NL173111C - Werkwijze voor het onderzoeken van een verzameling identieke samengestelde patronen op een gemeenschappelijke drager. - Google Patents

Werkwijze voor het onderzoeken van een verzameling identieke samengestelde patronen op een gemeenschappelijke drager.

Info

Publication number
NL173111C
NL173111C NLAANVRAGE7604735,A NL7604735A NL173111C NL 173111 C NL173111 C NL 173111C NL 7604735 A NL7604735 A NL 7604735A NL 173111 C NL173111 C NL 173111C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
identic
examining
collection
common carrier
composite patterns
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7604735,A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL173111B (nl
NL7604735A (nl
Original Assignee
Western Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Western Electric Co filed Critical Western Electric Co
Publication of NL7604735A publication Critical patent/NL7604735A/xx
Publication of NL173111B publication Critical patent/NL173111B/xx
Application granted granted Critical
Publication of NL173111C publication Critical patent/NL173111C/xx

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84—Inspecting
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
NLAANVRAGE7604735,A 1975-05-05 1976-05-04 Werkwijze voor het onderzoeken van een verzameling identieke samengestelde patronen op een gemeenschappelijke drager. NL173111C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/574,617 US3963354A (en) 1975-05-05 1975-05-05 Inspection of masks and wafers by image dissection

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7604735A NL7604735A (nl) 1976-11-09
NL173111B NL173111B (nl) 1983-07-01
NL173111C true NL173111C (nl) 1983-12-01

Family

ID=24296889

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7604735,A NL173111C (nl) 1975-05-05 1976-05-04 Werkwijze voor het onderzoeken van een verzameling identieke samengestelde patronen op een gemeenschappelijke drager.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US3963354A (xx)
JP (1) JPS51137379A (xx)
CA (1) CA1045252A (xx)
DE (1) DE2619873C3 (xx)
FR (1) FR2310596A1 (xx)
GB (1) GB1532901A (xx)
NL (1) NL173111C (xx)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2638138C3 (de) * 1976-08-25 1979-05-03 Kloeckner-Werke Ag, 4100 Duisburg Vorrichtung zum Erkennen und Aussortieren fehlerhafter Packungen, die längs einer Förderstrecke transportiert werden
JPS5371563A (en) * 1976-12-08 1978-06-26 Hitachi Ltd Automatic inspection correcting method for mask
US4134066A (en) * 1977-03-24 1979-01-09 International Business Machines Corporation Wafer indexing system using a grid pattern and coding and orientation marks in each grid cell
US4349880A (en) * 1979-03-19 1982-09-14 Rca Corporation Inspection system for detecting defects in regular patterns
US4292672A (en) * 1979-03-19 1981-09-29 Rca Corporation Inspection system for detecting defects in regular patterns
JPS5867093A (ja) * 1981-10-19 1983-04-21 株式会社東芝 印刷回路基板検査方法及びその装置
WO1984001212A1 (en) * 1982-09-20 1984-03-29 Contrex Inc Automatic semiconductor surface inspection apparatus and method
US4512659A (en) * 1983-08-10 1985-04-23 Tencor Instruments Apparatus for calibrating a surface scanner
JPS6076606A (ja) * 1983-10-03 1985-05-01 Nippon Kogaku Kk <Nikon> マスクの欠陥検査方法
JPH061370B2 (ja) * 1983-11-24 1994-01-05 株式会社東芝 マスク欠陥検査装置
US4710440A (en) * 1986-07-14 1987-12-01 Rca Corporation Test mask for determining alignment of an automatic IC mask testing apparatus
AT392857B (de) * 1987-07-13 1991-06-25 Ims Ionen Mikrofab Syst Vorrichtung und verfahren zur inspektion einer maske
US5131755A (en) * 1988-02-19 1992-07-21 Chadwick Curt H Automatic high speed optical inspection system
DE8808293U1 (de) * 1988-06-28 1989-07-27 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Optik zur dreidimensionalen Formerfassung von Prüfobjekten mit strukturierter Beleuchtung mit lichtablenkenden Rastern
US5085517A (en) * 1989-10-31 1992-02-04 Chadwick Curt H Automatic high speed optical inspection system
US5093580A (en) * 1990-03-02 1992-03-03 Spectra-Tech, Inc. ATR objective and method for sample analyzation using an ATR crystal
US5051602A (en) * 1990-03-02 1991-09-24 Spectra-Tech, Inc. Optical system and method for sample analyzation
US5019715A (en) * 1990-03-02 1991-05-28 Spectra-Tech, Inc. Optical system and method for sample analyzation
IL99823A0 (en) * 1990-11-16 1992-08-18 Orbot Instr Ltd Optical inspection method and apparatus
US5200609A (en) * 1991-08-27 1993-04-06 Sting Donald W Radiant energy spectroscopy system with diamond internal reflection element
US5214486A (en) * 1991-12-12 1993-05-25 Hoya Micro Mask, Inc. Monitor plate for automatic particle detection system
US5383018A (en) * 1992-12-28 1995-01-17 National Semiconductor Corporation Apparatus and method for calibration of patterned wafer scanners
JP3566470B2 (ja) * 1996-09-17 2004-09-15 株式会社日立製作所 パターン検査方法及びその装置
DE19713362A1 (de) * 1997-03-29 1998-10-01 Zeiss Carl Jena Gmbh Konfokale mikroskopische Anordnung
JP3152203B2 (ja) * 1998-05-27 2001-04-03 株式会社東京精密 外観検査装置
US6324298B1 (en) 1998-07-15 2001-11-27 August Technology Corp. Automated wafer defect inspection system and a process of performing such inspection
US6639201B2 (en) * 2001-11-07 2003-10-28 Applied Materials, Inc. Spot grid array imaging system
WO2003040829A2 (en) * 2001-11-07 2003-05-15 Applied Materials, Inc. Maskless printer using photoelectric conversion of a light beam array
US6946655B2 (en) 2001-11-07 2005-09-20 Applied Materials, Inc. Spot grid array electron imaging system
US6828542B2 (en) * 2002-06-07 2004-12-07 Brion Technologies, Inc. System and method for lithography process monitoring and control
US7629993B2 (en) * 2002-09-30 2009-12-08 Rudolph Technologies, Inc. Automated wafer defect inspection system using backside illumination
US7026832B2 (en) * 2002-10-28 2006-04-11 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Probe mark reading device and probe mark reading method
JP4181159B2 (ja) * 2005-09-29 2008-11-12 株式会社東芝 欠陥検査装置
DE102005061834B4 (de) * 2005-12-23 2007-11-08 Ioss Intelligente Optische Sensoren & Systeme Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum optischen Prüfen einer Oberfläche
DE102008048660B4 (de) * 2008-09-22 2015-06-18 Carl Zeiss Sms Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Vermessung von Strukturen auf Photolithographiemasken
CN103219256A (zh) * 2012-01-20 2013-07-24 艾特麦司股份有限公司 发光二极体磊晶片的对应磊晶载盘位置量测分布图像的呈现方法
JP6353913B2 (ja) * 2014-04-24 2018-07-04 エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． コンパクトな両側レチクル検査システム

