KR970008390A - 습식처리방법 및 처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 목적은 피처리물을 세정할 때에, 필요 최소한의 약품사용량으로 또 필요 최소한의 공정으로, 또한 종래보다 높은 세정도로 습식처리할 수 있는 습식처리방법 및 처리장치를 제공하는데 있는 것으로, 특히 Ce제거능력이 우수하다.
피처리물을, 소정의 전기분해장치에 순수 또는 초순수를 도입하여 전해시켜 얻은 양극수 또는 음극수를 사용하여 습식처리하는 방법으로, 습식처리는 상기 양극수 또는 음극수에 소정의 전해질을 첨가한 후에 30㎑ 이상의 초음파를 조사하면서 행하는 것을 특징으로 한다.

Description

습식처리방법 및 처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (18)

  1. 소정의 전기분해장치에 순수 또는 초순수를 도입하고 전해시켜 얻은 양극수 또는 음극수에 소정의 전해질을 첨가한 후, 30㎑ 이상의 초음파를 조사하면서 피처리물을 습식처리하는 것을 특징으로 하는 습식처리방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 피처리물은 반도체 기체, 자성체 기체 또는 액정표시장치용 기체인 것을 특징으로 하는 습식처리방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 습식처리방법이 상기 양극수 또는 음극수를 저장 또는 유통시키는 용기내에 피습식 처리물을 침지한 상태에서 행하는 습식처리방법이고, 상기 초음파 조사는 상기 양극수 또는 음극수를 저장 또는 유통시키는 용기내에 피처리물을 침지한 상태에서 조사하여 행하는 것을 특징으로 하는 습식처리방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 습식처리방법이 상기 양극수 또는 음극수를 소정의 노즐로부터 피처리물을 향하여 연속적으로 분사 혹은 적하하여 행하는 습식처리방법이고, 상기 초음파 조사는 상기 소정의 노즐 상류부에 있어서의 상기 양극수 또는 음극수의 송액배관계 중 적어도 일부에서 상기 양극수 또는 음극수에 조사하여 행하는 것을 특징으로 하는 습식처리방법.
  5. 양극전극을 설치한 양극실 및 상기 양극실과 격막을 거쳐 형성된 음극전극을 설치한 음극실을 가지는 물의 전기분해장치와, 상기 전기분해장치에서 얻어진 양극수 및/또는 음극수에 전해질을 첨가하기 위한 장치와, 상기 전해질이 첨가된 양극수 및/또는 음극수에 30㎑ 이상의 초음파를 조사하는 초음파 조사장치와, 상기 초음파 조사된 양극수 및/또는 음극수에 의해 피처리물을 세정처리하는 장치로 이루어지는 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
  6. 양극전극을 설치한 양극실, 음극전극을 설치한 음극실 및 상기 양극실과 음극실 사이에 한쌍의 격막에 의해 구획된 중간실을 가지는 물의 전기분해장치와, 상기 전기분해장치에서 얻어진 양극수 및/또는 음극수에 전해질을 첨가하기 위한 장치와, 상기 전해질이 첨가된 양극수 및/또는 음극수에 30㎑ 이상의 초음파를 조사하는 초음파 조사장치와, 상기 초음파 조사된 양극수 및/또는 음극수에 피처리물을 세정처리하는 장치로 이루어지는 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 전기분해장치는 중간실에 고체전해질이 충전되어 있는 전기분해장치인 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
  8. 제5항 또는 제6항에 있어서, 초음파 조사강도를 측정하는 계측부를 포함하고, 상기 전기분해장치로 흐르는 직류전류의 강도 및 초음파 조사강도를 조정하여 상기 처리액중의 이온종, 이온농도 및 산화환원 전위를 제어하기 위한 제어시스템을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
  9. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 초음파 조사장치의 상류부에, 상기 양극수 및/또는 음극수 중에 용존가스를 10ppm 이하로 하기 위한 탈기장치를 구비한 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
  10. 피처리물을 오존수에 의해 세정하고, 상기 오존수에 의해 세정된 피처리물을 전해이온수에 의해 브러시 세정하고, 상기 브러시 세정된 피처리물을 전해이온수에 의해 고압제트 세정하고, 상기 고압제트 세정된 피처리물에 전해이온수에 30㎑ 이상의 초음파를 조사하여 이루어지는 초음파 세정을 실시하고, 상기 초음파 세정이 실시된 피처리물을 전해이온수에 의해 세정하고, 이어서 상기 전해이온수에 의해 세정된 피처리물을 전해이온수에 의한 마무리 세정 후 건조하는 것을 특징으로 하는 습식처리방법.
  11. 피처리물을 오존수에 의해 세정하고, 이어서 상기 피처리물을 브러시 세정하는 제1조와, 상기 제1조에서 세정된 피처리물을 전해이온수의 고압분사에 의해 세정하는 제2조와, 상기 제2조에서 세정 처리된 피처리물을 30㎑ 이상의 초음파를 인가한 전해이온수에 의해 세정하는 제3조와, 상기 제3조에서 세정 처리된 피처리물을 전해이온수에 의한 마무리 세정후 건조하는 제4조로 이루어지는 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 제1조가 피처리물에 오존수를 공급하는 오존수용 노즐과, 상기 피처리물에 초순수를 공급하는 초순수용 노즐과, 상기 피처리물에 전해이온수를 공급하는 전해이온수 공급용 노즐과, 상기 피처리물을 브러시 세정하는 브러시를 가지는 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
  13. 제11항에 있어서, 상기 제2조가 피처리물에 전해이온수를 고압분사하는 전해이온수 고압제트노즐과, 상기 피처리물에 초순수를 공급하는 초순수용 노즐을 가지는 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
  14. 제11항에 있어서, 상기 제3조가 상기 조에 전해이온수를 도입하는 수단과, 상기 도입된 전해이온수에 30㎑ 이상의 초음파를 조사하는 수단을 가지는 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
  15. 제11항에 있어서, 상기 제4조가 마무리 세정용의 전해이온수를 공급하는 전해이온수 공급노즐과, 마무리 세정된 피처리물을 건조하는 수단을 가지는 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
  16. 제12항에 있어서, 상기 브러시에 순수 또는 전해이온수에 30㎑ 이상의 초음파를 조사하여 세정하는 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
  17. 제11항에 있어서, 상기 제1 내지 제3조 중 적어도 하나의 조에는 각 조 내에서의 세정처리 후에 순수 또는 전해이온수에 의한 재세정을 행할 수 있는 구성이 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
  18. 제11항에 있어서, 상기 제1 내지 제4조 중 적어도 하나의 조내에서의 피처리물은 회동가능하게 지지되어 있는 것을 특징으로 하는 습식처리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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