14 v compounds
US3692592A (en) * 1970-02-12 1972-09-19 Rca Corp Method and apparatus for depositing epitaxial semiconductive layers from the liquid phase
US3697330A (en) * 1970-03-27 1972-10-10 Sperry Rand Corp Liquid epitaxy method and apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
DE2334306A1 (de) 1975-01-30
JPS5039468A (enrdf_load_stackoverflow) 1975-04-11
US3889635A (en) 1975-06-17
FR2236270B1 (enrdf_load_stackoverflow) 1978-10-13
DE2334306C3 (enrdf_load_stackoverflow) 1979-04-05
GB1433568A (enrdf_load_stackoverflow) 1976-04-28
DE2334306B2 (de) 1978-08-03
FR2236270A1 (enrdf_load_stackoverflow) 1975-01-31
JPS5738559B2 (enrdf_load_stackoverflow) 1982-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE7504898L (sv) Forfarande for framstellning av kornformiga slipmedel.
NL169190C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een bekledingslaag uit een statistisch etheen-maleinezuuranhydride-copolymeer op het oppervlak van een materiaal.
NL7415450A (nl) Inrichting voor het opbrengen van dunne lagen.
NO144223C (no) Fremgangsmaate til fremstilling av strekkbart papir
NL7412700A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van materialen epoolde oppervlakken.
NL7411380A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een polyetheentereftalaatfilm.
NL7317830A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleider- htingen met plaatselijke oxydatie van het soppervlak.
NL7609132A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van uit een aantal lagen bestaande magnetogram-dragers.
NL7512167A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van gepreplasti- ceerde materialen alsmede inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL7607074A (nl) Werkwijze ter vervaardiging van sluiervrije halfgeleideroppervlakken.
NL146858B (nl) Werkwijze voor de continue bereiding van thermohardende prepolymeren.
NL7610851A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van geinte- greerde schakelingen.
NO741058L (no) Innretning til gjennomførelse av booleske sammenknytninger.
NL7509213A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van laagstruc- turen.
NL153161B (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van vormvaste bouwelementen.
IT963413B (it) Procedimento di fotoincisione particolarmente per la fabbrica zione di circuiti integrati
NL7604652A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van halfgelei- ders.
NL7409978A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van mikrobolletjes.
NL7604411A (nl) Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van platen uit laagpersstoffen.
NO136167C (no) Anordning for fremstilling av masker for mikrokretser.
NL159086B (nl) Werkwijze voor het anti-statisch maken van materiaal.
NL7409158A (nl) Inrichting voor de vervaardiging van epitakti- sche lagen op substraten van verbindingshalf- geleidermateriaal.
NL7611354A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van compound- -foelies.
NL7411561A (nl) Substraat voor de bepaling van desoxyribonu- clease.
NL7410215A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde schakeling.