KR960704720A - 개량된 석판인쇄 평판의 제조 방법(process for preparing improved lithographic printing plates) - Google Patents

개량된 석판인쇄 평판의 제조 방법(process for preparing improved lithographic printing plates)

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KR960704720A
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에프. 워냇 스탠리
에스. 딜론 메이져
더블유 로벨랜드 앨린
에이. 킹 데니스
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마이클 에이. 카푸토
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Abstract

본 발명은 석판인쇄용 평판을 제조하기 위한 개선된 방법에 관한 것이다. 본 발명의 한 실시태양의 방법은 기판 표면을 기계적 그레이닝시키고, 10~500coulomb/dm2의 대칭 교류를 사용하여 산 매체에서 전기화학적 그레이닝시킨 후, pH를 약 2.5 내지 6으로 유지시킨, 부분 중화된 폴리비닐 포스폰산의 용액으로 상기 표면을 처리하는 것을 포함한다. 이 방법에 의해 고 접착력과 탁월한 대조를 지니며, 배경 토닝이 감소된 석판인쇄용 평판을 제조할 수 있다.

Description

개량된 석판인쇄 평판의 제조 방법(PROCESS FOR PREPARING IMPROVED LITHOGRAPHIC PRINTING PLASTE)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (28)

  1. (a) 적합한 금속으로 제조된 기판을 제공하는 단계; (b) 상기 기판을 기계적으로 그레이닝(graining)시키는 단계; (c) 상기 기판을 산 매체중에서 약 10~500coulomb/dm2인 대칭 교류로 전기화학적으로 그레이닝시키는 단계; (d) 상기 표면을 폴리비닐 포스폰산 또는 부분 중화된 폴리비닐 포스폰산에서 선택된 상태조절제(conditioning agent)로 상태조절시키는 단계(이때, 상기 부분 중화된 폴리비닐 포스폰산의 pH는 약 2.5 내지 6으로 유지됨); (e) 감광성 층르 도포하는 단계; (f) 상기 감광성 층을 적절한 화학선에 노출시키는 단계; (g) 상기 노출된 층을 적합한 현산제중에서 현상시키는 단계로 구성되는 석판인쇄용 평판(lithographic printing plate)을 제조하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 기판이 알루미늄 또는 강철로 만들어진 것인 방법.
  3. 제1항에 있어서, 기판이 알루미늄으로 만들어진 것인 방법.
  4. 제1항에 있어서, 단계(b) 의 기계적 그레이닝은 알루미나 미립자의 혼합물을 함유하는 수성 슬러리중에서 브러쉬 그레이닝하는 것을 포함하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 기계적 그레이닝 단계는 석영 미립자의 혼합물을 함유하는 수성 슬러리중에서 브러쉬 그레이닝하는 것을 포함하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 기계적 그레이닝 단계는 미립자들의 혼합물을 함유하는 수성 슬러리중에서 브러쉬 그레이닝하는 것을 포함하고, 상기 혼합물은 알루미나와 석영을 95:5 내지 5:95의 중량비 범위로 함유하고, 상기 미립자들의 입자 크기는 1~20미크론인 방법.
  7. 제6항에 있어서, 수성 슬러리의 고형분 농도가 약 5~50중량%인 방법.
  8. 제1항에 있어서, 단계(c) 의 산 매체가 질산, 염산 또는 이들의 혼합물을 포함하는 방법.
  9. 제1항에 있어서, 단계(c) 의 산 매체가 질산을 포함하는 방법.
