KR970072287A - 반도체 제조공정간 정체관리시스템 및 정체제어방법 - Google Patents
반도체 제조공정간 정체관리시스템 및 정체제어방법 Download PDFInfo
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Abstract
단위 수량의 웨이퍼가 서로 다른 두 공정설비간을 이동할 때 소요되는 정체시간을 자동으로 체크하여 웨이퍼의 로딩을 제어하는 반도체 제조공정간 정체관리시스템 및 정체관리방법에 관한 것이다.
본 발명은, 로트 단위의 웨이퍼 이송을 제어하는 제어부, 웨이퍼의 표면을 처리하는 클리너 및 표면처리된 웨이퍼가 이송되면 특정 공정을 수행하는 확산로를 구비하여 정체시간이 일정시간 이송요소된 웨이퍼에 대하여 클리너로 재이송되도록 구성됨으로써, 클리너에서 표면처리된 로트에 대한 고유코드와 그에 연관된 클리너에서의 공정 종료시각을 저장하는 제1단계 및 확산로로 웨이퍼가 투입되기전 해당 고유번호를 백업하여 이송에 소요된 정체시간을 계산하여 정체시간이 소정 기준시간 이상인 웨이퍼를 클리너로 회송시키는 제2단계로 이루어진다.
따라서, 특정 공정을 수행하기에 최적의 상태로 웨이퍼가 투입되므로 생산성 및 수율이 향상되며, 정확한 정체관리로 인하여 자동화되는 공정시스템의 효율적인 관리가 가능한 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 반도체 공정간 정체관리시스템의 실시예를 나타내는 블록도이다.
Claims (11)
- 반도체 제조용 제1공정설비; 반도체 제조용 제2고정설비; 및 소정 단위량의 특정 웨이퍼에 대하여 상기 제1공정설비로부터 상기 제2공정설비의 이송에 정체된 시간이 소정 기준정체시간 이상이면 상기 웨이퍼를 상기 제1공정설비로 회송시켜서 재가공토록 제어하는 제어수단을 구비함을 특징으로 하는 반도체 제조공정간 정체 관리시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 제1공정설비는 클리너이고, 상기 제2공정설비는 확산로로 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 제고공정간 정체관리시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 확산로는 확산공정을 수행하도록 이루어진 것임을 특징으로 하는 상기 반도체 제조 공정간 정체관리시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 확산로는 산화공정을 수행하도록 이루어진 것임을 특징으로 하는 상기 반도체 제조 공정간 정체관리시스템.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1공정설비와 상기 제2공정설비 사이에 상기 웨이퍼를 대기상태로 로딩하는 로딩부가 더 구성되고, 상기 제어수단의 제어로 로딩중인 상기 웨이퍼가 상기 기준정체시간을 초과하여 상기 로딩부에 위치하면 상기 제1공정설비로 상기 웨이퍼를 회송시키도록 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 제조공정간 정체관리시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 제어수단은 상기 웨이퍼의 웨이퍼별 구분을 위하여 마킹되는 제1코드에 상기 제1공정설비에서의 공정완료시각을 동재함으로써, 상기 소정 기준정체시간은 현재시각과 상기 공정완료시각의 차로 계산되어 제어되도록 이루어짐을 특정으로 하는 상기 반도체 제조공정간 정체관리시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 제어수단은 상기 웨이퍼의 로트별 구분을 위하여 마킹되는 제1코드에 상기 제1공정 설비에서의 공정완료시각을 동재함으로써, 상기 소정 기준정체시간은 현재시각과 상기 공정완료시각의 차로 계산되어 제어되도록 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 제조공정간 정체관리시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 제어수단에 상기 웨이터의 대기시간이 상기 기준정체시간을 지나면 경보동작하는 경보수단을 더 부가하여 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 제조공정간 정체관리시스템.
- 로트의 이송을 제어하는 제어부, 상기 로트별 웨이퍼의 표면을 처리하는 클리너 및 상기 웨이퍼가 표면처리된 후 상기 로트가 이송되면 특정 공정을 수행하는 확산로를 구비하여, 상기 클리너에서 상기 확산로의 이송을 제어하는 반도체 제공정간 정체관리방법에 있어서, 상기 클리너에서 표면처리된 로트에 대한 고유코드와 그에 연관된 상기 클리너에서의 공정종료시각을 저장하는 제1단계; 및 상기 확산로로 상기 로트가 투입되기전 해당 로트번호를 백업하여 이송에 소요된 정체시간을 계산하여 상기 정체시간이 소정기준시간 이상이면 상기 로트를 상기 클리너로 회송시키는 제2단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 제조공정간 정체제어방법.
- 제9항에 있어서, 상기 클리너에서 상기 확산로로 로딩되는 중 상기 공정종료시각을 체크하여 정체시간이 소정기준시간 이상이면 상기 클리너로 해당 로트를 회송시키는 제3단계를 더 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 제조공정간 정체제어방법.
- 제9항에 있어서, 상기 제2단계는 해당 로트의 상기 정체시간이 소정기준시간 이상이면 상기 확산로의 동작을 인터로크(Interlock) 시킴을 특징으로 하는 상기 반도체 제조공정간 정체제어방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019960012741A KR100223961B1 (ko) | 1996-04-24 | 1996-04-24 | 반도체 제조공정간 정체관리시스템 및 정체제어방법 |
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KR1019960012741A KR100223961B1 (ko) | 1996-04-24 | 1996-04-24 | 반도체 제조공정간 정체관리시스템 및 정체제어방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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KR970072287A true KR970072287A (ko) | 1997-11-07 |
KR100223961B1 KR100223961B1 (ko) | 1999-10-15 |
Family
ID=19456610
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KR1019960012741A KR100223961B1 (ko) | 1996-04-24 | 1996-04-24 | 반도체 제조공정간 정체관리시스템 및 정체제어방법 |
Country Status (1)
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KR (1) | KR100223961B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100603591B1 (ko) * | 1999-06-30 | 2006-07-24 | 주식회사 하이닉스반도체 | 웨이퍼 카세트의 장비간 반송방법 |
CN118197908A (zh) * | 2024-05-20 | 2024-06-14 | 天水天光半导体有限责任公司 | 半导体磷扩散工艺的控制方法和装置 |
-
1996
- 1996-04-24 KR KR1019960012741A patent/KR100223961B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100603591B1 (ko) * | 1999-06-30 | 2006-07-24 | 주식회사 하이닉스반도체 | 웨이퍼 카세트의 장비간 반송방법 |
CN118197908A (zh) * | 2024-05-20 | 2024-06-14 | 天水天光半导体有限责任公司 | 半导体磷扩散工艺的控制方法和装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100223961B1 (ko) | 1999-10-15 |
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