KR960702369A - 레이저 액정마아카 및 액정의 열화도 판정방법(laser liquid crystal marker and method for judging deterioration of liquid crystal) - Google Patents

레이저 액정마아카 및 액정의 열화도 판정방법(laser liquid crystal marker and method for judging deterioration of liquid crystal)

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KR960702369A
KR960702369A KR1019950704948A KR19950704948A KR960702369A KR 960702369 A KR960702369 A KR 960702369A KR 1019950704948 A KR1019950704948 A KR 1019950704948A KR 19950704948 A KR19950704948 A KR 19950704948A KR 960702369 A KR960702369 A KR 960702369A
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KR
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liquid crystal
light
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KR1019950704948A
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유키히로 쯔다
요시노리 사이토
에쯔로오 사토
유키노리 마쯔무라
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안자키 사토루
카부시키가이샤 코마쯔세이사쿠쇼
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Abstract

본 발명은, 레이저 액정마아카 및 액정의 열화도 판정방법으로서 높은 인자정도가 유지되고, 더욱이 액정의 교환시기도 판정할 수 있고, 또한 연속고속인자에서도 높은 인자정도가 유지가 가능하나, 이 때문에 온도센서(4), 발광수단(5), 수광수단(6) 및 제어기(7)를 구비하며, 이 제어기(7)는 발광수단(5)의 조사광량(R1)과 수광수단(6)으로의 투과광량(R2)에 따라 광투과율(Qi)을 산출하고, 미리 기억한 최적 광투과율(Q0)로 되도록 액정인가전압(Vi)을 조정한다.
또, 액정인가전압(Vi) 조정하라도, 취적 광투과율(Q0)로 되지 않을 때에는 액정(2)이 열화하있다고 판정한다.

Description

레이저 액정마아카 및 액정의 열화도 판정방법 (LASER LIQUID CRYSTAL MARKER AND METHOD FOR JUDGING DETERIORATION OF LIQUID CRYSTAL)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (7)

