KR980010634A - 반도체 노광설비의 마스크 세정장치 및 그 방법 - Google Patents

Abstract

파티클(Particle)의 존재를 검사하는 검사부에 노즐(Nozzel)을 설치하여 검사 즉시 파티클의 제거가 이루어지도록 개선시킨 반도체 노광설비의 마스크 세정장치 및 그 방법에 관한 것이다.

본 발명은, 마스크를 노광부로 로딩하기 직전에 상기 바스크 상의 파티클의 유무를 검사하는 검사부가 구비된 반도체 노광설비의 마스크 세정장치 및 그 방법에 있어서, 상기 검사부에서 검사가 수행된 후 상기 마스크에 파티클을 제거하기 위하여 상기 마스크 상의 앞, 뒷면으로 가스를 분사할 수 있도록 복수 개의 분사 구멍으로 형성되는 노즐을 상기 검사부의 일측면의 상, 하측 모서리 부분에 설치하고, 마스크 상의 앞, 뒷면으로 직접 가스를 분사하여 상기 파티클을 제거함을 특징으로 하여 이루어진다.

따라서, 본 발명에 의하면 파티클의 존재가 확인되는 마스크를 사용하여 노광공정을 수행할 때 공정시간이 단축되어 생산성을 증대시키고, 또한 설비외부로 마스크를 노출시키지 않고 세정이 이루어져서 불량율이 감소되는 효과가 있다.

Description

반도체 노광설비의 마스크 세정장치 및 그 방법

본 발명은 반도체 노광설비의 마스크 세정장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 파티클 (Particle)의 존재를 검사하는 검사부에 노즐(Nozzel)을 설치하여 검사 즉시 파티클의 제거가 이루어지도록 개선시킨 반도체 노광설비의 마스크 세정장치 및 그 방법에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체 장치의 제조는 회로를 드로잉(Drawing)한 스크(Mask)로 사진식각술(Photolithogra-hy)을 이용하여 웨이퍼(Wafer)에 패턴(Pattern)을 형성시키는 것으로, 마스크의 표면에 파티클과 같은 오염원이 존재한다면 바로 불량과 직결된다.

그래서 웨이퍼에 패턴을 형성하기 위해서 광(光)을 전사하는 설비인 노광설비에는 노광이 이루어지는 장치로 로딩(Loading)되기 직전에 마스크에 파티클의 유무를 확인하는 검사부가 구성되어 있어, 항상 검사를 수행한 후 노광을 실시한다.

그러나 종래의 노광설비의 검사부는 마스크 상의 파티클의 존재여부만을 확인할 수 있었다.

즉, 파티클이 확인된 마스크를 노광설비에서 언로딩(Unloading)하여 파티클을 제거하는 설비로 이동시켜 파티클을 제거한 후 다시 노광설비로 로딩시켰다.

그래서 종래의 노광설비는 검사를 수행하는 공정에서 많은 시간이 소요되었고, 또한 외부로 마스크가 노출되어 손상을 입을 여지가 있었다.

따라서 종래의 노광설비는 파티클이 확인되는 마스크에 대해서는 공정 수행 시간이 많이 소요되어 생산성의 저하를 초래하였고, 마스크의 외부 노출로 인해 불량이 유발될 여지가 있는 문제점들이 있었다.

본 발명의 목적은, 공정 수행 시간의 단축 및 불량원인을 효과적으로 제거하여 생산성의 향상을 도모하기 위한 반도체 노광설비의 마스크 세정장치 및 그 방법을 제공하는 데 있다.

도1은 본 발명에 따른 반도체 노광설비의 마스크 세정장치 및 그 방법의 실시예를 나타내는 모식도이다.

도2는 도1의 노즐을 나타내는 도면이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10 : 마스크 12 : 검사부

14 : 스테이션 16 : 분사 구멍

18 : 노즐 20 : 배기부

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 노광설비의 마스크 세정장치는, 마스크를 노광부로 로딩하기 직전에 상기 마스크 상의 파티클의 유무를 검사하는 검사부가 구비된 반도체 노광설비에 있어서 상기 검사부에서 검사가 수행된 후 상기 마스크에 파티클을 제거하기 위하여 상기 마스크 상의 앞, 뒷면으로 가스를 분사할 수 있도록 복구 개의 분사구멍으로 형성되는 노즐이 상기 검사부의 일측면의 상,하측 모서리 부분에 설치되고, 상기 분사되는 가스 및 파티클을 배기하는 배기구가 상기 검사부의 상,하면에 설치됨을 특징으로 하여 이루어진다.

