KR970072051A - 반도체 수평형 반응로의 가스 유입부 - Google Patents
반도체 수평형 반응로의 가스 유입부 Download PDFInfo
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Abstract
수평형 반응로의 가스 유입부의 구조를 개선하여 웨이퍼 상에 형성되는 막질의 균일성을 향상시킨 반도체 수평형 반응로의 가스 유입부에 관한 것이다.
본 발명은 제1 및 제2플랜지와의 결합에 의해서 진공상태가 유지되는 외부튜브와 상기 외부 튜브의 내부로 이격되어 내부 튜브가 구성되는 반도체 수평형 반응로에 있어서, 상기 제1플랜지를 관통하여 상기 내부 튜브 내측으로 연장된 분사구가 상기 내부 튜브의 내부게 구성됨을 특징으로 한다.
따라서, 반응가스가 내부 튜브의 웨이퍼 상에 충분히 공급되어 웨이퍼 상의 막질이 균일하게 형성되는 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 반도체 수평형 반응로의 가스 유입부의 실시예를 나타내는 단면도이다.
Claims (1)
- 제1 및 제2플랜지와의 결합에 의해서 진공상태가 유지되는 외부 튜브와 상기 외부 튜브의 내부로 이격되어 내부 튜브가 구성되는 반도체 수평형 반응로에 있어서, 상기 제1플랜지를 관통하여 상기 내부 튜브 내측으로 연장된 분사구가 상기 내부 튜브의 내부에 구성됨을 특징으로 하는 반도체 수평형 반응로의 가스 유입부.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960011312A KR970072051A (ko) | 1996-04-15 | 1996-04-15 | 반도체 수평형 반응로의 가스 유입부 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960011312A KR970072051A (ko) | 1996-04-15 | 1996-04-15 | 반도체 수평형 반응로의 가스 유입부 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970072051A true KR970072051A (ko) | 1997-11-07 |
Family
ID=66223413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960011312A KR970072051A (ko) | 1996-04-15 | 1996-04-15 | 반도체 수평형 반응로의 가스 유입부 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970072051A (ko) |
-
1996
- 1996-04-15 KR KR1019960011312A patent/KR970072051A/ko not_active Application Discontinuation
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