  1. 적어도, 레이저 발전기와 패턴을 자유롭게 표시하는 액정과, 상기한 액정에 접속 되어서 상기한 패턴표시용의 액정인가전압(Vi)을 제어하는 제어기를 구비하고, 상기한 액정을 투과한 상기한 레이저 발전기로부터의 레이저광을 공작물 표면에 조사하는 것에 의해, 상기한 공작물 표면에 상기한 패턴을 인자하는 레이저 액정마아카에 있어서, 상기한 제어기는 액정온도(Ti)를 검출하는 온도센서와, 상기한 액정에 빛을 조사하는 발광수단과, 상기한 액정을 투과한 상기한 빛을 수광하는 수광수단이 접속되어서 이루어지고, 또한 상기한 제어기는 정상인 상기한 액정에 있어서의 액정 온도(T)를 팔라메이터로 하여 이루어지는 액정인가전압(V)과 광투과율(a)의 관련특성(P)을 미리 기억하고, 상기한 발광수단에 의한 조사광량(Rl)과 상기한 수광수단에 의한 투과광량(R2)이 입력되고, 상기한 조사광량(R1)과 상기한 투과광량(R2)으로부터 광투과율(Q1)을 산출함과 아울러, 상기한 산출시에 있어서의 액정인가전압(Vi)과 상기한 온도센서로부터의 액정온도(Ti)에 대응하는 최적 광투과율(Q0)을 상기한 관련 특성(P)으로부터 추출하여, 상기한 광투과율(a1)이 상기한 최적 광투과율(Q0)과 같아지도록, 상기한 액정인가전압(Vi)을 조정하는 제어기인 것을 특징으로 하는 레이저 액정마아카.
  2. 제1항에 있어서, 상기한 제어기는, 정상인 상기한 액정에 있어서의 액정온도(T)를 팔라메이터로하여 이루어지는 액정인가전압(V)과 광투과율(Q)의 관련 특성(P)을 미리 기억하고, 상기 액정의 열화도 판정에 있어, 상기한 발광수단에 의한 조사광량(R1)과 상기한 수광수단에 의한 투과광량(R)이 입력되고, 상기한 조사광량(Rl)과 상기한 투과광량(R)으로부터 광투과율(Q1)을 산출함과 아을러, 상기한 산출시에 있어서의 액정인가전압(Vi)과 상기한 온도센서로부터의 액정온도(Ti)에 대응하는 최적 광투과율(a0)을 상기한 관련 특성(P)으로부터 추출하여 상기한 액정인가전압(Vi)을 조정하는 것에 의해 상기한 광투과율(Qi)이 상기한 최전 광투과율(Q0)과 같아지도록함과 아울러, 상기한 액정인가전압(Vi)을 조정하는 것에 의해서도 상기한 광투과율(Qi)이 상기한 최적 광투과율(Q0)과 같아지지 않을 때에, 상기한 액정은 열화하였다고 출력하는 제어기인 것을 특징으로 하는 레이저 액정 마아카.
  3. 적어도, 레이저 발전기와, 패턴을 자유롭게 표시하는 액정과, 상기한 액정에 접속되어서 상기한 패턴표시용의 액정인가전압(Vi)을 제어하는 제어기를 구비하고, 상기한 액정을 투과한 상기한 레이저 발전기로부터의 레이저광을 공작물 표면에 조사하는 것에 의해, 상기한 공작물 표면에 상기한 패턴을 인자하는 레이저 액정마아카에 있어서, 상기한 제어기에는 상기한 액정에 빛을 조사하는 발광수단과, 상기한 액정을 투과한 상기 빛을 수광하는 수광수단과 접속되어서 이루어지고 있고, 또한, 상기한 제어기는 기준치(S0)를 미리 기억하고, 상기한 발광수단에 의한 조사광량(R1)과 상기한 수광수단에 의한 투과광량(R2)이 입력 되어서 이들의 검출치(Si)를 산출하고, 상기한 검출치(Si)가 상기한 기준치(Si)와 같아지도록 상기한 액정인가전압(Vi)을 조정하는 제어기인 것을 특징으로 하는 레이저 액정마아카.
  4. 제3항에 있어서, 상기한 제어기는, 기준치(S0)와 인가전압 한계치(Vm)를 미리 기억하고, 상기한 발광수단에 의한 조사광량(R1)과 상기한 수광수단에 의한 투과광량(R2)이 입력 되어서 이들의 검출치(Si)를 산출하고, 상기한 검출치(Si)가 상기한 기춘지(S0)와 같아지도록, 상기한 액정인가전압(Vi)을 조정함과 아을러, 상기 액정인가전압(Vi)이 상기한 인가전압 한계치(Vm)를 넘을때, 경보를 출력하는 제어기인 것을 특징으로 하는 레이저 액정마아카.
  5. 적어도, 레이저 발전기와, 패턴을 자유롭게 표시하는 액정과, 상기한 액정에 접속되어서 상기한 페턴표시용의 액정인가전압(Vi)을 제어하는 제어기를 구비하고, 상기한 액정을 투과한 상기한 레이저 발전기로부터의 광을 공작물 표면에 조사하는 것에 의해, 상기한 공작물 표면에 상기한 패턴을 인자하는 레이저 액정마아카에 있어서, 상기한 제어기에는 발광수단과 수광수단이 각각 접속 되어서 이루어지고, 상기한 액정은 상기한 제어기로부터 전압을 인가 되어서 각종 마크용 정지화상이 차례차례로 변환 표시되고, 또 테스트용 정지화상이 적당하게 표시되는 액정이고, 상기한 발광수단은 표시된 상기한 테스트용 정지화상에 빛을 투사하는 발광수단이고, 상기한 수광수단은 상기한 테스트용 정지화상을 투과한 상기한 빛을 수광하는 수광수단이고, 상기한 제어기는 미리 최적 광투과율(Q0)을 기억하고, 상기한 마크용 정지화상이 변환하는 가운데 적어도 하나의 변환하는 가운데 상기한 테스트용 정지화상을 개입(파고 들어감) 표시시키고, 상기한 개입표시중에 상기한 수광수단으로부터 투과광량(R2)을 입력하고, 상기한 투과광량(R2)과 상기한 발광수단의 조사광량(R1)에 의해 상기한 액정의 광투과율(Qi)을 산출하여 상기한 광투과율(Q0)이 상기한 최적 광투과율(Q0)과 같아지도록, 상기한 액정인가전압(Vi)을 조정하는 제어기인 것을 특징으로 하는 레이저 액정마아카.
  6. 제5항에 있어서, 상기한 제어기는 미리 최적 광투과율(Q0)을 기억하고, 상기한 마크용 정지화상의 변환하는 가운데 적어도 하나의 변환하는 가운데 먼저 전기 테스트용 정지화상을 표시시키고, 그 후 상기한 액정의 모든 공통단자와 세크멘트 단자를 동전위화시키는 것의 반복을 개입시키고, 상기한 개입중에 상기한 수광수단으로부터 투과광량(R2)을 입력하고, 상기한 투과광량(R2)을 입력하고, 상기한 투과광량(R2)과 상기한 발광수단의 조사광량(Rl)에 의해, 상기한 액정의 광투과율(Ql)을 산출하여 상기한 광투과율(Qi)이 상기한 최적 광투과율(Q2)과 같아지도록 상기한 액정인가전압(Vi)을 조정하는 제어기인 것을 특징으로 하는 레이저 액징마아카.
  7. 패턴을 자유롭게 표시하는 액정을 구비하고, 상기한 액정을 투과한 레이저 발전기로부터의 레이저광을 공작물 표면에 조사하는 것에 의해, 상기한 공작물 표면에 상기한 패턴을 인자하는 레이저 액정마아카에 사용되는 액정의 열화도 판정방법에 있어서, 상기한 액정에 조사광량(R1)인 빛을 조사하여 상기한 액정으로부터의 투과광량(R2)을 출하고, 상기한 조사광량(Rl)과 상기한 투과광량(R2)에 따른 광투과율(Q1)을 산출하며, 상기한 광투과율(Qi)의 경시변화로부터 상기한 액정의 열화도를 판정하는 것을 특징으로 하는 액정의 열화도 판정방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950704948A 1993-05-07 1994-04-27 레이저 액정마아카 및 액정의 열화도 판정방법(laser liquid crystal marker and method for judging deterioration of liquid crystal) KR960702369A (ko)

