NL165852B - Werkwijze voor het vervaardigen van een reprografisch kopieermateriaal door een lichtgevoelige laag aan te brengen op een drager. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van een reprografisch kopieermateriaal door een lichtgevoelige laag aan te brengen op een drager.Info
- Publication number
- NL165852B NL165852B NL7112806.A NL7112806A NL165852B NL 165852 B NL165852 B NL 165852B NL 7112806 A NL7112806 A NL 7112806A NL 165852 B NL165852 B NL 165852B
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- carrier
- applying
- manufacturing
- photosensitive layer
- copy material
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/167—Coating processes; Apparatus therefor from the gas phase, by plasma deposition
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702047816 DE2047816C3 (de) | 1970-09-29 | Verfahren zur Herstellung reprographischer Materialien durch Aufdampfen einer lichtempfindlichen Schicht |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7112806A NL7112806A (nl) | 1972-04-04 |
NL165852B true NL165852B (nl) | 1980-12-15 |
NL165852C NL165852C (nl) | 1981-05-15 |
Family
ID=5783684
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL7112806.A NL165852C (nl) | 1970-09-29 | 1971-09-17 | Werkwijze voor het vervaardigen van een reprografisch kopieermateriaal door een lichtgevoelige laag aan te brengen op een drager. |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3751285A (nl) |
JP (1) | JPS5420884B1 (nl) |
AT (1) | AT321102B (nl) |
BE (1) | BE773146A (nl) |
CA (1) | CA991003A (nl) |
CH (1) | CH566033A5 (nl) |
FR (1) | FR2108683A5 (nl) |
GB (1) | GB1361786A (nl) |
NL (1) | NL165852C (nl) |
SE (1) | SE363909B (nl) |
ZA (1) | ZA716445B (nl) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5645127B2 (nl) * | 1974-02-25 | 1981-10-24 | ||
GB1588417A (en) * | 1977-03-15 | 1981-04-23 | Agfa Gevaert | Photoresist materials |
DE2826122A1 (de) * | 1977-06-14 | 1978-12-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Aufzeichnungsmaterial |
US4334003A (en) * | 1979-06-01 | 1982-06-08 | Richardson Graphics Company | Ultra high speed presensitized lithographic plates |
US4263392A (en) * | 1979-06-01 | 1981-04-21 | Richardson Graphics Company | Ultra high speed presensitized lithographic plates |
US4423137A (en) * | 1980-10-28 | 1983-12-27 | Quixote Corporation | Contact printing and etching method of making high density recording medium |
US4587198A (en) * | 1984-07-16 | 1986-05-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dye transfer image process |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3026218A (en) * | 1956-12-21 | 1962-03-20 | Eastman Kodak Co | Procedure for forming photosensitive lead sulfide layers by vacuum evaporation |
US3276869A (en) * | 1961-05-09 | 1966-10-04 | Polaroid Corp | Capsular product coated with silver halide and containing a color-providing substance |
US3219451A (en) * | 1962-12-11 | 1965-11-23 | Technical Operations Inc | Sensitizing photographic media |
DE1202292B (de) * | 1963-10-04 | 1965-10-07 | Kalle Ag | Aluminiumtraeger fuer Flachdruckformen |
US3440959A (en) * | 1966-02-18 | 1969-04-29 | Hercules Inc | Coated polymer |
GB1116674A (en) * | 1966-02-28 | 1968-06-12 | Agfa Gevaert Nv | Naphthoquinone diazide sulphofluoride |
NL6703090A (nl) * | 1966-03-12 | 1967-09-13 | ||
US3551344A (en) * | 1967-03-20 | 1970-12-29 | Gen Motors Corp | Photochromic plastic and method of making |
US3650743A (en) * | 1967-10-06 | 1972-03-21 | Teeg Research Inc | Methods for making lithographic offset plates by means of electromagnetic radiation sensitive elements |
US3639250A (en) * | 1968-08-01 | 1972-02-01 | Nasa | Phototropic composition of matter |
US3627599A (en) * | 1969-04-25 | 1971-12-14 | Rca Corp | Method of applying an n,n{40 diallylmelamine resist to a surface |
US3669658A (en) * | 1969-06-11 | 1972-06-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive printing plate |
US3647443A (en) * | 1969-09-12 | 1972-03-07 | Eastman Kodak Co | Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions |
US3661582A (en) * | 1970-03-23 | 1972-05-09 | Western Electric Co | Additives to positive photoresists which increase the sensitivity thereof |
-
1971
- 1971-09-17 NL NL7112806.A patent/NL165852C/nl not_active IP Right Cessation
