KR970077698A - 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법 - Google Patents

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배순훈
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Abstract

본 발명은 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법에 관한 것으로, 상기 방법은 실리콘 기판상에 형성된 복수개의 능동 소자를 보호하기 위한 보호층을 형성시키는 단계와, 상기 보호층을 식각 용액으로부터 보호하기 위한 식각 스톱층을 형성시키는 단계와, 상기 식각 스톱층상에 소정 형상의 희생층을 형성시키는 단계와, 상기 멤브레인상에 이소 컷팅부를 구비한 하부 전극을 형성시키는 단계와, 상기 하부 전극상에 변형부 및 상부 전극을 순차적으로 형성시켜서 미러 어레이를 형성시키는 단계와, 상기 미러 어레이를 구성하는 복수개의 층들을 상부로부터 순차적으로 식각시켜서 소정 형상의 액츄에이터를 형성시키는 단계와, 상기 액츄에이터를 캔틸레버 구조로 형성시키기 위하여 상기 희생층을 제거하는 단계로 이루어지며 상기 액츄에이터의 브리지를 형성하는 상기 희생층 패턴의 선폭 크기를 상기 이소 컷팅부의 선폭 크기보다 크게 유지시킴으로서 액츄에이터를 소정형상으로 패터닝시키기 위한 식각 공정시 멤브레인이 오버 에칭되는 것을 방지시켜서 능동 소자를 보호하기 위한 보호층의 화학적 손상을 제거하여 능동 소자가 누설 전류를 발생시키는 것을 방지시킴으로서 광로 조절 장치의 작동 효율을 향상시킨다.

Description

광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도(가) 내지 (다)는 본 발명에 따른 액츄에이터를 제조하기 위한 방법을 순차적으로 도시한 단면도.

Claims (10)

  1. 구동부(A)와 지지부(B)로 이루어진 캔틸레버 구조로 형성되고 브리지(C)에 의해서 인접하는 지지부(B)가 연결되어 있는 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법에 있어서, 실리콘 기판(410a)상에 형성된 복수개의 능동 소자를 보호하기 위한 보호층(410b)을 형성하는 단계와, 상기 보호층(410b)을 식각 용액으로부터 보호하기 위한 식각 스톱층(410c)을 형성시키는 단계와, 상기 식각 스톱층(410c)상에 소정 형상의 희생층(460)을 형성시키는 단계와, 상기 희생층(460) 및 희생층(460)의 패턴을 통하여 노출된 액티브 매트릭스(410)상에 멤브레인(420)을 형성시키는 단계와, 상기 멤브레인(420)상에 이소 컷팅부(I. C.)를 구비한 하부 전극(430)을 형성시키는 단계와, 상기 하부 전극(430)상에 변형부(440) 및 상부 전극(450)을 순차적으로 형성시킴으로서 복수개의 층들로 구성된 미러 어레이(M)를 형성시키는 단계와, 상기 미러 어레이(M)를 구성하는 복수개의 층들을 상부로부터 순차적으로 식각시켜서 소정 형상의 액츄에이터(400)를 형성시키는 단계와, 상기 액츄에이터(400)를 캔틸레버 구조로 형성시키기 위하여 상기 희생층(460)을 제거하는 단계로 이루어지며, 상기 액츄에이터(400)의 브리지(C)를 구성하는 상기 멤브레인(420)의 선폭 크기(D4)는 상기 이소 컷팅부(I. C.)의 선폭 크기(D2)보다 크게 유지되는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 이소 커팅부(I. C.)는 액츄에이터(400)의 브리지(C)상에 형성된 상기 하부 전극(430)의 일부를 반응성 이온 식각 공정에 의하여 제거함으로서 형성되는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 미러 어레이(M)를 구성하는 복수개의 층들은 이방성 식각 특성이 양호한 식각 공정에 의하여 소정 형상으로 식각되는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 미러 어레이(M)를 구성하는 복수개의 층들은 반응성 이온 식각 공정에 의하여 소정 형상으로 식각되는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 액츄에이터(400)의 브리지(C)를 구성하는 멤브레인(420)의 선폭 크기(D4)는 상기 브리지(C)의 선폭 크기를 한정하는 상기 희생층(460) 패턴의 선폭 크기(D1)보다 작게 유지되는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 이소 컷팅부(I. C.)의 선폭 크기(D2)는 상기 액츄에이터(400)의 브리지(C)를 구성하는 상부 전극(450)의 선폭 크기(D3)보다 크게 유지되는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 미러 어레이(M)를 구성하는 복수개의 층들을 식각 공정에 의하여 소정 형상으로 패터닝시킴으로서 형성된 액츄에이터(400)상에 보호막(470)을 형성시키는 공정을 부가적으로 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 보호막(470)은 상기 액츄에이터(400)의 브리지(C)를 구성하는 멤브레인(420)을 완전히 보호하도록 피복되는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법.
  9. 제7항에 있어서, 상기 보호막(470)은 불산 용액에 대한 양호한 내성을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 보호막(470)은 포토레지스트(PR)로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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