NL172274C - Werkwijze voor het bereiden van een lichtgevoelige kopieermassa, lichtgevoelig kopieermateriaal dat is voorzien van een laag gevormd uit een aldus bereide kopieermassa, alsmede werkwijze voor het vervaardigen van een kopie onder toepassing van een dergelijk lichtgevoelig kopieermateriaal. - Google Patents
Werkwijze voor het bereiden van een lichtgevoelige kopieermassa, lichtgevoelig kopieermateriaal dat is voorzien van een laag gevormd uit een aldus bereide kopieermassa, alsmede werkwijze voor het vervaardigen van een kopie onder toepassing van een dergelijk lichtgevoelig kopieermateriaal.Info
- Publication number
- NL172274C NL172274C NLAANVRAGE7212548,A NL7212548A NL172274C NL 172274 C NL172274 C NL 172274C NL 7212548 A NL7212548 A NL 7212548A NL 172274 C NL172274 C NL 172274C
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- copying
- photosensitive
- copy
- preparing
- producing
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2147947A DE2147947C2 (de) | 1971-09-25 | 1971-09-25 | Lichtempfindliches Gemisch |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7212548A NL7212548A (ja) | 1973-03-27 |
NL172274B NL172274B (nl) | 1983-03-01 |
NL172274C true NL172274C (nl) | 1983-08-01 |
Family
ID=5820560
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NLAANVRAGE7212548,A NL172274C (nl) | 1971-09-25 | 1972-09-15 | Werkwijze voor het bereiden van een lichtgevoelige kopieermassa, lichtgevoelig kopieermateriaal dat is voorzien van een laag gevormd uit een aldus bereide kopieermassa, alsmede werkwijze voor het vervaardigen van een kopie onder toepassing van een dergelijk lichtgevoelig kopieermateriaal. |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3890152A (ja) |
JP (1) | JPS5513016B2 (ja) |
AT (1) | AT331826B (ja) |
BE (1) | BE789196A (ja) |
CA (1) | CA979270A (ja) |
DE (1) | DE2147947C2 (ja) |
FR (1) | FR2153468B1 (ja) |
GB (1) | GB1396530A (ja) |
IT (1) | IT969442B (ja) |
NL (1) | NL172274C (ja) |
SE (1) | SE381752B (ja) |
Families Citing this family (53)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4196003A (en) * | 1974-02-01 | 1980-04-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive o-quinone diazide copying composition |
DE2447225C2 (de) * | 1974-10-03 | 1983-12-22 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zum Ablösen von positiven Photolack |
US4391894A (en) * | 1974-11-06 | 1983-07-05 | Polychrome Corporation | Colored photosensitive composition |
US4032344A (en) * | 1975-01-16 | 1977-06-28 | Eastman Kodak Company | Polysulfonamide vesicular binders and processes of forming vesicular images |
US4189320A (en) * | 1975-04-29 | 1980-02-19 | American Hoechst Corporation | Light-sensitive o-quinone diazide compositions and photographic reproduction processes and structures |
DE2529054C2 (de) * | 1975-06-30 | 1982-04-29 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes |
US4486529A (en) * | 1976-06-10 | 1984-12-04 | American Hoechst Corporation | Dialo printing plate made from laser |
DE2641099A1 (de) * | 1976-09-13 | 1978-03-16 | Hoechst Ag | Lichtempfindliche kopierschicht |
GB1588417A (en) * | 1977-03-15 | 1981-04-23 | Agfa Gevaert | Photoresist materials |
GB1604652A (en) * | 1977-04-12 | 1981-12-16 | Vickers Ltd | Radiation sensitive materials |
CA1119447A (en) * | 1978-09-06 | 1982-03-09 | John P. Vikesland | Positive-acting photoresist composition containing a crosslinked urethane resin, a cured epoxy resin and a photosensitizer |
US4247616A (en) * | 1979-07-27 | 1981-01-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Positive-acting photoresist composition |
US4508813A (en) * | 1980-06-16 | 1985-04-02 | Fujitsu Limited | Method for producing negative resist images |
US4326020A (en) * | 1980-09-10 | 1982-04-20 | Polychrome Corporation | Method of making positive acting diazo lithographic printing plate |
US4377633A (en) * | 1981-08-24 | 1983-03-22 | International Business Machines Corporation | Methods of simultaneous contact and metal lithography patterning |