본 발명에 따른 반도체 노광설비의 마스크 세정방법은, 마스크를 노광부로 안내하기 직전에 상기 마스크의 파티클의 유무를 확인하는 검사부에서 파티클을 제거하기 위한 반도체 노광설비의 마스크 세정방법에 있어서, 상기 마스크에 파티클의 존재가 확인되면 상기 검사부의 일측면의 상, 하측 모서리 부분에 설치되는 노즐을 이용하여 마스크 상의 앞, 뒷면으로 직접 가스를 분사하여 상기 파티클을 제거함을 특징으로 하여 이루어진다.

이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도1은 본 발명에 따른 반도체 노광설비의 마스크 세정장치 및 그 방법의 실시예를 나타내는 모식도이고, 도2는 도1의 노즐을 나타내는 도면이다. 먼저, 도1은 노광을 수행하기 직전에 마스크(10) 상에 파티클의 존재를 검사하는 검사부(12) 및 검사가 이루어진 마스크(10)로 노광을 수행하는 장치로 로딩하기 직전에 대기하는 스테이션(Station)(14)으로 구성되어 있다.

그리고 검사부(12)의 일축면의 상, 하측 모서리 부분에 가스를 분사할 수 있도록 도2와 같이 복수 개의 분사 구멍(16)으로 형성되는 노즐(18)이 설치되어 있고, 또한 분사되는 가스와 가스 분사시 마스크(10)에서 제거되는 파티클을 설비 외부로 배기시키는 배기부(20)가 검사부(12)의 상, 하측면에 설치되어 있다.

본 발명으로 이루어진 검사부(12)에서는 검사를 수행하여 마스크(10) 상에 파티클의 존재가 확인되면 검사부(12)의 일측면 상, 하 모서리 부분으로 설치되어 있는 노즐(18)을 이용하여 마스크(10) 상의 앞, 뒷면으로 가스를 분사시켜 파티클을 제거한다.

여기서 노즐(18)을 통해 분사되는 가스는 질소(N2)가스를 이용한다.

그리고 검사부(12)의 상, 하면으로 배기부(20)가 설치되어 분사되는 가스와 마스크(10)에서 제거되는 파티클을 설비 외부로 배기시킨다.

이렇게 검사 및 세정이 수행된 마스크(10)로 노광을 수행하기 위하여 스테이션(20)으로 로딩하면 된다.

즉, 본 발명은 가스을 분사할 수 있는 노즐(18)을 검사부(12)에 설치하여 검사 즉시 세정이 이루어지도록 하는 것이다.

그러면 노광설비 외부에서 세정이 이루어지던 종래보다 공정 수행 시간이 많이 단축되고, 또한 불량원인을 검사부에 바로 제거함으로서 마스크가 노광설비 외부로 노츨되지 않는다,

따라서, 본 발명에 의하면 파티클의 존재가 확인되는 마스크를 사용하여 노광공정을 수행할 때 공정시간이 단축되어 생산성을 증대시키고, 또한 설비외부로 마스크를 노출시키지 않고 세정이 이루어져서 불량율이 감소되는 효과가 있다.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (2)

1. 마스크를 노광부로 로딩하기 직전에 상기 마스크 상의 파티클의 유뮤를 검사하는 검사부가 구비된 반도체 노광장비에 있어서, 상기 검사부에서 검사가 수행된 후 상기 마스크에 파티클을 제거하기 위하여 상기 마스크 상의 앞, 뒷면으로 가스를 분사할 수 있도록 복수 개의 분사 구멍으로 형성되는 노즐이 상기 검사부의 일측면이 상, 하측 모서리 부분에 설치되고, 상기 분사되는 가스 및 파티클을 배기하는 배기구가 상기 검사부의 상, 하면에 설치되어 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 노광설비의 마스크 세정장치.
2. 마스크를 노광부로 안내하기 직전에 상기 마스크 상의 파티클의 존재여부를 확인하는 검사부에서 파티클을 제거하기 위한 반도체 노광설비의 마스크 세정방법에 있어서, 상기 마스크에 파티클의 존재가 확인되면 상기 검사부의 일측면의 상, 하측 모서리 부분에 설치되는 노즐을 이용하여 마스크 상의 앞, 뒷면에 직접 가스를 분사하여 상기 파티클을 제거함을 특징으로 하는 반도체 노광장비의 마스크 세정방법.

   ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.