  10. 제1항에 있어서, 단계(c) 의 산 매체가 염산을 포함하는 방법.
  11. 제1항에 있어서, 단계(c) 의 대칭 교류의 범위가 약 10~300coulomb/dm2인 방법.
  12. 제1항에 있어서, 단계(c) 의 대칭 교류의 범위가 약 20~200coulomb/dm2인 방법.
  13. 제1항에 있어서, 단계(e) 의 광감성 층이 양성(positive)유형의 감광성 화합물을 포함하는 방법.
  14. 제1항에 있어서, 광감성 층이 음성(negative)유형의 감광성 화합물을 포함하는 방법.
  15. 제13항에 있어서, 양성 감광성 화합물이 오르토-퀴톤 디아지드의 설폰산 에스테르인 방법.
  16. 제14항에 있어서, 음성 감광성 화합물이 디아조늄 화합물인 방법.
  17. 제16항에 있어서, 디아조늄 화합물이 메시틸렌 설포네이트로 침전된 형태의 3-메톡시-4-4디아조 디페닐 아민 설페이트와 4,4′-비스메톡시 메틸-디페닐 에테르의 다중축합 생성물인 방법.
  18. 제1항에 있어서, 단계(f) 의 화학선의 파장이 300~400nm의 범위인 방법.
  19. 제1항에 있어서, 단계(g) 의 현상제가 나트륨 옥틸 모노설페이트, 칼륨 데실 모노설페이트, 리튬 도데실 모노설페이트 및 이들의 배합물로 이루어진 군중에서 선택된 수성 현상제인 방법.
  20. (a) 알루미늄 기판을 제공하는 단계; (b) 상기 기판을, 알루미나와 석영을 95:5 내지 5:95의 중량비로 함유하는 미립자들의 혼합물을 포함하고 상기 미립자들의 입자 크기의 범위는 1~20미크론인 수성 슬러리중에서 기계적으로 그레이닝시키는 단계; (c) 상기 기판을 적당한 산 매체중에서 약 10~500coulomb/dm2인 대칭 교류로 전기화학적으로 그레이닝시키는 단계; (d) 상기 표면을 상태조절제인 폴리비닐 포스폰산으로 상태조절시키는 단계; (e) 감광성 층을 도포하는 단계; (f) 상기 감광성 층을 적당한 화학선에 노출시키는 단계; 및 (g) 상기 노출된 층을 적당한 현상제중에서 현상시키는 단계로 구성되는 석판인쇄용 평판을 제조하는 방법.
  21. 제20항에 있어서, 단계(c) 의 산 매체가 질산인 방법.
  22. 제20항에 있어서, 단계(c) 의 교류 범위가 10~300coulomb/dm2인 방법.
  23. (a) 알루미늄 기판을 제공하는 단계; (b) 상기 기판을, 알루미나와 석영을 95:5 내지 5:95의 중량비로 함유하는 미립자들의 혼합물을 포함하고 상기 미립자들의 입자 크기의 범위는 1~20미크론인 수성 슬러리중에서 기계적으로 그레이닝시키는 단계; (c) 상기 기판을 적당한 산 매체중에서 약 10~500coulomb/dm2인 대칭 교류로 전기화학적으로 그레이닝시키는 단계; (d) 상기 표면을 상태조절제인 부분중화된 폴리비닐 포스폰산으로 상태조절시키는 단계(이때, 상기 부분 중화된 폴리비닐 포스폰산의 pH의 범위는 2.5 내지 6임); (e) 감광성 층을 도포하는 단계; (f) 상기 감광성 층을 적당한 화학선에 노출시키는 단계; 및 (g)상기 노출된 층을 적당한 현상제중에서 현상시키는 단계로 구성되는 석판인쇄용 평판을 제조하는 방법.
  24. 제23항에 있어서, 단계(c)의 산 매체가 질산인 방법.
  25. 제23항에 있어서, 단계(c)의 교류 범위가 10~300coulomb/dm2인 방법.
  26. 제1항의 방법에 따라 제조된 석판인쇄용 평판.
  27. 제20항의 방법에 따라 제조된 석판인쇄용 평판.
  28. 제23항의 방법에 따라 제조된 석판인쇄용 평판.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960701565A 1993-09-29 1994-09-27 개량된석판인쇄평판의제조방법 KR100293024B1 (ko)

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