KR960706688A - 전자빔에 의한 패턴 기록방법(method of writing a pattern by an electron beam) - Google Patents

Abstract

편향가능한 전자빔에 의한 기판에 패턴을, 특히 미소 구조와 같은 매우 미세한 특징을 포함하는 패턴을 기록하는 방법은 내부 필드에 포함된 더욱 미세하거나 가장 미세한 패턴 특징을 가지며 빔의 중립축에 배열된 공통 중심(18)을 가지며 한 필드가 다른 필드의 내부에 배열된 크기가 다른 적어도 두개의 필드(15, 17)로 패턴을 분할함으로써 실행된다. 패턴을 기판을 정지된 상태로 유지하고 더욱 미세한 스텝사이즈가 외부필드 보다 내부 필드에 사용되도록 한 필드로부터 다른 필드로의 트랜지션에서 빔의 기록레즐루션의 변경으로 두 필드를 연속적으로 기록함으로써 기록된다.

Description

전자빔에 의한 패턴 기록방법(METHOD OF WRITING A PATTERN BY AN ELECTRON BEAM)

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (12)

1. 패턴은 상이한 미세도의 특징을 가지며, 빔의 중립축에 대해 제어된 빔편광에 의해 연속적으로 기록된 다수의 필드로 분할되며, 전자 빔에 의해 기판에 상기 패턴을 기록하는 방법에 있어서, 상기 패턴은 중립축에 공통의 중심점을 가지며 내부필드에 포함된 더욱 미세하거나 가장 미세한 특징을 가지며 한필드가 다른 필드의 내부에 배열되고 크기를 달리하는 적어도 2개의 필드로 분할되고, 그리고 고정된 위치에서 기판을 유지함으로써 이 적어도 2개의 필드가 연속적으로 기록되며 더욱 미세한 해상도가 외부 필드보다 내부필드에 사용되도록 한 필드로부터 다음 필드로의 트랜지션에서 빔의 기록해상도를 변경시킴으로써 기록되는 것을 특징으로 하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 빔은 외부 필드의 패턴특징 기록전에 내부필드의 패턴특징을 기록하도록 제어되는 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제1항 또는 2항에 있어서, 각 필드는 실제적으로 정방형인 것을 특징으로 하는 방법.
4. 전항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 2개의 필드는 필드의 경계에서 중첩하는 것을 특징으로 하는 방법.
5. 전항 중 어느 한 항에 있어서, 기록해상도는 빔 편향의 스텝사이즈를 변화시킴으로서 변경되는 것을 특징으로 하는 방법.
6. 제5항에 있어서, 스텝사이즈는 빔의 가속전압을 변경시킴으로서 변화되는 것을 특징으로 하는 방법.
7. 제6항에 있어서, 전압변경은 적어도 2개필드의 너비율에 종속되어 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
8. 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 스텝사이즈는 빔에 대한 편향드라이브의 구동력을 변경시킴으로서 변화되는 것을 특징으로 하는 방법.
9. 제8항에 있어서, 구동력의 변경은 적어도 2개필드의 너비율에 종속되어 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
10. 전항 중 어느 한 항에 있어서, 기록해상도는 빔의 스폿크기를 변화시킴으로서 변경되는 것을 특징으로 하는 방법.
11. 전항 중 어느 한 항에 있어서, 더욱 미세하거나 가장 미세한 패터 특징은 미소 구조인 것을 특징으로 하는 방법.
12. 전항 중 어느 한 항에 있어서, 각 필드는 전체 필드에 걸쳐 계속적으로 벡터된 빔편향으로 기록되는 것을 특징으로 하는 방법.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.