NL147581B - Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede de aldus vervaardigde halfgeleiderinrichting. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede de aldus vervaardigde halfgeleiderinrichting.

Info

Publication number
NL147581B
NL147581B NL656513181A NL6513181A NL147581B NL 147581 B NL147581 B NL 147581B NL 656513181 A NL656513181 A NL 656513181A NL 6513181 A NL6513181 A NL 6513181A NL 147581 B NL147581 B NL 147581B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
semi
conductor device
procedure
manufacturing
well
Prior art date
Application number
NL656513181A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL6513181A (de
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Publication of NL6513181A publication Critical patent/NL6513181A/xx
Publication of NL147581B publication Critical patent/NL147581B/xx

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/14—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/24—Alloying of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, with a semiconductor body
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/05—Etch and refill
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/151—Simultaneous diffusion
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S438/00—Semiconductor device manufacturing: process
    • Y10S438/955—Melt-back

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
NL656513181A 1964-10-12 1965-10-12 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede de aldus vervaardigde halfgeleiderinrichting. NL147581B (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5841764 1964-10-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL6513181A NL6513181A (de) 1966-04-13
NL147581B true NL147581B (nl) 1975-10-15

Family

ID=13083791

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL656513181A NL147581B (nl) 1964-10-12 1965-10-12 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede de aldus vervaardigde halfgeleiderinrichting.

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3384518A (de)
DE (1) DE1297758B (de)
GB (1) GB1127213A (de)
NL (1) NL147581B (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH452710A (de) * 1966-12-29 1968-03-15 Bbc Brown Boveri & Cie Verfahren zur Herstellung eines steuerbaren Halbleiterventils mit pnpn Struktur mit einer mit Kurzschlüssen versehenen Emitterzone
US3577045A (en) * 1968-09-18 1971-05-04 Gen Electric High emitter efficiency simiconductor device with low base resistance and by selective diffusion of base impurities

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE546668A (de) * 1956-03-31
AT204604B (de) * 1956-08-10 1959-08-10 Philips Nv Verfahren zur Herstellung eines halbleitenden Speerschichtsystems sowie halbleitendes Sperrschichtsystem
DE1122635B (de) * 1959-10-03 1962-01-25 Telefunken Patent Verfahren zur galvanoplastischen Herstellung von Kontaktierungen auf Halbleiterkoerpern
US3192082A (en) * 1962-10-23 1965-06-29 Hitachi Ltd Process for the production of npn or pnp junction
US3219497A (en) * 1962-11-29 1965-11-23 Paul E V Shannon Process of fabricating p-n junctions for tunnel diodes
DE1250004B (de) * 1963-08-19
US3306835A (en) * 1965-02-04 1967-02-28 Agatha C Magnus Treatment of substances with ultrasonic vibrations and electro-magnetic radiations

Also Published As

Publication number Publication date
US3384518A (en) 1968-05-21
NL6513181A (de) 1966-04-13
GB1127213A (en) 1968-09-18
DE1297758B (de) 1969-06-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL142386B (nl) Werkwijze voor het verhogen van de slijtvastheid van een glasoppervlak, alsmede aldus gevormde voorwerpen.
NL139481B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van een luchtband.
NL160143C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een afgesloten neutro- nengenerator.
NL161616C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL142287B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL143906B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een alfa,beta-onverzadigde n-alkylolamide.
NL149859B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een ohms contact, alsmede halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL162789C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL163369C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL7510533A (nl) Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van een gipsplaat, evenals gipsplaat vervaardigd on- der toepassing van de werkwijze.
NL154061B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze.
NL139843B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede aldus vervaardigde halfgeleiderinrichtingen.
NL155472B (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een houder, alsmede houder, vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL147201B (nl) Inrichting voor de vervaardiging van een pooltapijt.
NL158298B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een gemigreerde seismische registratie, en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL144778B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting door anisotroop etsen alsmede aldus vervaardigde inrichting.
NL139874B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een liksteen en liksteen, vervaardigd met de werkwijze.
NL139193B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een ritssluiting, alsmede ritssluiting vervaardigd onder toepassing van deze werkwijze.
NL144253B (nl) Werkwijze voor het bereiden van 2,4,5-trimethylcumeen.
NL154871B (nl) Montageband voor halfgeleiderinrichting, alsmede onder toepassing van een dergelijke montageband vervaardigde halfgeleiderinrichting.
NL142392B (nl) Werkwijze voor het bereiden van 1,1,1-trichloorethaan.
NL147581B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede de aldus vervaardigde halfgeleiderinrichting.
NL139811B (nl) Inrichting voor het bedienen van een afsluiter.
NL140517B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een 17 alfa-hydroxy-8,14-secogonatetraeen-14-on.
NL139106B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een diazotypievel alsmede het aldus vervaardigde diazotypievel.