KR960043086A - 피처리체 지지보트 - Google Patents

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KR960043086A
KR960043086A KR1019960017832A KR19960017832A KR960043086A KR 960043086 A KR960043086 A KR 960043086A KR 1019960017832 A KR1019960017832 A KR 1019960017832A KR 19960017832 A KR19960017832 A KR 19960017832A KR 960043086 A KR960043086 A KR 960043086A
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KR
South Korea
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wafer
placement surface
boat
support portion
support
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Application number
KR1019960017832A
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English (en)
Inventor
카츠토시 이시이
이사오 하기노
미츠오 미즈카미
Original Assignee
이노우에 아키라
도쿄 에레쿠토론 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67303—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements
    • H01L21/67309—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements characterized by the substrate support
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
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    • C23C16/4583—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally

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Abstract

보트는, 보트 본체, 보트 본체의 양단에 설치된 천정판 및 바닥판을 구비한다. 보트 본체는, 지지기둥 및 지지기둥에 설치된 지지부를 구비한다. 다수의 지지부는 지지기둥의 길이 방향을 따라 서로 대략 평행하게 설치되어 있다. 지지부는 실질적으로 원호형상이다. 지지부는 전면측에 반출입구가 설치되어 있다. 이 반출입구는 웨이퍼(W)를 반송하는 아암의 선단이 지지부의 내측에 침입가능하도록 하기 위하여 설치되어 있다. 지지부의 배면부에는, 아암의 선단이 관통할 수 있도록 지지기둥의 관통공에 대응하여 개구부가 형성되어 있다. 지지부는 웨이퍼(W)의 가장자리를 그 재치면으로 재치시킴으로서 웨이퍼(W)를 지지한다. 재치면을 가지는 지지부가 대략 원호형상으로 형성되며, 따라서, 재치면도 마찬가지로 대략 원호 형상으로 형성되어 있다. 이에 따라, 재치면은 웨이퍼(W)의 가장 자리를 가능한한 긴 거리를 따라 지지한다. 더욱이, 지지부의 재치면은 그 평면도가 재치면의 전체에 걸쳐 0.1㎜ 이하로 설정되어 있다. 웨이퍼(W)를 재치면 위에 재치한 경우에 웨이퍼(W)의 가장 자리 뒷면에 재치면과 실질적으로 면끼리 접촉한다.

Description

피저리체 지지보트
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 보트의 일실시예를 도시하는 사시도.

Claims (10)

  1. 바닥판; 상기 바닥판 위에 세워 설치된 지지기둥; 상기 지지기둥의 상단부에 설치된 천정판; 및 상기 지지기둥에 의해 지지되며, 피처리체가 재치되는 재치면을 가지는 지지부, 상기 재치면의 평면도가 0.1㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 피처리체 지지보트.
  2. 제1항에 있어서, 상기 지지부의 재치면의 형상이 대략 원호 형상인 것을 특징으로 하는 보트.
  3. 제1항에 있어서, 상기 지지부가 실질적인 고리로서, 상기 고리의 적어도 일부를 절결한 것을 특징으로 하는 보트.
  4. 제1항에 있어서, 상기 지지부가 실질적인 고리로서, 해당 고리의 일부에 상기 피처리체를 반송하고 한편, 상기 재치면에 재치하는 반송 수단을 상기 고리내로 진입가능하게 하기 위한 개구부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 보트.
  5. 제4항에 있어서, 상기 고리의 일부에 상기 반송 수단이 상기 고리를 관통할 수 있도록 하기 위한 다른 개구부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 보트.
  6. 제1항에 있어서, 상기 지지기둥가 실질적으로 원통으로서 상기 피처리체를 반송하고, 또한, 상기 재치면에 재치하는 반송 수단을 상기 원통내로 진입 가능하게 하기 위한 개구부가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 보트.
  7. 제6항에 있어서, 상기 원통의 일부에 상기 반송 수단이 상기 고리를 관통할 수 있도록 하기 위한 다른 개구부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 보트.
  8. 제7항에 있어서, 상기 원통의 일부에 상기 원통의 길이 방향을 따라 슬릿이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 보트.
  9. 제6항에 있어서, 상기 원통의 내측에 상기 지지부가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 보트.
  10. 제1항에 있어서, 석영 또는 실리콘 카바이트로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 보트.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960017832A 1995-05-26 1996-05-23 피처리체 지지보트 KR960043086A (ko)

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JP15267795 1995-05-26

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