KR970076025A - 전자빔에 의한 다중 박막 형성 방법 - Google Patents

전자빔에 의한 다중 박막 형성 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 파장에 따른 빛의 반사율, 투과율, 편광상태 등의 광학적 특성을 주어진 목적에 맞게 변화시키는 방법으로 널리 사용되고 있는 광학 박막(optical thin film)의 두께를 적절하게 조절하여 형성할 수 있는 전자빔에 의한 다중 박막 형성 방법에 관한 것으로, 제1파장 영역 내의 기준 파장을 갖는 적어도 하나의 모노크로미터 및 적어도 하나의 광검출기를 구비하여 다중 박막을 형성하는 전자 빔을 사용한 다중 박막 형성 방법에 있어서, 상기 제1파장 영역을 벗어나는 제2파장 영역 내의 제2파장의 광에 대응하는 광학 특성을 갖도록 상기 다중 박막들의 두께를 (제2파장/임의의 제1정수 N1)로 형성하되, 상기 제2파장이 상기 제1파장 영역 내에 포함되는 파장에 대응하도록 하기 위하여 상기 제2파장을 임의의 제2정수 N2로 나눈 제1파장을 상기 모노크로메터의 기준 파장으로 설정하는 단계; 및 상기 기준 파장에 해당하는 박막의 두께를 N2/N1배 형성하는 단계를 포함한다.

Description

전자빔에 의한 다중 박막 형성 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 일반적인 전자빔에 의한 다중 박막 형성 장치의 개략적 구조도이고, 제3도는 본 발명에 따른 전자빔에 의한 다중 박막 형성 방법으로 형성된 다중 박막의 파장에 따른 광투과율을 나타내는 그래프이다.

Claims (1)

  1. 제1파장 영역 내의 기준 파장을 갖는 적어도 하나의 모노크로미터 및 적어도 하나의 광검출기를 구비하여 다중 박막을 형성하는 전자 빔을 사용한 다중 박막 형성 방법에 있어서, 상기 제1파장 영역을 벗어나는 제2파장 영역 내의 제2파장의 광에 대응하는 광학 특성을 갖도록 상기 다중 박막들의 두께를 (제2파장/임의의 제1정수 N1)로 형성하되, 상기 제2파장이 상기 제1파장 영역 내에 포함되는 파장에 대응하도록 하기 위하여 상기 제2파장을 임의의 제2정수 N2로 나눈 제2파장을 상기 모노크로메터의 기준 파장으로 설정하는 단계; 및 상기 기준파장에 해당하는 박막의 두께를 N2/N1배 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자빔에 의한 다중 박막 형성 방법.
    ※ 참고사항 ; 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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