KR970030520A - 반도체 웨이퍼 건조장치의 업, 다운 스테이지 - Google Patents
반도체 웨이퍼 건조장치의 업, 다운 스테이지 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 상면에 캐리어의 하부를 지지하기 위한 지지부가 형성된 반도체 웨이퍼 건조장치의 업, 다운 스테이지에 관한 것으로, 상기 캐리어의 안착시 캐리어내의 웨이퍼를 소정높이 들어올려 캐리어의 하측부분의 슬롯으로부터 웨이퍼를 이격시키는 스페이스 바(Space Bar)가 캐리어의 안착부위에 형성되고, 상기 지지부중 캐리어의 하부측면을 지지하는 지지부와 상기 스페이스 바가 웨이퍼의 후면쪽으로 점점 낮아지도록 경사지게 형성되어 캐리어가 소정각도 기울어진 상태로 놓여지게 구성된 것이다. 따라서 캐리어의 슬롯에 웨이퍼의 후면이 접촉되고 캐리어의 하측 슬롯으로부터 웨이퍼의 하단부가 이격되어 접촉부위가 감소됨으로써 웨이퍼에 생성되는 파티클이 최소한으로 감소되어 수율이 향상되는 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 업, 다운 스테이지에 캐리어가 놓여진 상태의 정면도이다.
제4도는 제3도의 B-B선 확대 단면도이다.
Claims (5)
- 상면에 캐리어의 하부를 지지하기 위한 지지부가 형성된 반도체 웨이퍼 건조장치의 업, 다운 스테이지에 있어서, 상기 캐리어의 안착시 캐리어내의 웨이퍼를 소정높이 들어올려 캐리어의 하측부분의 슬롯으로부터 웨이퍼를 이격시키는 스페이스 바(Space Bar)가 캐리어의 안착부위에 형성됨을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 건조장치의 업, 다운 스테이지.
- 제1항에 있어서, 상기 지지부중 캐리어의 하부 측면을 지지하는 지지부와 상기 스페이스 바가 웨이퍼의 후면쪽으로 점점 낮아지도록 경사지게 형성되어 캐리어가 소정 각도 기울어진 상태로 놓여지게 됨을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 건조장치의 업, 다운 스테이지.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 스페이스 바의 상면에 홈이 형성됨을 특징으로 하는 상기 반도체 웨이퍼 건조장치의 업, 다운 스테이지.
- 제3항에 있어서, 상기 홈중앙에 스페이스 바를 관통하는 적어도 하나의 배출공이 형성됨을 특징으로 하는 상기 반도체 웨이퍼 건조장치의 업, 다운스테이지.
- 제3항에 있어서, 상기 스페이스 바는 테프론으로 제조됨을 특징으로 하는 상기 반도체 웨이퍼 건조장치의 업,다운 스테이지.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950042318A KR0156314B1 (ko) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 반도체 웨이퍼 건조장치의 업,다운 스테이지 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950042318A KR0156314B1 (ko) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 반도체 웨이퍼 건조장치의 업,다운 스테이지 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970030520A true KR970030520A (ko) | 1997-06-26 |
| KR0156314B1 KR0156314B1 (ko) | 1998-12-01 |
Family
ID=19434752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950042318A KR0156314B1 (ko) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 반도체 웨이퍼 건조장치의 업,다운 스테이지 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0156314B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101463922B1 (ko) * | 2013-07-16 | 2014-11-19 | 오진성 | 기판 건조장치 |
-
1995
- 1995-11-20 KR KR1019950042318A patent/KR0156314B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR0156314B1 (ko) | 1998-12-01 |
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