NL181604C - Werkwijze voor het vervaardigen van oplosbare hittebestendige laagstructuren en bouwdelen en schakelingen in de elektrotechniek onder toepassing van deze werkwijze verkregen. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van oplosbare hittebestendige laagstructuren en bouwdelen en schakelingen in de elektrotechniek onder toepassing van deze werkwijze verkregen.

Info

Publication number
NL181604C
NL181604C NLAANVRAGE7509213,A NL7509213A NL181604C NL 181604 C NL181604 C NL 181604C NL 7509213 A NL7509213 A NL 7509213A NL 181604 C NL181604 C NL 181604C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
application
resistant layer
layer structures
building components
soluble heat
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7509213,A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL7509213A (nl
NL181604B (nl
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE19742437368 external-priority patent/DE2437368C3/de
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of NL7509213A publication Critical patent/NL7509213A/xx
Publication of NL181604B publication Critical patent/NL181604B/xx
Application granted granted Critical
Publication of NL181604C publication Critical patent/NL181604C/xx

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/12—Unsaturated polyimide precursors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
NLAANVRAGE7509213,A 1974-08-02 1975-08-01 Werkwijze voor het vervaardigen van oplosbare hittebestendige laagstructuren en bouwdelen en schakelingen in de elektrotechniek onder toepassing van deze werkwijze verkregen. NL181604C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19742437368 DE2437368C3 (de) 1974-08-02 Verfahren zur Herstellung von löslichen, hochwärmebeständigen Reliefstrukturen

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7509213A NL7509213A (nl) 1976-02-04
NL181604B NL181604B (nl) 1987-04-16
NL181604C true NL181604C (nl) 1987-09-16

Family

ID=5922325

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7509213,A NL181604C (nl) 1974-08-02 1975-08-01 Werkwijze voor het vervaardigen van oplosbare hittebestendige laagstructuren en bouwdelen en schakelingen in de elektrotechniek onder toepassing van deze werkwijze verkregen.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4045223A (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP (1) JPS5444453B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
AT (1) AT341792B (cg-RX-API-DMAC7.html)
BE (1) BE831680A (cg-RX-API-DMAC7.html)
FR (1) FR2280926A1 (cg-RX-API-DMAC7.html)
GB (1) GB1512971A (cg-RX-API-DMAC7.html)
IT (1) IT1040122B (cg-RX-API-DMAC7.html)
NL (1) NL181604C (cg-RX-API-DMAC7.html)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5545748A (en) * 1978-09-29 1980-03-31 Hitachi Ltd Photosensitive polymer and its production
JPS5545747A (en) * 1978-09-29 1980-03-31 Hitachi Ltd Photosensitive polymer and its production
DE2933826A1 (de) * 1979-08-21 1981-03-19 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Polyimid-, polyisoindolochinazolindion-, polyoxazindion- und polychinazolindion-vorstufen sowie deren herstellung
US4532332A (en) * 1981-08-17 1985-07-30 Ciba-Geigy Corporation N-(hydroxypolyoxaalkylene)phthalimides and succinimides and acrylate esters thereof
DE3233912A1 (de) * 1982-09-13 1984-03-15 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Fotolacke zur ausbildung von reliefstrukturen aus hochwaermebestaendigen polymeren
DE3246403A1 (de) * 1982-12-15 1984-06-20 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verfahren zur entwicklung von reliefstrukturen auf der basis von strahlungsvernetzten polymervorstufen hochwaermebestaendiger polymere
DE3411660A1 (de) * 1984-03-29 1985-10-03 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstellung von polyimid- und polyisoindolochinazolindion-vorstufen
US5077378A (en) * 1986-10-02 1991-12-31 Hoechst Celanese Corporation Polyamide containing the hexafluoroisopropylidene group
GB8628003D0 (en) * 1986-11-22 1986-12-31 Ciba Geigy Ag Polymerisable compounds
DE3717933A1 (de) * 1987-05-27 1988-12-08 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von hochwaermebestaendigen reliefstrukturen
DE4217688A1 (de) * 1992-05-29 1993-12-02 Basf Lacke & Farben Durch Einwirkung von Strahlung vernetzendes Gemisch und dessen Verwendung zur Herstellung hochtemperaturbeständiger Reliefstrukturen
US8052800B2 (en) * 2008-12-04 2011-11-08 General Electric Company Method for the removal of an insulative coating using an aqueous solution comprising dimethyl formamide