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3434020A (en) * 1966-12-30 1969-03-18 Texas Instruments Inc Ohmic contacts consisting of a first level of molybdenum-gold mixture of gold and vanadium and a second level of molybdenum-gold
US3581375A (en) * 1969-03-07 1971-06-01 Ibm Method and apparatus for manufacturing integrated circuits
DE2256617C3 (de) * 1971-11-19 1978-08-31 Hitachi, Ltd., Tokio Einrichtung zur Analyse einer Vorlage
US3814845A (en) * 1973-03-01 1974-06-04 Bell Telephone Labor Inc Object positioning

Also Published As

Publication number Publication date
DE2619873A1 (de) 1976-11-18
NL173111B (nl) 1983-07-01
GB1532901A (en) 1978-11-22
FR2310596B1 (xx) 1978-08-25
NL7604735A (nl) 1976-11-09
JPS5324783B2 (xx) 1978-07-22
US3963354A (en) 1976-06-15
DE2619873C3 (de) 1982-01-21
CA1045252A (en) 1978-12-26
DE2619873B2 (de) 1980-03-20
JPS51137379A (en) 1976-11-27
FR2310596A1 (fr) 1976-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL173111C (nl) Werkwijze voor het onderzoeken van een verzameling identieke samengestelde patronen op een gemeenschappelijke drager.
NL7709273A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een nieuwe far- maceutische drager.
NL185131B (nl) Werkwijze voor de bereiding van een bloedsurrogaat.
NL180387C (nl) Werkwijze voor het uitvoeren van endotherme processen.
NL7507484A (nl) Werkwijze voor het omzetten van koolwaterstoffen.
NL162210C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een verdunningsmiddel voor bloedmonsters.
NL7510465A (nl) Werkwijze voor het omzetten van koolwaterstoffen.
NL7613472A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een brij.
NL177222B (nl) Werkwijze voor de bereiding van een thermoplastisch elastomeer.
NL7504620A (nl) Werkwijze voor het fluoreren van een katalysa- tor.
NL7801595A (nl) Werkwijze voor het bedrijven van een adsorptie- filter.
NL7601586A (nl) Werkwijze voor het behandelen van een put.
NL7600026A (nl) Werkwijze voor het omzetten van een koolwater- stof.
NL7611928A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfge- leiderinrichting.
NL7601671A (nl) Werkwijze voor het omzetten van een koolwater- stof.
NL7512090A (nl) Werkwijze voor het omzetten van koolwaterstof- fen.
NL7710037A (nl) Werkwijze voor de regenerering van een katalysa- tor.
NL7600020A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een samenge- steld koolstofvoortbrengsel.
NL7500820A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een versnapering.
NL7609490A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een laminaat.
NL169142C (nl) Werkwijze voor het scheiden van isotopen.
NL7600395A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een vijl.
NL7609058A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een penteen- derivaat.
NL7600245A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een radionuclide- drager.
NL167595C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een jodoforoplossing.

Legal Events

Date Code Title Description
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent

Free format text: 960504