- 1971-09-27 US US00184299A patent/US3751285A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-09-27 CA CA123,726A patent/CA991003A/en not_active Expired
- 1971-09-27 BE BE773146A patent/BE773146A/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-09-27 GB GB4494471A patent/GB1361786A/en not_active Expired
- 1971-09-27 AT AT834771A patent/AT321102B/de not_active IP Right Cessation
- 1971-09-27 ZA ZA716445A patent/ZA716445B/xx unknown
- 1971-09-28 CH CH1409571A patent/CH566033A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-09-28 SE SE12263/71A patent/SE363909B/xx unknown
- 1971-09-29 FR FR7135013A patent/FR2108683A5/fr not_active Expired
- 1971-09-29 JP JP7622771A patent/JPS5420884B1/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH566033A5 (nl) | 1975-08-29 |
AT321102B (de) | 1975-03-10 |
NL165852C (nl) | 1981-05-15 |
CA991003A (en) | 1976-06-15 |
ZA716445B (en) | 1972-05-31 |
JPS5420884B1 (nl) | 1979-07-26 |
BE773146A (fr) | 1972-03-27 |
DE2047816A1 (de) | 1972-03-30 |
FR2108683A5 (nl) | 1972-05-19 |
US3751285A (en) | 1973-08-07 |
DE2047816B2 (de) | 1976-07-08 |
GB1361786A (en) | 1974-07-30 |
SE363909B (nl) | 1974-02-04 |
NL7112806A (nl) | 1972-04-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL160400C (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een laag van een lichtgevoelig, thermoplastisch materiaal, dat bij belichting een fotoresist kan vormen op een plaat met een gedrukte bedrading, alsmede een lichtgevoelig element ten gebruike bij deze werkwijze. | |
NL175718C (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een tindioxidelaag op een glasoppervlak. | |
NL187283C (nl) | Werkwijze voor het behandelen van een stralingsgevoelige plaat. | |
NL184368C (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een antistatische laag op een substraat. | |
NL7613487A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een buig- zame lamellaire tussenlaag. | |
NL169521B (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een reflexie verminderend lagenstelsel op substraten uit organisch materiaal. | |
NL164142B (nl) | Werkwijze voor het vormen van een hologram. | |
NL7608397A (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een polyurethanlaag op een substraat. | |
NL168343B (nl) | Werkwijze voor het ontwikkelen van belicht fotografisch materiaal. | |
NL177832C (nl) | Werkwijze voor het plakken van textielmaterialen. | |
NL186720C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een fotografisch registratiemateriaal. | |
NL165852C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een reprografisch kopieermateriaal door een lichtgevoelige laag aan te brengen op een drager. | |
NL175107C (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een laag van een positief werkende elektronenresist en werkwijze ter vervaardiging van een resistpatroon. | |
NL7606253A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een vuurvaste samenstelling. | |
NL7609908A (nl) | Werkwijze voor het verven van een hydroxy ge- substitueerd organisch polymeer ondermateriaal. | |
NL172803C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een primair trefelement op basis van uraanmateriaal, dat aan uraan-235 is verrijkt. | |
NL7608179A (nl) | Werkwijze voor het alkyleren van naftaleen. | |
NL186904B (nl) | Werkwijze voor de bereiding van alkylchlooraromatische verbindingen door katalytische chlorering in aanwezigheid van een organisch sulfide. | |
NL164399C (nl) | Kopieermateriaal dat een drager bevat waarop een licht- gevoelige laag is aangebracht, alsmede werkwijze voor het bereiden van een voor het vormen van genoemde laag te gebruiken lichtgevoelig mengsel. | |
NL7505454A (nl) | Toestel voor het aanbrengen van patronen op een fotogevoelige laag. | |
NL7604854A (nl) | Werkwijze voor het isomeriseren van alkylaroma- tische koolwaterstoffen. | |
NL7609497A (nl) | Werkwijze voor het chloreren van koolwater- stoffen. | |
NL7612314A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van foto-geleidend cadmiumsulfide. | |
NL175054C (nl) | Werkwijze voor het thermisch taaimaken van een glasplaat. | |
NL172597C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een xerografische beeldplaat. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
V4 | Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent |