KR970073869A - 피가공물의 폴리싱 방법 및 장치 - Google Patents
피가공물의 폴리싱 방법 및 장치 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명에 따른 폴리싱 방법 및 상기 방법에 사용되는 소형화된 장치는 폴리싱 처리된 첨단기술 장비를 제조하기 위한 피 가공물의 효과적인 생산을 위해 제공된다. 폴리싱 방법은 피 가공 면을 폴리싱하기 위한 제 1단계 및 제 2단계를 포함하여 이루어진다. 제 1폴리싱 단계에서, 피 가공 면은 회전하고 있는 제 1폴리싱 공구의 연마 표면에 대하여 압압된다. 제 2단계서, 피 가공 면은 각각 피 가공 면에 대하여 평면 병진 운동으로 이동하는 제 2폴리싱 공구의 러빙 표면에 대하여 압압된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1도는 본 발명의 폴리싱 장치의 배치를 나타낸 전체 평면도이다.
Claims (22)
- 회전되는 제 1폴리싱 공구의 연마 표면에 피 가공물의 피 가공 면을 압압하여 상기 피 가공 면을 폴리싱 하는 제 1단계와, 피 가공 면에 대해 상대적으로 평면 병진 운동으로 이동되는 제 2폴리싱 공구의 러빙 평면에 상기 피 가공 면을 압압하여 상기 피 가공 면을 가공 처리하는 제 2단계를 포함하여 구성되는 피 가공물의 폴리싱 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 제 2단계에서, 상기 상대적인 병진 운동은 일정 패턴의 순환운동인 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 제 2단계에서, 상기 상대적인 병진 운동은 상기 제 2폴리싱 공구의 이동에 의해 제공되는 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 제 1항에 있어서, 제 2단계에서, 상기 상대적인 병진 운동은 무작위 운동인 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 제 4항에 있어서, 상기 제 2단계에서, 상기 상대적인 병진 운동은 적어도 두 개의 직선 운동의 합 벡터로써 제공되는 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 제 1폴리싱 공구의 연마 표면에 대하여 상기 피공면을 압압하는 압력은 200∼500g/㎠이고 상기 제 2폴리싱 공구의 러빙 표면에 대하여 상기 피 가공 면을 압압하는 압력은 0∼200g/㎠인 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 제 2항에 있어서, 상기 제 2단계에서 상기 피 가공물과 상기 폴리싱 공구 중 적어도 하나는 상기 순환 병진 운동 주기를 상당히 초과하는 회전 주기로 회전되는 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 제 2단계에서, 폴리싱 용액으로는 순수한 물이 사용되는 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 연마표면을 가지면 상기 연마 표면을 따라 회전하는 제 1폴리싱 공구와, 상기 연마 표면에 피 가공물의 가공 면을 압압하기 위한 압압 수단을 구비한 제 1폴리싱 부와 ; 상기 피 가공 면에 대하여 평면 병진 운동으로 이동 가능한 제 2폴리싱 공구와, 상기 제 2폴리싱 공구의 러빙 표면에 상기 피 가공 면을 압압하기 위한 압압 수단을 구비하는 제 2폴리싱 부를 포함하여 구성되는 폴리싱 장치.
- 제 9항에 있어서, 상기 제 2폴리싱 부는, 순환 병진 운동을 할 수 있도록 상기 제 2폴리싱 공구를 지지하는 지지 부와, 상기 지지부가 상기 원형 병진 운동을 유지할 수 있도록 해주는 구동 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 제10항에 있어서, 상기 구동 수단은, 상기 구동 수단의 구동 원의 회전축에 대하여 편심된 축을 가진 구동 단 부재를 포함하고, 상기 지지 부는 상기 구동 단 부재와 작동 상 연계되는 공동(캐버티)을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 제 9항에 있어서, 상기 제 1폴리싱 공구의 연마 표면에 대하여 상기 피공면을 압압하기 위한 압력은 200∼500g/㎠이고, 상기 제 2폴리싱 공구의 러빙 표면에 상기 피 가공 면을 압압하기 위한 압력은 0∼200g/㎠인 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 지지베이스와, 폴리싱 공구를 부착하기 위한 상부 표면을 구비하는 표면 판과, 순환 병진 운동의 가능하도록 상기 표면 판을 지지하는 지지 부와, 상기 표면 판이 상기 순환 병진 운동을 유지하도록 하는 구동 수단을 포함하여 구성되는 폴리싱 장치.
- 제 13항에 있어서, 상기 지지 부는, 상기 표면 판의 둘레 주위의 3개소 이상에서, 상기 표면 판을 지지하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 제 13항에 있어서, 상기 지지 부는, 표면 판과 상기 지지 베이스 위의 형성된 공동에 각각 위치되도록 상호 편심된 축을 갖는 한 쌍의 샤프트를 구비한 연결 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 제 13항에 있어서, 상기 표면 판의 상기 상부 표면은 폴리싱 용액 공급 유로의 개구를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 제 13항에 있어서, 상기 구동 수단은, 상기 구동 수단의 구동 원의 회전축에 대하여 편심된 축을 가진 구동단 부재를 포함하고, 상기 표면 판은 상기 구동 단 부재와 작동 상 연계되는 공동을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 지지 베이스와, 폴리싱 공구를 부착하기 위한 상부 표면을 구비한 표면 판과, 제 1방향으로 직선 병진 운동을 할 수 있도록 상기 표면 판을 지지하는 제 1지지 부와, 상기 제 1방향과는 다른 제2방향으로 직선 병진 운동을 할 수 있도록 상기 제1지지 부를 지지하는 제 2지지 부와, 상기 직선 병진 운동을 유지하도록 상기 표면 판과 상기 제1 및 제 2지지 부를 구동하는 구동 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 회전되는 제 1폴리싱 공구의 연마 표면에 피 가공물의 피 가공 면을 압압하여 상기 피 가공 면을 폴리싱하는 제1단계와, 상기 피 가공 면에 대하여 실질적인 표면 병진 운동으로 이동되는 제 2폴리싱 공구의 러빙 표면에 대하여 상기 피 가공 면을 압압하여 상기 가공 면을 가공 처리하는 제 2단계를 포함하여 구성되는 피 가공물의 폴리싱 방법.
- 제 19항에 있어서, 상기 제 2폴리싱 공구는 상기 가공 면에 대하여 상대적인 회전이 거의 없이 이동되는 것을 특징으로 하는 폴리싱 방법.
- 연마 표면을 가지며 상기 연마 표면을 따라 회전하는 제 1폴리싱 공구와, 상기 연마 표면에 피 가공물의 피 가공 면을 압압하기 위한 압압수단을 구비하는 제 1폴리싱 부와 ; 상기 피 가공 면에 대하여 실질적으로 평면 병진 운동으로 이동 가능한 제 2폴리싱 공구와 제 2폴리싱 공구의 러빙 표면에 상기 가공 면을 압압하기 위한 압압수단을 구비하는 제 2폴리싱 부를 포함하여 구성되는 폴리싱 장치.
- 제 21항에 있어서, 상기 제 2폴리싱 공구는 상기 피 가공 면에 대하여 상대적인 회전이 거의 없이 이동되는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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