KR970023698A - 수직형 이온 주입기 - Google Patents

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KR970023698A
KR970023698A KR1019950036906A KR19950036906A KR970023698A KR 970023698 A KR970023698 A KR 970023698A KR 1019950036906 A KR1019950036906 A KR 1019950036906A KR 19950036906 A KR19950036906 A KR 19950036906A KR 970023698 A KR970023698 A KR 970023698A
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KR1019950036906A
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권창헌
Original Assignee
김주용
현대전자산업주식회사
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Abstract

본 발명은 물리적 에너지를 이용하여 반도체 웨이퍼에 불순물을 주입하는 이온 주입기에 관한 것으로, 이온 소스부로부터 발생되어 엔드 스테이션부의 웨이퍼를 향하여 주사되는 이은 빔의 경로를 수직으로 세워 구성하고, 이온 주입이 이루어지는 엔드 스테이션부는 청정실에, 그 나머지 이온소스부와 빔 라인부는 하부의 플레넘에 배치한 것을 특징으로 하는 수직형 이온 주입기를 제공한다. 이와 같은 본 발명에 의하면, 정비의 설치시 청정실을 차지하는 공간을 대폭 줄일 수 있으므로 장비의 레이아웃이 용이해지고, 또 타장비의 레이 아웃에 효과가 있으며, 청정실의 공사 비용과 유지 비용을 절감시킬 수 있다. 또한 장비의 유지 보수를 청정설과 격리시켜 할 수 있으므로 청정실의 청정도 유지에 큰 잇점이 있다. 또한 금속성 파티클이 웨이퍼로 도달되지 않고 중력에 의해 하부로 떨어지게 되므로 금속성 부유물로 인한 비정상 이온 주입을 방지할 수 있어, 수율 향상에 큰 효과가 있으며, 로우 에너지 이온주입 공정시에도 이온 빔 경로가 중력의 영향을 받지 않게 되므로 공정의 정확성을 기할 수 있고, 이로 인한 새로운 공정의 개발이 가능하게 되는 부수적인 효과도 있다.

Description

수직형 이온 주입기
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 수직형 이온 주입기의 레이 아웃 구성도.

Claims (2)

  1. 이온 빔의 발생원인 이온 소스부, 빔 라인부 및 피공정체인 웨이퍼가 위치하여 이온 주입공정이 이루어지는 엔드 스테이션부를 구비하는 이온 주입기로서, 상기 이온 소스부로부터 발생되어 엔드 스테이션부의 웨이퍼를 향하여 주사되는 이온 빔의 경로가 지면에 대하여 수직하게 구성되는 것을 특징으로 하는 수직형 이온 주입기.
  2. 제1항에 있어서, 상기 엔드스테이션부는 상부의 청정실에, 그 나머지 이은소스부와 빔 라인부는 하부의 플레넘에 배치된 것을 특징으로 하는 수직형 이온 주입기.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950036906A 1995-10-24 1995-10-24 수직형 이온 주입기 KR970023698A (ko)

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5943520A (ja) * 1982-09-03 1984-03-10 Agency Of Ind Science & Technol マスクレスイオン注入装置
JPH0221555A (ja) * 1988-07-08 1990-01-24 Nec Yamagata Ltd イオン注入装置
JPH0414817A (ja) * 1990-05-09 1992-01-20 Kawasaki Steel Corp イオン打ち込み装置
JPH0696713A (ja) * 1992-09-11 1994-04-08 Hitachi Ltd イオンビームデポジション装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5943520A (ja) * 1982-09-03 1984-03-10 Agency Of Ind Science & Technol マスクレスイオン注入装置
JPH0221555A (ja) * 1988-07-08 1990-01-24 Nec Yamagata Ltd イオン注入装置
JPH0414817A (ja) * 1990-05-09 1992-01-20 Kawasaki Steel Corp イオン打ち込み装置
JPH0696713A (ja) * 1992-09-11 1994-04-08 Hitachi Ltd イオンビームデポジション装置

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