DE3337315A1 (de) * | 1982-10-13 | 1984-04-19 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Kawasaki, Kanagawa | Zweifach-lichtempfindliche zusammensetzungen und verfahren zur erzeugung bildmustergemaesser photoresistschichten |
JPS5979248A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性組成物 |
DE3323343A1 (de) * | 1983-06-29 | 1985-01-10 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes kopiermaterial |
US4511640A (en) * | 1983-08-25 | 1985-04-16 | American Hoechst Corporation | Aqueous developable diazo lithographic printing plates with admixture of polyvinyl acetate and styrene maleic acid ester copolymer |
FR2558274A1 (fr) * | 1984-01-17 | 1985-07-19 | Chemistry Technology Sa | Procede de production d'images positives sur un support a partir d'un cliche transparent positif utilisant une surface sensible diazoique |
JPS60186837A (ja) * | 1984-03-07 | 1985-09-24 | Somar Corp | 感光性組成物 |
EP0155231B2 (de) * | 1984-03-07 | 1997-01-15 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von Abbildungen |
DE3417645A1 (de) * | 1984-05-12 | 1985-11-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer die herstellung von flachdruckplatten |
EP0184725B1 (de) * | 1984-12-06 | 1989-01-04 | Hoechst Celanese Corporation | Lichtempfindliches Gemisch |
DE3445276A1 (de) * | 1984-12-12 | 1986-06-19 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform |
US4618562A (en) * | 1984-12-27 | 1986-10-21 | American Hoechst Corporation | Aqueous developable lithographic printing plates containing an admixture of diazonium salts and polymers and composition therefor |
DE3504658A1 (de) * | 1985-02-12 | 1986-08-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch und damit hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
JPS6238471A (ja) * | 1985-08-14 | 1987-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の製造方法 |
JPS63181234A (ja) * | 1987-01-22 | 1988-07-26 | Toshiba Corp | カラ−受像管蛍光面の形成方法 |
US5035976A (en) * | 1986-05-02 | 1991-07-30 | Hoechst Celanese Corporation | Photosensitive article having phenolic photosensitizers containing quinone diazide and acid halide substituents |
US4732836A (en) * | 1986-05-02 | 1988-03-22 | Hoechst Celanese Corporation | Novel mixed ester O-quinone photosensitizers |
US4732837A (en) * | 1986-05-02 | 1988-03-22 | Hoechst Celanese Corporation | Novel mixed ester O-quinone photosensitizers |
US5162510A (en) * | 1986-05-02 | 1992-11-10 | Hoechst Celanese Corporation | Process for the preparation of photosensitive compositions containing a mixed ester o-quinone photosensitizer |
US4902785A (en) * | 1986-05-02 | 1990-02-20 | Hoechst Celanese Corporation | Phenolic photosensitizers containing quinone diazide and acidic halide substituents |
US4877711A (en) * | 1986-05-19 | 1989-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive diazo photopolymerizable composition with polyurethane having carbon-carbon unsaturated and a carboxyl group |
US4816380A (en) * | 1986-06-27 | 1989-03-28 | Texas Instruments Incorporated | Water soluble contrast enhancement layer method of forming resist image on semiconductor chip |
US4997742A (en) * | 1986-06-27 | 1991-03-05 | Texas Instruments Inc. | Water soluble contrast enhancement composition with 1-oxy-2 diazonaphthalene sulfonamide salt and polyvinyl alcohol |
US5173390A (en) * | 1986-06-27 | 1992-12-22 | Texas Instruments Incorporated | Water soluble contrast enhancement composition and method of use |
JPH07113773B2 (ja) * | 1986-07-04 | 1995-12-06 | 株式会社日立製作所 | パタ−ン形成方法 |
JPH0721638B2 (ja) * | 1986-07-18 | 1995-03-08 | 東京応化工業株式会社 | 基板の処理方法 |
US5128230A (en) * | 1986-12-23 | 1992-07-07 | Shipley Company Inc. | Quinone diazide containing photoresist composition utilizing mixed solvent of ethyl lactate, anisole and amyl acetate |
US5182183A (en) * | 1987-03-12 | 1993-01-26 | Mitsubishi Kasei Corporation | Positive photosensitive planographic printing plates containing specific high-molecular weight compound and photosensitive ester of O-napthoquinonediazidosulfonic acid with polyhydroxybenzophenone |
