MD2859C2 - Nanotehnologie de obţinere a materialelor nanostructurate şi nanocompozite (variante) - Google Patents
Nanotehnologie de obţinere a materialelor nanostructurate şi nanocompozite (variante) Download PDFInfo
- Publication number
- MD2859C2 MD2859C2 MDA20040198A MD20040198A MD2859C2 MD 2859 C2 MD2859 C2 MD 2859C2 MD A20040198 A MDA20040198 A MD A20040198A MD 20040198 A MD20040198 A MD 20040198A MD 2859 C2 MD2859 C2 MD 2859C2
- Authority
- MD
- Moldova
- Prior art keywords
- materials
- nanocomposites
- obtaining
- carried out
- nanostructurized
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title abstract 13
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 title abstract 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 4
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
Invenţia se referă la electronică, în particular la nanotehnologiile de obţinere a materialelor nanostructurate şi nanocompozitelor.Nanotehnologia de obţinere a materialelor nanostructurate şi nanocompozitelor, conform primei variante, include depunerea componenţilor chimici pe un substrat în prezenţa razelor ultraviolete. Apoi are loc procesarea fototermică rapidă a materialelor obţinute in vid sau în aer, sau în camera cu gaze, de exemplu, cu oxigen.Nanotehnologia de obţinere a materialelor nanostructurate şi nanocompozitelor, conform variantei a doua, include depunerea componenţilor chimici pe un substrat în prezenţa razelor ultraviolete, iar odată cu depunerea componenţilor chimici are loc doparea materialelor obţinute cu cel puţin o impuritate donoare sau acceptoare. Apoi se înfăptuieşte procesarea fototermică rapidă a materialelor obţinute in vid sau în aer, sau în camera cu gaze, de exemplu, cu oxigen.Nanotehnologia de obţinere a materialelor nanostructurate şi nanocompozitelor, conform variantei a treia, include depunerea componenţilor chimici pe un substrat în prezenţa razelor ultraviolete, apoi se efectuiază doparea prin difuzie cu cel puţin o impuritate donoare sau acceptoare odată cu procesarea fototermică rapidă a materialelor obţinute in vid sau în aer, sau în camera cu gaze, de exemplu, cu oxigen.Nanotehnologia de obţinere a materialelor nanostructurate şi nanocompozitelor, conform variantei patru, include depunerea componenţilor chimici pe un substrat în prezenţa razelor ultraviolete, apoi se efectuiază doparea prin difuzie cu cel puţin o impuritate. Concentraţia impurităţilor fiind maxim posibilă pentru materialul obţinut. Ulterior are loc procesarea fototermică rapidă a materialelor obţinute în condiţiile micşorării de la temperatura dopării până la temperatura mediului înconjurător in vid sau în aer, sau în camera cu gaze, de exemplu, cu oxigen.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDA20040198A MD2859C2 (ro) | 2004-08-12 | 2004-08-12 | Nanotehnologie de obţinere a materialelor nanostructurate şi nanocompozite (variante) |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDA20040198A MD2859C2 (ro) | 2004-08-12 | 2004-08-12 | Nanotehnologie de obţinere a materialelor nanostructurate şi nanocompozite (variante) |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| MD2859B1 MD2859B1 (ro) | 2005-09-30 |
| MD2859C2 true MD2859C2 (ro) | 2006-07-31 |
Family
ID=35057534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| MDA20040198A MD2859C2 (ro) | 2004-08-12 | 2004-08-12 | Nanotehnologie de obţinere a materialelor nanostructurate şi nanocompozite (variante) |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| MD (1) | MD2859C2 (ro) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MD4294C1 (ro) * | 2013-02-06 | 2015-02-28 | Государственный Университет Молд0 | Procedeu de obţinere a nanocompozitelor pe bază de nanotuburi din dioxid de titan şi instalaţie pentru realizarea acestuia |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999001895A1 (en) * | 1997-07-01 | 1999-01-14 | Steag Rtp Systems Gmbh | Method for rapid thermal processing (rtp) of a silicon substrate |
