NL165852C - Werkwijze voor het vervaardigen van een reprografisch kopieermateriaal door een lichtgevoelige laag aan te brengen op een drager. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een reprografisch kopieermateriaal door een lichtgevoelige laag aan te brengen op een drager.

Info

Publication number
NL165852C
NL165852C NL7112806.A NL7112806A NL165852C NL 165852 C NL165852 C NL 165852C NL 7112806 A NL7112806 A NL 7112806A NL 165852 C NL165852 C NL 165852C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
carrier
applying
manufacturing
photosensitive layer
copy material
Prior art date
Application number
NL7112806.A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL7112806A (cs
NL165852B (nl
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE19702047816 external-priority patent/DE2047816C3/de
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of NL7112806A publication Critical patent/NL7112806A/xx
Publication of NL165852B publication Critical patent/NL165852B/xx
Application granted granted Critical
Publication of NL165852C publication Critical patent/NL165852C/xx

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/167—Coating processes; Apparatus therefor from the gas phase, by plasma deposition
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
NL7112806.A 1970-09-29 1971-09-17 Werkwijze voor het vervaardigen van een reprografisch kopieermateriaal door een lichtgevoelige laag aan te brengen op een drager. NL165852C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19702047816 DE2047816C3 (de) 1970-09-29 Verfahren zur Herstellung reprographischer Materialien durch Aufdampfen einer lichtempfindlichen Schicht

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7112806A NL7112806A (cs) 1972-04-04
NL165852B NL165852B (nl) 1980-12-15
NL165852C true NL165852C (nl) 1981-05-15

Family

ID=5783684

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7112806.A NL165852C (nl) 1970-09-29 1971-09-17 Werkwijze voor het vervaardigen van een reprografisch kopieermateriaal door een lichtgevoelige laag aan te brengen op een drager.

Country Status (11)

Country Link
US (1) US3751285A (cs)
JP (1) JPS5420884B1 (cs)
AT (1) AT321102B (cs)
BE (1) BE773146A (cs)
CA (1) CA991003A (cs)
CH (1) CH566033A5 (cs)
FR (1) FR2108683A5 (cs)
GB (1) GB1361786A (cs)
NL (1) NL165852C (cs)
SE (1) SE363909B (cs)
ZA (1) ZA716445B (cs)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5645127B2 (cs) * 1974-02-25 1981-10-24
GB1588417A (en) * 1977-03-15 1981-04-23 Agfa Gevaert Photoresist materials
US4415650A (en) * 1977-06-14 1983-11-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Recording material
US4334003A (en) * 1979-06-01 1982-06-08 Richardson Graphics Company Ultra high speed presensitized lithographic plates
US4263392A (en) * 1979-06-01 1981-04-21 Richardson Graphics Company Ultra high speed presensitized lithographic plates
US4423137A (en) * 1980-10-28 1983-12-27 Quixote Corporation Contact printing and etching method of making high density recording medium
US4587198A (en) * 1984-07-16 1986-05-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dye transfer image process

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3026218A (en) * 1956-12-21 1962-03-20 Eastman Kodak Co Procedure for forming photosensitive lead sulfide layers by vacuum evaporation
US3276869A (en) * 1961-05-09 1966-10-04 Polaroid Corp Capsular product coated with silver halide and containing a color-providing substance
US3219451A (en) * 1962-12-11 1965-11-23 Technical Operations Inc Sensitizing photographic media
DE1202292B (de) * 1963-10-04 1965-10-07 Kalle Ag Aluminiumtraeger fuer Flachdruckformen
US3440959A (en) * 1966-02-18 1969-04-29 Hercules Inc Coated polymer
GB1116674A (en) * 1966-02-28 1968-06-12 Agfa Gevaert Nv Naphthoquinone diazide sulphofluoride
NL6703090A (cs) * 1966-03-12 1967-09-13
US3551344A (en) * 1967-03-20 1970-12-29 Gen Motors Corp Photochromic plastic and method of making
US3650743A (en) * 1967-10-06 1972-03-21 Teeg Research Inc Methods for making lithographic offset plates by means of electromagnetic radiation sensitive elements
US3639250A (en) * 1968-08-01 1972-02-01 Nasa Phototropic composition of matter
US3627599A (en) * 1969-04-25 1971-12-14 Rca Corp Method of applying an n,n{40 diallylmelamine resist to a surface
US3669658A (en) * 1969-06-11 1972-06-13 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive printing plate
US3647443A (en) * 1969-09-12 1972-03-07 Eastman Kodak Co Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions
US3661582A (en) * 1970-03-23 1972-05-09 Western Electric Co Additives to positive photoresists which increase the sensitivity thereof

Also Published As

Publication number Publication date
AT321102B (de) 1975-03-10
SE363909B (cs) 1974-02-04
FR2108683A5 (cs) 1972-05-19
NL7112806A (cs) 1972-04-04
DE2047816B2 (de) 1976-07-08
CA991003A (en) 1976-06-15
GB1361786A (en) 1974-07-30
DE2047816A1 (de) 1972-03-30
CH566033A5 (cs) 1975-08-29
BE773146A (fr) 1972-03-27
US3751285A (en) 1973-08-07
ZA716445B (en) 1972-05-31
NL165852B (nl) 1980-12-15
JPS5420884B1 (cs) 1979-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL185244C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een stralingsgevoelige kopieermassa alsmede kopieermateriaal dat een laag uit een dergelijke kopieermassa bevat.
NL175718C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een tindioxidelaag op een glasoppervlak.
NL187283C (nl) Werkwijze voor het behandelen van een stralingsgevoelige plaat.
NL184368C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een antistatische laag op een substraat.
NL7602566A (nl) Werkwijze voor het vormen van een patroon in een laag.
NL7613487A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een buig- zame lamellaire tussenlaag.
NL169521C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een reflexie verminderend lagenstelsel op substraten uit organisch materiaal.
NL164142C (nl) Werkwijze voor het vormen van een hologram.
NL168343C (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van belicht fotografisch materiaal.
NL177832C (nl) Werkwijze voor het plakken van textielmaterialen.
NL186720C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een fotografisch registratiemateriaal.
NL7608397A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een polyurethanlaag op een substraat.
NL7603856A (nl) Werkwijze voor het verbeteren van de hechting van fotografische lagen op materiaalbanen door middel van een corona-behandeling.
NL165852C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een reprografisch kopieermateriaal door een lichtgevoelige laag aan te brengen op een drager.
NL175107C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een laag van een positief werkende elektronenresist en werkwijze ter vervaardiging van een resistpatroon.
NL7606253A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een vuurvaste samenstelling.
NL172803C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een primair trefelement op basis van uraanmateriaal, dat aan uraan-235 is verrijkt.
NL7609908A (nl) Werkwijze voor het verven van een hydroxy ge- substitueerd organisch polymeer ondermateriaal.
NL7608179A (nl) Werkwijze voor het alkyleren van naftaleen.
NL7505454A (nl) Toestel voor het aanbrengen van patronen op een fotogevoelige laag.
NL7604854A (nl) Werkwijze voor het isomeriseren van alkylaroma- tische koolwaterstoffen.
NL7612314A (nl) Werkwijze voor het bereiden van foto-geleidend cadmiumsulfide.
NL175054C (nl) Werkwijze voor het thermisch taaimaken van een glasplaat.
NL172597C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een xerografische beeldplaat.
NL180517C (nl) Werkwijze voor het vormen van een bekledingsmateriaal.

Legal Events

Date Code Title Description
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent