KR930020178A - 분산 코팅된 에탈론 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
에탄올(10)에 소정의 스펙트럼 선을 선택적으로 통과시키기 위하여 코팅(12)가 제공된다. 에탈론은 제1주표면과 이에 대향하는 제2주표면을 가진 기판(14)를 포함한다. 에탈론은 또한 하나 이상의 주표면 상에 형성된 코팅, 양호하게는 루게이트 코팅(12)를 포함한다. 루게이트 코팅은 그 깊이에 따라 공간적으로 변화하는 굴절률 프로파일을 가진다. 그 프로파일은 광학 소자에 복사선 신호원의 분산 특성에 매치하는 규정된 분산 특성을 제공하기 위하여 선택된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2a도는 규정된 분산 특성을 가지도록 구성된 에탈론을 도시하는 도면.
제2b도는 비주기 대기 스펙트럼 선에 매치된 제2a도의 에탈론의 전송 피크를 도시하는 도면.
제3도는 루게이트의 굴절률 프로파일을 두께의 함수로 나타낸 그래프.
제4a도는 단일 파장에 사용되기 위한 루게이트를 도시한 도면.
제4b도는 파장의 밴드에 사용되기 위한 루게이트를 도시한 도면.
제4c도는 포락선의 영점에서 트렁게이트된 루게이트를 도시한 도면.
Claims (7)
- 규정된 분산 특성을 가지도록 에탈론을 제조하는 방법에 있어서, 소정의 파장을 가지는 복사선에 대하여 실질적으로 투명한 기판을 제공하는 단계, 입사 복사선에 소정 파장의 함수인 위상 전이를 일으키기 위하여 사인 파형 굴절률 변이의 주기를 변경하면서 사이파형 굴절률 변이의 위상을 변화시키는 단계를 포함하여 기판 상에 코팅을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 에탈론 제조 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 단계가 다수의 사인파형 굴절률 프로파일의 합인 공간적으로 변화하는 굴절률 프로파일 n(x)를 가지는 루게이트 코팅을 형성하되,의 형태로 표현되고,가 루게이트 코팅을 통한 평균 굴절률이고, ni는 i번째 파장에서의 피크 굴절률이며,이고,는 굴절률 변이의 개시 위상이며, x는 루게이트 코팅 내로의 거리이고, H는 유한 범위의 포락선 함수이며,가 i번째 파장에서 코팅의 반사율인 것을 특징으로 하는 루게이트 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 단계가 다수의 사인파형 굴절률 프로파일의 적분인 공간적으로 변화하는 굴절률 프로파일 n(x)를 가진 루게이트 코팅을 형성하되,로 표현되고,가 평균 굴절률과 동일하며이고,가 코팅 내의 내부각이며,는 원하는 반사율 R(K)를 달성하기 위한 코팅 내의 사이클의 횟수이며,은 단일 파장에 대하여로부터 굴절률의 피크의 편이고, φ(K)는 K의 함수로서 반사광의 위상이며, H는에 위치한 포락선 또는 아포다이징 함수로서 그 범위가 파장 λ에서 굴절률 변이의 영역을 정하는 것을 특징으로 하는 에탈론 제조 방법.
- 소정의 스펙트럼 선을 선택적으로 통과시키기 위한 에탈론에 있어서, 제1주표면 및 이에 대향하는 제2 주표면을 가지는 기판, 및 상기 기판의 상기 주표면 중 하나 이상의 표면 상에 형성된 코팅을 포함하되, 상기 코팅이 그 깊이에 따라 공간적으로 변화하는 굴절률의 프로파일을 가지고, 그 프로파일은 상기 에탈론에 복사선 신호원의 분산 특성에 매치하는 규정된 분산 특성을 가지도록 선택되는 것을 특징으로 하는 에탈론.
- 제4항에 있어서, 상기 코팅이 다수의 사인파형 굴절률 프로파일의 합인 공간적으로 변화하는 굴절률 프로파일 n(x)를 가지는 루게이트 코팅을 포함하되,의 형태로 표현되고, 이 때가 루게이트 코팅을 통한 평균 굴절률이고, ni는 i번째 파장에서의 피크 굴절률이며,이고,는 굴절률 변이의 개시 위상이고, x는 루게이트 코팅 내로의 거리이고, H는 유한 범위의 포락선 함수이며,가 i번째 파장에서 코팅의 반사율인 것을 특징으로 하는 에탈론.
- 제4항에 있어서, 상기 코팅이 다수의 사인파형 굴절률 프로파일의 합인 공간적으로 변화하는 굴절률 프로파일 n(x)를 가지는 루게이트 코팅을 포함하되,로 표현되고,가 평균 굴절률과 동일하며이고,가 코팅 내의 내부각이며,는 원하는 반사율 R(K)를 달성하기 위한 코팅 내의 사이클의 횟수이며,은 파장에 대하여로부터 굴절률의 피크의 편이 이며,는 K의 함수로서 반사광의 위상이며, H는에 위치한 포락선 또는 아포다이징 함수로서 그 범위가 파장 λ에서 굴절률 변이의 영역을 정하는 것을 특징으로 하는 에탈론.
- 소정의 파장을 가지는 복사성을 감지하는 장치에 있어서, 소정의 파장 또는 파장들을 가진 복사선을 수용하고 이를 통과시켜 전송하기 위하여 배치된 에탈론을 포함하되, 상기 에탈론이 제1 주표면 및 이에 대향하는 제2 주표면을 가지는 기판을 포함하고, 복사선은 상기 제1 주표면으로 입사되며, 상기 기판의 상기 주표면들 중 하나 이상의 표면 상에 형성된 분산 코팅을 포함하되, 상기 분산 코팅이 그 깊이에 따라 공간적으로 변화하는 굴절률 프로파일을 가지고, 상기 프로파일이 원하는 분산 특성에 매치되도록 선택되며, 상기 에탈론을 통과하는 소정의 파장 또는 파장들을 가진 복사선의 존재를 감지하기 위하여 상기 에탈론에 연관하여 배치되는 감지기 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 복사선 감지 장치.※ 참고사항 : 최초 출원된 내용에 의하여 공개하는 것임.
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