| US6471848B1 (en) * | 1998-02-17 | 2002-10-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrodeposition method of forming an oxide film |
| US6569518B2 (en) * | 1998-11-06 | 2003-05-27 | Nanoproducts Corporation | Nanotechnology for electrochemical and energy devices |
-
2004
- 2004-08-12 MD MDA20040198A patent/MD2859C2/ro not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999001895A1 (en) * | 1997-07-01 | 1999-01-14 | Steag Rtp Systems Gmbh | Method for rapid thermal processing (rtp) of a silicon substrate |
| US6471848B1 (en) * | 1998-02-17 | 2002-10-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrodeposition method of forming an oxide film |
| US6569518B2 (en) * | 1998-11-06 | 2003-05-27 | Nanoproducts Corporation | Nanotechnology for electrochemical and energy devices |
| US6576355B2 (en) * | 1998-11-06 | 2003-06-10 | Nanoproducts Corporation | Nanotechnology for electronic and opto-electronic devices |
| US6607821B2 (en) * | 1998-11-06 | 2003-08-19 | Nanoproducts Corporation | Applications and devices based on nanostructured non-stoichiometric substances |
| US6607779B2 (en) * | 1998-11-06 | 2003-08-19 | Nanoproducts Corporation | Nanotechnology for photonic and optical components |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MD2859B1 (ro) | 2005-09-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2006091588A3 (en) | Etching chamber with subchamber | |
| TW200501222A (en) | Processing apparatus, manufacturing apparatus, processing method, and manufacturing method of electronic device | |
| TW200704819A (en) | Method for silicon based dielectric chemical vapor deposition | |
| TW200601482A (en) | Load port | |
| TW200516168A (en) | Chemical vapor deposition reactor | |
| BR9901287A (pt) | Aparelho de deposição por vapor quìmico para deposso de deposição por vapor quìmico. | |
| MY148631A (en) | Apparatus and methods for transporting and processing substrates | |
| MY158201A (en) | Multilayered material and method of producing the same | |
| TW200630504A (en) | Chemical vapor deposition reactor having multiple inlets | |
| EP1195450A3 (en) | Semiconductor processing system and method for controlling moisture level therein | |
| TW200704834A (en) | Silicon wafer and manufacturing method for same | |
| CN1218370C (zh) | 热处理装置 | |
| TW200746297A (en) | Method of fabrication semiconductor device | |
| KR890012378A (ko) | 실리콘계 보호막을 사용한 반도체 장치의 제조방법 | |
| Himmerlich et al. | Morphology and surface electronic structure of MBE grown InN | |
| TW200833886A (en) | Method for manufacture of III-V family chemical compound semiconductor | |
| WO2007048963A3 (fr) | Procede de traitement d'un substrat | |
| MD2859C2 (ro) | Nanotehnologie de obţinere a materialelor nanostructurate şi nanocompozite (variante) | |
| TW200634927A (en) | Method of manufacturing semiconductor device | |
| MD3029B1 (ro) | Procedeu de obtinere a senzorilor (variante) | |
| MD3894G2 (ro) | Sesizor de gaze în baza semiconductorilor halcogenici sticloşi | |
| Nakayama et al. | Super H2O-barrier film using Cat-CVD (HWCVD)-grown SiCN for film-based electronics | |
| WO2005019797A3 (en) | Colorimetric gas detector and windowed process chamber | |
| WO2008010949A3 (en) | Method and apparatus for forming an oxide layer on semiconductors | |
| Abdullin et al. | Effect of annealing and hydrogen plasma treatment on the luminescence and persistent photoconductivity of polycrystalline ZnO films |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FG4A | Patent for invention issued | ||
| KA4A | Patent for invention lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration) | ||
| MM4A | Patent for invention definitely lapsed due to non-payment of fees |