JPH07117746B2 (ja) * | 1987-04-16 | 1995-12-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
JPH07117747B2 (ja) * | 1987-04-21 | 1995-12-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
DE3729035A1 (de) * | 1987-08-31 | 1989-03-09 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes photolithographisches aufzeichnungsmaterial |
DE3822522A1 (de) * | 1988-07-04 | 1990-03-22 | Hoechst Ag | 1,2-naphthochinon-2-diazid-sulfonsaeureamide und lichtempfindliche gemische, die diese enthalten |
US5002856A (en) * | 1989-08-02 | 1991-03-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thermally stable carbazole diazonium salts as sources of photo-initiated strong acid |
US5851736A (en) * | 1991-03-05 | 1998-12-22 | Nitto Denko Corporation | Heat-resistant photoresist composition, photosensitive substrate, and process for forming heat-resistant positive or negative pattern |
US5401607A (en) * | 1991-04-17 | 1995-03-28 | Polaroid Corporation | Processes and compositions for photogeneration of acid |
US5225314A (en) * | 1991-04-17 | 1993-07-06 | Polaroid Corporation | Imaging process, and imaging medium for use therein |
US5227277A (en) * | 1991-04-17 | 1993-07-13 | Polaroid Corporation | Imaging process, and imaging medium for use therein |
TW439016B (en) * | 1996-09-20 | 2001-06-07 | Sumitomo Chemical Co | Positive resist composition |
US7354696B2 (en) * | 2004-07-08 | 2008-04-08 | Agfa Graphics Nv | Method for making a lithographic printing plate |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1967371A (en) * | 1931-03-28 | 1934-07-24 | Kalle & Co Ag | Process of preparing copies |
US2702243A (en) * | 1950-06-17 | 1955-02-15 | Azoplate Corp | Light-sensitive photographic element and process of producing printing plates |
DE1058845B (de) * | 1958-02-11 | 1959-06-04 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von wasserunloeslichen Diazoverbindungen |
NL270834A (ja) * | 1960-10-31 | |||
US3113023A (en) * | 1961-07-25 | 1963-12-03 | Polychrome Corp | Photosensitive lithographic plate comprising photosensitive diazo resins and method for preparing same |
JPS4910841B1 (ja) * | 1965-12-18 | 1974-03-13 | ||
GB1136544A (en) * | 1966-02-28 | 1968-12-11 | Agfa Gevaert Nv | Photochemical cross-linking of polymers |
GB1188527A (en) * | 1966-05-31 | 1970-04-15 | Algraphy Ltd | Development of Light-Sensitive Layers |
ZA6801224B (ja) * | 1967-03-08 | |||
US3634082A (en) * | 1967-07-07 | 1972-01-11 | Shipley Co | Light-sensitive naphthoquinone diazide composition containing a polyvinyl ether |
US3573917A (en) * | 1968-07-12 | 1971-04-06 | Takashi Okamoto | Light-sensitive printing plate composition |
US3679419A (en) * | 1969-05-20 | 1972-07-25 | Azoplate Corp | Light-sensitive diazo condensate containing reproduction material |
-
0
- BE BE789196D patent/BE789196A/xx not_active IP Right Cessation
-
1971
- 1971-09-25 DE DE2147947A patent/DE2147947C2/de not_active Expired
-
1972
- 1972-09-15 NL NLAANVRAGE7212548,A patent/NL172274C/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-09-20 SE SE7212123A patent/SE381752B/xx unknown
- 1972-09-21 US US291095A patent/US3890152A/en not_active Expired - Lifetime
- 1972-09-22 AT AT817572A patent/AT331826B/de not_active IP Right Cessation
- 1972-09-22 JP JP9564072A patent/JPS5513016B2/ja not_active Expired
- 1972-09-22 GB GB4398172A patent/GB1396530A/en not_active Expired
- 1972-09-22 IT IT52900/72A patent/IT969442B/it active
- 1972-09-22 CA CA152,326A patent/CA979270A/en not_active Expired
- 1972-09-25 FR FR7233837A patent/FR2153468B1/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS4841806A (ja) | 1973-06-19 |
NL7212548A (ja) | 1973-03-27 |
DE2147947A1 (de) | 1973-03-29 |
SE381752B (sv) | 1975-12-15 |
AT331826B (de) | 1976-08-25 |
DE2147947C2 (de) | 1983-12-01 |
GB1396530A (en) | 1975-06-04 |
FR2153468B1 (ja) | 1976-10-29 |
