KR970022550A - 화학 증폭형 레지스트형 베이스 수지 및 그 제조방법 - Google Patents

화학 증폭형 레지스트형 베이스 수지 및 그 제조방법 Download PDF

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KR970022550A
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malononitrile
amplified resist
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최상준
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김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 우수한 콘트라스트를 나타낼 수 있는 화학 증폭형 레지스트형 베이스 수지와 그의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지는 용해억제 그룹으로서 말로노니트릴을 도입하는데, 이러한 베이스 수지는 노광 공정을 거치면서 두 개의 시안기가 가수분해 반응에 의해 두 개의 카르복실기로 전환됨으로써 현상액에 대하여 쉽게 용해될 수 있게 된다. 이러한 이유로 인하여, 베이스 수지의 노광 전, 후의 용해도 차이가 현저해짐에 따라 리소그라피 공정시에 우수한 콘트라스트를 얻을 수 있으며, 형성된 패턴의 변형이 적어 높은 해상도를 얻을 수 있게 된다.

Description

화학 증폭형 레지스트형 베이스 수지 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (4)

  1. 하기 화학식(1)로 표시되는 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지.
    R은 -CH2OH 또는 -OH이다.
  2. 하기 일반식(Ⅱ)의 말로노니트릴을 유기용매에 용해시키는 단계; 상기 용액에 상기 말로노니트릴의 2배몰에 해당하는 탄산칼륨을 가하여 반응시킨후, 상기 말로노니트릴과 동일 몰의 클로로메틸스티렌을 서서히 가하는 단계; 상기의 반응 혼합물을 60 내지 80℃에서 10 내지 15시간 동안 반응시켜 하기의 모노머(Ⅱ)을 수득하는 단계; 하기 일반식(Ⅳ)의 모노머를 제조하는 단계; 및 상기 모노머(Ⅲ)과 모노머(Ⅳ)를 1,4-디옥산에 용해시킨 다음, 여기에 중합개시제를 첨가하여 통상의 중합반응에 따라 공중합시킴을 특징으로 하는 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지의 제조방법.
    상기 식에서, R은 상기 정의된 바와 동일하다.
  3. 제2항에 있어서, 말로노니트릴을 용해시키기 위해 사용되는 유기용매가 아세토니트릴임을 특징으로 하는 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지의 제조방법.
  4. 제2항에 있어서, 중합개시제가 아조비스이소부티로니트릴(AIBN)인 것을 특징으로 하는 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100316974B1 (ko) * 1999-02-19 2001-12-22 주식회사 동진쎄미켐 화학 증폭 레지스트 수지
KR100316971B1 (ko) * 1999-02-19 2001-12-22 주식회사 동진쎄미켐 화학 증폭 레지스트 수지
KR100316972B1 (ko) * 1999-02-19 2001-12-22 주식회사 동진쎄미켐 화학 증폭 레지스트 수지
KR100316973B1 (ko) * 1999-02-19 2001-12-22 주식회사 동진쎄미켐 화학 증폭 레지스트 수지

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