KR960043373A - 제2고조파 발생 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 제2고조파 발생 방법 및 장치에 관한 것으로, 제2고조파 출력을 안정화할 수 있는 제2고조파 발생 방법 및 장치에 관한 것이다.
본 발명의 제2고조파 발생 방법은, 제2고조파의 출력 진행 경로와 제2고조파 출력으로 분리된 빔 진행 경로 상에 제2, 제3빔 스프리터를 아래의 식에 만족시킨다.
여기에서 K는 상수, R1는 제1, 제2빔 스프리터의 입사면에 나란한 p-편광의 반사율, R⊥는 제1, 제2빔 스프리터의 입사면에 직교되는 s-편광의 반사율이다.
그리고 본 발명 제2고조파 발생 장치는 제2고조파 출력의 진행 경로상에 제1빔 스프리터를 마련하고, 상기 제1빔 스프리터에 의한 제2고조파의 반사 빔 진행 경로와 투과광 진행 경로 상에는 별개의 빔 스프리터를 마련한 점에 특징이 있다.
이러한 본 발명에 의하면, 광 검출기로 입사되는 반사광을 출력을 안정화할 수 있고, 이로써 실제 사용되는 출력도 안정시킬 수 있게 된다.

Description

제2고조파 발생 방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 제2고조파 발생 장치의 개략적 구성도.

Claims (3)

  1. 광학적 공진기 내에 기본파의 제2고조파를 발생시키고, 제2고조파의 출력의 일부를 제1의 빔 스프리터로 분리하여 분리된 광을 피이드 백시켜 상기 제2고조파 발생원의 온도를 제어하도록 하는 제2고조파 발생 방법에 있어서, 제2고조파 출력으로부터 분리된 광 출력을 제2빔 스프리터에 의해 익스트러 오디너리 축과 오디너리 축에 대해 소정 비율로 분리시켜 분리된 광을 제2고조파 발생원의 온도 제어를 위한 출력으로 사용하며, 제2고조파의 출력을 제3빔 스프리터로 익스트러 오디너리 축과 오디너리 축 성분에 대해 다른 비율로 일부 분리시킨 나머지의 출력을 최종 출력으로 사용하며, 그리고 아래의 식을 만족하는 것을 특징으로 하는 제2고조파 발생 방법.
    여기에서 K는 상수, R1는 제1, 제2빔 스프리터의 입사면에 나란한 P-편광의 반사율, R⊥는 제1, 제2빔 스프리터의 입사면에 직교되는 s-편광의 반사율이다.
  2. 입력 미러와 출력 미러를 갖춘 공진기; 상기 공진기 내의 광축상에 마련되는 이득 매체와 비선형 단결정 소자; 상기 비선형 단결정 소자의 온도를 제어하는 온도 제어장치; 상기 출력 미러를 통과한 제2고조파의 진행 경로 상에 마련되는 제1빔 스프리터; 상기 제1빔 스프리터에 의한 제2고조파의 반사 빔 진행 경로 상에 마련되는 광 검출기; 상기 광 검출기와 상기 제1빔 스프리터의 사이에 마련되는 제2빔 스프리터; 상기 제1빔 스프리터를 통과한 투과빔의 진행 경로상에 마련되는 제3빔 스프리터; 상기 광 검출기로부터의 신호에 의해 상기 온도 제어장치를 제어하는 제어 회로를 갖춘 것을 특징으로 하는 제2고조파 발생 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제2빔 스프리터와 제3빔 스프리터는 제1빔 스프리터에서 반사된 반사빔과 투과한 투과빔의 광축에 대해 45도 경사각을 유지하고, 제1빔 스프리터의 입사면에 대해서는 직교되게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 제2고조파 발생 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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