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JP93-134091 1993-05-13
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995009067A1 (fr) * 1993-09-30 1995-04-06 Komatsu Ltd. Marqueur pour masque a cristaux liquides semi-transparent
DE19910880A1 (de) * 1999-03-11 2000-09-14 Deckel Maho Gmbh Werkzeugmaschine für die Werkstückbearbeitung mit spanenden Werkzeugen und Laserstrahl
US6947559B2 (en) * 2000-02-18 2005-09-20 Kent State University Random number generator based on turbulent convection
JP4574057B2 (ja) * 2000-05-08 2010-11-04 キヤノン株式会社 表示装置
US6657157B1 (en) * 2000-06-07 2003-12-02 Westar Photonics, Inc. Method, system and product for producing a reflective mask mirror and for ablating an object using said reflective mask mirror
DE10147037A1 (de) * 2001-09-25 2003-04-17 Orga Kartensysteme Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Laserbeschriftung von Datenträgern, insbesondere Kartenkörper
AU2002950755A0 (en) 2002-08-09 2002-09-12 Cochlear Limited Fixation system for a cochlear implant

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3140078A1 (de) * 1980-10-08 1982-04-22 Kabushiki Kaisha Suwa Seikosha, Tokyo Optische fluessigkristalleinrichtung und drucker, der eine solche optische einrichtung als lichtventil benutzt
JP2602266B2 (ja) * 1987-03-02 1997-04-23 株式会社日立製作所 レーザマーカ及びそれを利用したレーザ発振器
US4818835A (en) * 1987-03-02 1989-04-04 Hitachi, Ltd. Laser marker and method of laser marking
JP2633954B2 (ja) * 1989-04-10 1997-07-23 株式会社日立製作所 液晶式マーキング方法及びその装置
JP2701183B2 (ja) * 1991-08-09 1998-01-21 株式会社小松製作所 液晶マスク式レーザマーカ

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DE69411164T2 (de) 1998-12-24
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