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3475176A (en) * 1966-09-06 1969-10-28 Eastman Kodak Co Azide sensitized photosensitive prepolymer compositions
US3650746A (en) * 1969-06-16 1972-03-21 Grace W R & Co Dual image formation on separate supports of photocurable composition
US3858510A (en) * 1971-03-11 1975-01-07 Asahi Chemical Ind Relief structures prepared from photosensitive compositions
US3801638A (en) * 1971-03-12 1974-04-02 Gaf Corp Triacrylyldiethylenetriamine,method of producing the same,and photopolymerization process and system utilizing the same
BE793732A (fr) * 1972-01-10 1973-05-02 Grace W R & Co Composition contenant un polyene et un polythiol
NL177718C (nl) * 1973-02-22 1985-11-01 Siemens Ag Werkwijze ter vervaardiging van reliefstructuren uit warmte-bestendige polymeren.
US3847767A (en) * 1973-03-13 1974-11-12 Grace W R & Co Method of producing a screen printable photocurable solder resist

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5444453B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) 1979-12-26
FR2280926A1 (fr) 1976-02-27
IT1040122B (it) 1979-12-20
AT341792B (de) 1978-02-27
US4045223A (en) 1977-08-30
NL7509213A (nl) 1976-02-04
GB1512971A (en) 1978-06-01
ATA450575A (de) 1977-06-15
FR2280926B1 (cg-RX-API-DMAC7.html) 1977-12-16
BE831680A (fr) 1975-11-17
NL181604B (nl) 1987-04-16
DE2437368B2 (de) 1977-04-07
JPS5140920A (cg-RX-API-DMAC7.html) 1976-04-06
DE2437368A1 (de) 1976-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7607664A (nl) Mat en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
BE829895A (nl) Werkwijze voor het verharden van fotografische lagen
NL7510336A (nl) Halfgeleiderinrichting en werkwijze voor het ver- vaardigen daarvan.
NL180810C (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van samengestelde profielen.
NL7701452A (nl) Werkwijze voor het bouwen van schachten en volgens deze werkwijze gebouwde schachten.
NL7501719A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een thermo- elektrische module en module verkregen onder toepassing van deze werkwijze.
NL181604C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van oplosbare hittebestendige laagstructuren en bouwdelen en schakelingen in de elektrotechniek onder toepassing van deze werkwijze verkregen.
NL7514547A (nl) Werkwijze voor het verenigen van elementen in de warmte.
NL7503421A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van samengestel- de profielen alsmede inrichting voor het uitvoe- ren van die werkwijze.
NL7606083A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van strenggietprofielen.
NL7510411A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van poreuze gips- lichamen.
NL7415482A (nl) Werkwijze en inrichting voor het branden van calciumsulfietdihydraat.
NL169264C (nl) Werkwijze voor het bereiden van snacks en aldus bereide snacks.
NL185044C (nl) Halfgeleider-component en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
BE827654A (nl) Werkwijze voor het verharden van fotografische lagen
NL7411251A (nl) Werkwijze voor het zichtbaar maken van fouten in oppervlakken en inrichting voor het toepas- sen van deze werkwijze.
NL7514723A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van gedrukte schakelingen en een onder toepassing van deze werkwijze vervaardigde gedrukte schakeling.
NL7711014A (nl) Verbeterde hydraulische cementmengsels en werk- wijze voor het verbeteren van hydraulische ce- mentmengsels.
NL164070C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van polylaurinelactam- vormlichamen.
NL7701084A (nl) Werkwijze voor het bereiden en toepassen van hydraulische mortel.
BE846015A (nl) Werkwijze en inrichting voor heut vervaardigen van gelaagde lichamen, in het bijzonder van uit lagen bestaande schoenzolen
BE858242A (nl) Closetsok alsmede werkwijze voor het vervaardigen van deze closetsok
NL7700511A (nl) Werkwijze voor het verwezenlijken van brand- vrijgemaakte betonelementen, elementen en constructies die deze elementen toepassen.
NL7507394A (nl) Geintegreerde keteninrichting en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL177863C (nl) Inrichting voor het vervaardigen van perslichamen voor elektrische contacten met laagsgewijs verschillende samenstelling en werkwijze voor het vervaardigen van dergelijke lichamen onder gebruikmaking van de inrichting.

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee