KR970063419A - 왜곡 검사용 래티클 및 이를 이용한 렌즈의 왜곡 검사 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 왜곡 검사용 래티클 및 이를 이용한 렌즈의 왜곡 검사 방법에 관한 것으로, 스테이지의 이동으로 인한 검사의 정확도 저하를 방지하기 위하여 다수의 모 버니어가 형성된 제1래티클 및 다수의 자 버니어가 형성된 제2래티클을 각각 이용하여 웨이퍼상에 다수의 모 버니어 패턴 및 자 버니어 패턴을 각각 형성하되, 상기 모 버니어 패턴의 중앙부에 상기 자 버니어 패턴이 형성되도록 하므로써 노광 장비에 장착된 렌즈의 왜곡정도를 빠르고 정확하게 검사할 수 있도록 한 왜곡 검사용 래티클 및 이를 이용한 렌즈의 왜곡 검사 방법에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 제1래티클의 평면도.
제3도는 본 발명에 따른 제2래티클의 평면도.
Claims (12)
- 왜곡 검사용 래티클에 있어서, 제1기판의 중앙부에 하나의 모 버니어가 형성되며, 상기 모 버니어를 지나는 상기 제1기판의 가로 및 세로 중심선과 양 대각선상에 또 다른 다수의 모 버니어가 각각 일정 거리 이격되어형성된 제1래티클과, 제2기판의 중앙부에 하나의 자 버니어가 형성되며, 상기 자 버니어를 지나는 상기 제2기판이 가로 및 세로 중심선과 양 대각선상에 또 다른 다수의 자 버니어가 각각 일정 거리 이격되어 형성된 제2래티클로 이루어지는 것을 특징으로 하는 왜곡 검사용 래티클.
- 제1항에 있어서, 상기 모 버니어 및 자 버니어는 서로 중첩될 수 있도록 형성된 것을 특징으로 하는 왜곡 검사용 래티클.
- 제1항에 있어서, 상기 모 버니어 포지티브 패턴으로 형성되며, 상기 자 버니어는 네가티브 패턴으로 형성된 것을 특징으로 하는 왜곡 검사용 래티클.
- 제1항에 있어서, 상기 모 버니어는 네가티브 패턴으로 형성되며, 상기 자 버니어는 포지트브 패턴으로 형성된 것을 특징으로 하는 왜곡 검사용 래티클.
- 렌지의 왜곡 검사 방법에 있어서, 감광막이 형성된 웨이퍼를 렌즈의 왜곡을 검사할 노광 장비의 스테이지 상에 장착시키는 단계와, 상기 단계로부터 제1가판의 중앙부에 하나의 모 버니어가 형성되며, 상기 모 버니어를 지나는 상기 제1기판의 가로 및 세로 중심선과 양 대각선상에 또 다른 다수의 모버니어가 각각 일정 거리 이격되어 형성된 제1래티클을 이용하여 상기 감광막을 노광시키는 관계와, 상기 단계로부터 제2기판의 중앙부에 하나의 자 버니어가 형성되며, 상기 자 버니어를 지나는 상기 제2기판의 가로 및 세로 중심선과 양대각선상에 또 다른 다수의 자버니어가 각각 일정 거리 이격되어 형성된 제2래티클을 이용하여 상기 감광막을 노광시키는 단계와, 상기 단계로부터 상기 감광막을 현상시켜 상기 웨이퍼상에 다수의 모 버니어 패턴이 형성되며, 상기 각 모 버니어 패턴내에 자 버니어 패턴이 각각 형성되도록 하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 렌즈의 왜곡 검사 방법.
- 제5항에 있어서, 상기 모 버니어 및 자 버니어는 서로 중첩될 수 있도록 형성된 것을 특징으로 하는 렌즈의 왜곡 검사 방법.
- 제5항에 있어서, 상기 모 버니어 패턴은 포지티브 패턴으로 형성되며, 상기 자 버니어 패턴은 네가티브 패턴으로 형성된 것을 특징으로 하는 렌즈의 왜곡 검사 방법.
- 제5항에 있어서, 상기 모 버니어 패턴은 네가티브 패턴으로 형성되며, 상기 자 버니어 패턴은 포지티브 패턴으로 형성된 것을 특징으로 하는 렌즈의 왜곡 검사 방법.
- 렌즈의 왜곡 검사 방법에 있어서, 감광막이 형성된 웨이퍼를 노광 장비의 스테이지상에 장착시키는 단계와, 상기 단계로부터 제1기판의 중앙부에 하나의 모 버니어가 형성되며, 상기 모 버니어를 지나는 상기 제1기판의 가로 및 세로 중심선과 양대각선상에 또 다른 다수의 모 버니어가 각각 일정 거리 이격되어 형성된 제1래티클을 이용하여 상기 감광막을 노광시키는 단계와, 상기 단계로부터 상기 감광막을 현상시켜 상기 웨이퍼상에 다수의 모 버니어 패턴이 형성된 기준 웨이퍼를 제작하는 단계와, 상기 단계로부터 상기 기준 웨이퍼를 렌즈의왜곡을 검사할 노광 장비의 스테이지상에 장착시키는 단계와, 상기 단계로부터 제2기판의 중앙부에 하나의 자버니어가 형성되며, 상기 자 버니어를 지나는 상기 제2기판의 가로 및 세로 중심선과 양대각선상에 또 다른다수의 자 버니어가 각각 일정 거리 이격되어 형성된 제2래티클을 이용하여 상기 모 버니어 패턴을 노광시키는단계와, 상기 단계로부터 현상 공정을 실시하여 상기 각 모 버니어 패턴내에 자 버니어 패턴이 각각 형성되도록하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 렌즈의 왜곡 검사 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 모 버니어 및 자 버니어는 서로 중첩될 수 있도록 형성된 것을 특징으로 하는 렌즈의 왜곡 검사 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 모 버니어 패턴은 포지티브 패턴으로 형성되며, 상기 자 버니어 패턴은 네가티브 패턴으로 형성된 것을 특징으로 하는 렌즈의 왜곡 검사 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 모 버니어 패턴은 네가티브 패턴으로 형성되며, 상기 자 버니어 패턴은 포지티브 패턴으로 형성된 것을 특징으로 하는 렌즈의 왜곡 검사 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960004789A KR970063419A (ko) | 1996-02-27 | 1996-02-27 | 왜곡 검사용 래티클 및 이를 이용한 렌즈의 왜곡 검사 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960004789A KR970063419A (ko) | 1996-02-27 | 1996-02-27 | 왜곡 검사용 래티클 및 이를 이용한 렌즈의 왜곡 검사 방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970063419A true KR970063419A (ko) | 1997-09-12 |
Family
ID=66222119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960004789A KR970063419A (ko) | 1996-02-27 | 1996-02-27 | 왜곡 검사용 래티클 및 이를 이용한 렌즈의 왜곡 검사 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970063419A (ko) |
-
1996
- 1996-02-27 KR KR1019960004789A patent/KR970063419A/ko not_active Application Discontinuation
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