NL140365B - Werkwijze voor het vervaardigen van een elektronische microstructuur. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een elektronische microstructuur.

Info

Publication number
NL140365B
NL140365B NL707007474A NL7007474A NL140365B NL 140365 B NL140365 B NL 140365B NL 707007474 A NL707007474 A NL 707007474A NL 7007474 A NL7007474 A NL 7007474A NL 140365 B NL140365 B NL 140365B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
manufacturing
microstructure
electronic microstructure
electronic
Prior art date
Application number
NL707007474A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL7007474A (cg-RX-API-DMAC10.html
Original Assignee
Kogyo Gijutsuin
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kogyo Gijutsuin filed Critical Kogyo Gijutsuin
Publication of NL7007474A publication Critical patent/NL7007474A/xx
Publication of NL140365B publication Critical patent/NL140365B/xx

Links

Classifications

    • H10W74/43—
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N97/00—Electric solid-state thin-film or thick-film devices, not otherwise provided for
    • H10P14/46—
    • H10P95/00—
    • H10W74/40—
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/043—Dual dielectric
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/051—Etching
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/053—Field effect transistors fets
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00—Metal treatment
    • Y10S148/106—Masks, special
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S438/00—Semiconductor device manufacturing: process
    • Y10S438/942—Masking
    • Y10S438/944—Shadow

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Weting (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Bipolar Transistors (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Local Oxidation Of Silicon (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
NL707007474A 1969-10-15 1970-05-22 Werkwijze voor het vervaardigen van een elektronische microstructuur. NL140365B (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP44081843A JPS4939873B1 (cg-RX-API-DMAC10.html) 1969-10-15 1969-10-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL7007474A NL7007474A (cg-RX-API-DMAC10.html) 1971-04-19
NL140365B true NL140365B (nl) 1973-11-15

Family

ID=13757738

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL707007474A NL140365B (nl) 1969-10-15 1970-05-22 Werkwijze voor het vervaardigen van een elektronische microstructuur.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US3690966A (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP (1) JPS4939873B1 (cg-RX-API-DMAC10.html)
DE (1) DE2024822C3 (cg-RX-API-DMAC10.html)
GB (1) GB1311684A (cg-RX-API-DMAC10.html)
NL (1) NL140365B (cg-RX-API-DMAC10.html)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3747202A (en) * 1971-11-22 1973-07-24 Honeywell Inf Systems Method of making beam leads on substrates
US3775262A (en) * 1972-02-09 1973-11-27 Ncr Method of making insulated gate field effect transistor
US3926694A (en) * 1972-07-24 1975-12-16 Signetics Corp Double diffused metal oxide semiconductor structure with isolated source and drain and method
JPS5024084A (cg-RX-API-DMAC10.html) * 1973-07-05 1975-03-14
DE3015356A1 (de) * 1980-04-22 1981-10-29 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Freitragende schichten sowie verfahren zur herstellung freitragender schichten, insbesondere fuer sensoren fuer brennkraftmaschinen
NL188432C (nl) * 1980-12-26 1992-06-16 Nippon Telegraph & Telephone Werkwijze voor het vervaardigen van een mosfet.
JPS5831336A (ja) * 1981-08-19 1983-02-24 Konishiroku Photo Ind Co Ltd ホトマスク素材
CN113053736B (zh) * 2021-03-11 2024-05-03 捷捷半导体有限公司 一种半导体器件制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
GB1311684A (en) 1973-03-28
DE2024822A1 (de) 1971-04-22
DE2024822B2 (de) 1977-09-15
JPS4939873B1 (cg-RX-API-DMAC10.html) 1974-10-29
US3690966A (en) 1972-09-12
DE2024822C3 (de) 1978-05-24
NL7007474A (cg-RX-API-DMAC10.html) 1971-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL161620C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde schakeling.
NL159726B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een elektrode voor elektrochemische processen.
NL144971B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een accumulatorseperator alsmede de aldus vervaardigde accumulatorseperator.
NL172442C (nl) Werkwijze voor het uitvoeren van een hydroformylering van een alkeen.
NL158026B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling.
NL157103B (nl) Werkwijze voor het vergelijken van een object met een standaard.
NL169120C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een elektrisch element en element verkregen volgens deze werkwijze.
NL165954C (nl) Werkwijze voor het bekleden van oppervlakken.
BE760355A (fr) Inrichting voor het aanbrengen van een vuurvaste bekleding binnen een staalconverter
BE783832A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van kondensatoren in een elektronische mikrostruktuur
NL140365B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een elektronische microstructuur.
NL164157C (nl) Geintegreerde halfgeleiderschakeling van het ladings- gekoppelde type en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke halfgeleiderschakeling.
NL145495B (nl) Werkwijze voor het bekleden van metaal.
BE754752A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bedrijven van een oven
BE747834A (fr) Halfgeleiderinrichting met een geintegreerde impulspoortschakeling en werkwijze voor het vervaardigen van de inrichting
NL151744B (nl) Werkwijze voor het maken van een ijzertitaanlegering.
NL7604708A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geinte- greerde schakeling.
NL147618B (nl) Werkwijze en inrichting voor het ononderbroken vervaardigen van toffees.
NL149642B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een elektroluminescerende inrichting en aldus vervaardigde inrichting.
NL152536B (nl) Werkwijze voor het oxideren van een alifatisch of cycloalifatisch monoalkeen.
NL160006C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van voorwerpen.
NL149263B (nl) Leirol en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL143286B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een kunstmatige draad.
NL144967B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van poreuze kunststofvoorwerpen.
BE756963A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van vellen