FR2153468A1 (ja) | 1973-05-04 |
US3890152A (en) | 1975-06-17 |
JPS5513016B2 (ja) | 1980-04-05 |
IT969442B (it) | 1974-03-30 |
BE789196A (fr) | 1973-03-22 |
ATA817572A (de) | 1975-12-15 |
CA979270A (en) | 1975-12-09 |
NL172274B (nl) | 1983-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL172274C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een lichtgevoelige kopieermassa, lichtgevoelig kopieermateriaal dat is voorzien van een laag gevormd uit een aldus bereide kopieermassa, alsmede werkwijze voor het vervaardigen van een kopie onder toepassing van een dergelijk lichtgevoelig kopieermateriaal. | |
NL167522C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- bare kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat is voor- zien van een laag die uit een aldus bereide kopieer- massa is gevormd. | |
NL169522C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede gevormd voortbrengsel vervaardigd onder toepassing van een aldus bereide kopieermassa. | |
NL164973C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseerbare kopieermassa, alsmede met aldus bereide kopieermassa vervaardigd fotopolymeriseerbaar materiaal. | |
NL185244C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een stralingsgevoelige kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat een laag uit een dergelijke kopieermassa bevat. | |
NL7513303A (nl) | Dubbelvlak-veerkontakt en werkwijze voor het ver- vaardigen daarvan. | |
NL174801B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een rookmateriaal. | |
NL180410C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een vuurvaste samenstelling, en daaruit vervaardigd gevormd lichaam. | |
NL7509195A (nl) | Werkwijze voor de bereiding van een polyester materiaal en voorwerpen, vervaardigd onder toepassing van het aldus bereid materiaal. | |
NL170564C (nl) | Werkwijze voor immunochemische bepaling van liganden. | |
NL7513816A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van het hepatitis a antigeen. | |
NL169264C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van snacks en aldus bereide snacks. | |
NL7502768A (nl) | Voederaanvulling voor herkauwers alsmede werkwijze voor het bereiden daarvan. | |
NL7711011A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een magnetisch materiaal. | |
NL176020B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van diazotypkopieen, alsmede diazotypmateriaal voor het uitvoeren van deze werkwijze. | |
NL165377C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een preparaat ter voor- koming van tandsteenvorming, en aldus verkregen gevormd preparaat. | |
NL176614C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een gestabiliseerd permanent magnetisch materiaal, alsmede aldus bereid materiaal. | |
NL181462C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een lichtgevoelige zilverhalogenide-emulsie alsmede fotografisch element dat is voorzien van een lichtgevoelige laag die is gevormd uit een aldus bereide emulsie. | |
NL7507389A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van materiaal met immu- nologische werking. | |
NL7503952A (nl) | Holtecel, alsmede werkwijze voor het vervaardigen daarvan. | |
NL7501703A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het continu ver- vaardigen van honingraatkernmateriaal. | |
NL174221C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een tandcement en werkwijze voor het bereiden van een daarvoor geschikte component. | |
NL7514241A (nl) | Desacyl-pepsidine alsmede werkwijze voor het bereiden daarvan. | |
NL159690B (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een thermoplastisch elastomeer gesegmenteerd copolyesterpreparaat. | |
NL149295B (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een lichtgevoelig preparaat, alsmede lichtgevoelig materiaal dat van een aldus bereid preparaat is voorzien. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
BC | A request for examination has been filed | ||
V1 | Lapsed because of non-payment of the annual fee |