NL143141B - Werkwijze voor het door diffunderen inbrengen van zink in galliumarsenide en halfgeleiderinrichting, vervaardigd onder toepassing van deze werkwijze. - Google Patents

Werkwijze voor het door diffunderen inbrengen van zink in galliumarsenide en halfgeleiderinrichting, vervaardigd onder toepassing van deze werkwijze.

Info

Publication number
NL143141B
NL143141B NL686807729A NL6807729A NL143141B NL 143141 B NL143141 B NL 143141B NL 686807729 A NL686807729 A NL 686807729A NL 6807729 A NL6807729 A NL 6807729A NL 143141 B NL143141 B NL 143141B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
diffusing
procedure
applying
semiconductor device
gallium arsenide
Prior art date
Application number
NL686807729A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL6807729A (es
Original Assignee
Western Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Western Electric Co filed Critical Western Electric Co
Publication of NL6807729A publication Critical patent/NL6807729A/xx
Publication of NL143141B publication Critical patent/NL143141B/xx

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B31/00Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor
    • C30B31/06Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor by contacting with diffusion material in the gaseous state
    • C30B31/16Feed and outlet means for the gases; Modifying the flow of the gases
    • C30B31/165Diffusion sources
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/40AIIIBV compounds wherein A is B, Al, Ga, In or Tl and B is N, P, As, Sb or Bi
    • C30B29/42Gallium arsenide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B31/00Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor
    • C30B31/06Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor by contacting with diffusion material in the gaseous state
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S252/00Compositions
    • Y10S252/95Doping agent source material
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S252/00Compositions
    • Y10S252/95Doping agent source material
    • Y10S252/951Doping agent source material for vapor transport
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S420/00Alloys or metallic compositions
    • Y10S420/903Semiconductive
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S438/00Semiconductor device manufacturing: process
    • Y10S438/909Controlled atmosphere

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Recrystallisation Techniques (AREA)
  • Led Devices (AREA)
NL686807729A 1967-05-31 1968-05-31 Werkwijze voor het door diffunderen inbrengen van zink in galliumarsenide en halfgeleiderinrichting, vervaardigd onder toepassing van deze werkwijze. NL143141B (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US64244467A 1967-05-31 1967-05-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL6807729A NL6807729A (es) 1968-12-02
NL143141B true NL143141B (nl) 1974-09-16

Family

ID=24576580

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL686807729A NL143141B (nl) 1967-05-31 1968-05-31 Werkwijze voor het door diffunderen inbrengen van zink in galliumarsenide en halfgeleiderinrichting, vervaardigd onder toepassing van deze werkwijze.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US3485685A (es)
BE (1) BE715822A (es)
DE (1) DE1769452B2 (es)
ES (1) ES354654A1 (es)
FR (1) FR1567565A (es)
GB (1) GB1227985A (es)
NL (1) NL143141B (es)
SE (1) SE329832B (es)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4939877B1 (es) * 1970-02-12 1974-10-29
US3755006A (en) * 1971-10-28 1973-08-28 Bell Telephone Labor Inc Diffused junction gap electroluminescent device
US3984267A (en) * 1974-07-26 1976-10-05 Monsanto Company Process and apparatus for diffusion of semiconductor materials
US4378255A (en) * 1981-05-06 1983-03-29 University Of Illinois Foundation Method for producing integrated semiconductor light emitter
EP0077825B1 (en) * 1981-05-06 1987-08-12 University of Illinois Foundation Method of forming wide bandgap region within multilayer semiconductors
GB2130793B (en) * 1982-11-22 1986-09-03 Gen Electric Co Plc Forming a doped region in a semiconductor body
US4725565A (en) * 1986-06-26 1988-02-16 Gte Laboratories Incorporated Method of diffusing conductivity type imparting material into III-V compound semiconductor material
US4742022A (en) * 1986-06-26 1988-05-03 Gte Laboratories Incorporated Method of diffusing zinc into III-V compound semiconductor material
US4889830A (en) * 1987-11-09 1989-12-26 Northern Telecom Limited Zinc diffusion in the presence of cadmium into indium phosphide
CN113512696A (zh) * 2021-07-09 2021-10-19 嘉兴世龙运输设备部件有限公司 一种锁杆渗锌工艺

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3305412A (en) * 1964-02-20 1967-02-21 Hughes Aircraft Co Method for preparing a gallium arsenide diode

Also Published As

Publication number Publication date
US3485685A (en) 1969-12-23
ES354654A1 (es) 1970-02-16
FR1567565A (es) 1969-05-16
NL6807729A (es) 1968-12-02
DE1769452B2 (de) 1971-04-22
DE1769452A1 (de) 1970-11-12
SE329832B (es) 1970-10-26
BE715822A (es) 1968-10-16
GB1227985A (es) 1971-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL144733B (nl) Analytisch proefpakket en inrichting voor het behandelen daarvan.
NL156819B (nl) Werkwijze en inrichting voor het analyseren van bloedmonsters.
NL159533B (nl) Werkwijze voor het met een tussenruimte scheiden van door verdeling van een halfgeleiderschijf gevormde halfgeleiderplaatjes, en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL178224C (nl) Inrichting voor het behandelen van lichaamsvloeistoffen.
NL160436B (nl) Halfgeleiderinrichting voor het opwekken en uitzenden van elektromagnetische straling.
NL160680C (nl) Halfgeleiderinrichting voorzien van een isolerende inkapselbekleding en werkwijze voor het vervaardigen van de halfgeleiderinrichting.
NL159912C (nl) Werkwijze voor het vormen van voorwerpen en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL158467B (nl) Werkwijze en inrichting voor het temperen van vlakke glasplaten en vlakke glasplaat, verkregen door toepassing van deze werkwijze.
NL157555B (nl) Inrichting voor het transporteren en openen van enveloppen.
NL143141B (nl) Werkwijze voor het door diffunderen inbrengen van zink in galliumarsenide en halfgeleiderinrichting, vervaardigd onder toepassing van deze werkwijze.
NL152116B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een ingekapselde halfgeleiderinrichting en ingekapselde halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL154061B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze.
NL140701B (nl) Inrichting voor het omslaan en opwikkelen van graszoden.
NL147020B (nl) Werkwijze en inrichting voor het door warmtebehandeling onschadelijk maken van zich in de vloeistof bevindende micro-organismen.
NL140101B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL149638B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting bevattende ten minste een veldeffecttransistor, en halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL140657B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting door een diffusiebehandeling en halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL162209B (nl) Werkwijze voor het aantonen van tegen allergenen gerichte reagin-immunoglobulinen, alsmede inrichting en reagentia voor het uitvoeren van deze werkwijze.
NL155969B (nl) Werkwijze en inrichting voor het snijden van een groef in een registratiedrager.
NL139597B (nl) Werkwijze voor het behandelen van koolbrokken en inrichting voor het toepassen van deze werkwijze.
NL152091B (nl) Elektrofotografische werkwijze en inrichting voor het toepassen van de werkwijze.
NL139414B (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een gelijkrichtende p,n-keerlaag in een kristallijn halfgeleiderplaatje en halfgeleiderinrichting voorzien van het halfgeleiderplaatje vervaardigd volgens de werkwijze.
NL152458B (nl) Werkwijze voor het uitwisselen van ionen, alsmede inrichting daarvoor.
NL154650B (nl) Inrichting voor het transporteren en richten van eieren.
NL139055B (nl) Werkwijze voor het strenggieten van een voorwerp en voorwerp, vervaardigd onder toepassing van een dergelijke werkwijze.