KR960014898B1 - 탈취제의 제조방법 및 탈취방법 - Google Patents

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Description

탈취제의 제조방법 및 탈취방법

본 발명은 금속산화물로 첨착하여 하니컴 또는 판상으로 성형한 활성탄 및 그 활성탄을 사용한 탈취방법에 관한 것으로, 특히 상세히 설명하면 탈취촉매를 성을 가진 금속산화물로 첨착하여 하니컴 또는 판상으로 성형한 활성탄 및 그 활성탄을 사용하여 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질을 산화제거하기 위하여 사용한 방법이다.

금속산화물은 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질을 산화분해하는 촉매로써 알려져 있지만, 이들을 세라믹 하니컴에 첨착사용한 경우는 세라믹 하니컴의 비표면적이 작기 때문에 촉매를 첨착하여도 고활성은 얻을 수 없었다.

활성탄에 첨착한 경우는 고활성을 얻을 수 있고, 유해한 반응 생성물도 작고 바람직한데, 입상이나 분말상의 활성탄을 사용한 경우는 작은 봉투에 넣거나 칼람에 충진하여 사용할 수 밖에 없었다.

이같은 방법으로 사용한 경우에는 압력손실이 높게 되어 가스를 고속으로 통과시키는 것이 곤란한 문제점이 있었다.

또한, 종래 하니컴 또는 판상의 활성탄에 금속산화물을 첨착한 방법에서는 담체로 된 하니컴상 또는 판상 활성탄의 강도가 작고, 비표면적이 작기 때문에 금속산화물의 첨착량을 많게 하는 것이 곤란하고 고활성의 금속산화물 담지 활성탄은 얻을 수 없었다.

예를들면 냉장고나 실내용의 공기청정기에 휠타로써 사용하는 경우 종래의 입상 활성탄에 금속산화물을 첨착한 것으로는 부적당했다.

그것은 활성탄을 칼럼이나 용기에 충진하여 사용하는 방법으로는 압력손실이 커서 가스를 고속으로 통과시키는 것이 곤란했었다.

따라서 이같은 휠타로 사용하는 경우 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질을 제거하기 위하여 산화촉매로써 고성능으로 현저히 압력손실이 작은 하니컴상 또는 판상 금속산화물 첨착 활성탄이 요구되어져 왔다.

또 활성탄을 휠타상으로 성형하는 방법에는 액체수지 바인다를 사용하는 방법이 있지만 이것은 활성탄의 성능 저하가 현저하고, 활성탄 본래의 고성능을 발휘할 수 없었다.

특히 하니컴상 또는 판상 활성탄에 금속산화물을 첨착하여 산화촉매를 제조하는 방법도 생각할 수 있지만 이 경우 사용하는 하니컴상 또는 판상 활성탄의 성능은 한정되고, 고비표면적의 활성탄은 사용할 수가 없다.

왜냐하면 하니컴상 또는 판상 활성탄은 고성능이기 때문에 부활을 시키면 금이 가고 강도가 저하하고, 변형등 문제가 생기기 때문에 통상 1000㎡/g 정도로 1200㎡/g이상의 비표면적의 하니컴상 또는 판상 활성탄을 만드는 것이 곤란했었다.

본 발명은 전술의 문제점에서 보았듯이, 저온에서 희박한 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질을 제거하기 위하여 가스를 고속으로 산화촉매속을 통과시키더라도 충분히 제거할 수 있는 모양으로 되고 압력손실이 낮으면서 촉매성이 높은 금속산화물 첨착 활성탄 및 그것을 사용한 실내용 공기청정기에 메칠멥캅탄등의 악취가스의 제거제를 제공하도록 한 것이다.

본 발명자는 저온에서 희박한 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질을 제거하기 위하여 예를들면 냉장고나, 실내용의 공기청정기에 사용할 수 있는 압력손실이 작고 월등히 촉매성이 우수한 금속산화물을 담지시킨 하니컴상 또는 판상 활성탄에 관하여 여러가지 검토했다.

그 결과 특정의 프로세스를 거쳐 만들어진 하니컴상 또는 판상 활성탄에 의해 0-40℃에서 10ppm 정도의 저농도의 메칠멥캅탄, 트리메칠아민 등 악취물질을 충분히 제거할 수 있다.

극히 고활성인 하니컴상 또는 판상 금속산화물을 얻게된 것을 표제로 이것을 근거하여 본 발명에 도달했다.

즉 탄소질원료를 수증기함유율 15용량％(이하, 용량％의 용량을 생략한다), 이하의 분위기에서 부활한 후, 그대로의 분위기에서 300℃ 이하까지 냉각하고 금속산화물을 0.1-중량 20％의 중량을 생략한다)을 담지한 활성탄 100중량부(이하, 중량부의 중량을 생략한다)에 바인다로 입자경 1-50m의 프라스틱분말 1-50부를 가해, 하니컴상 또는 판상으로 성형시킨 성형 금속산화물 첨착 활성탄 및 특히 활성탄을 실질적으로 산소 또는 수증기를 포함하지 않는 질소가스 또는 탄소가스중에서 약 500℃ 이상에서 열처리한 후 그대로의 분위기중에서 300℃ 이하까지 냉각하고 특히 금속산화물을 0.1-20％ 담지시킨 활성탄 100부에 바인다로 입자경 1-50㎛의 프라스틱분말 1-50부를 가해, 하니컴상 또는 판상으로 성형시켜 된 성형 금속산화물 첨착 활성탄이고 특히 이것을 사용하여 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등의 악취가스를 제거한다.

여기에서(실질적으로 산소 또는 수증기를 포함하지 않는다)라는 것을 부활후의 활성탄의 열처리에 있어서 활성탄 표면에 결합한 산소원자가 존재하지 않은 것 같은 분위기의 의미로 산소 및 수증기가 1-2％ 이하의 상태를 말한다.

이하 본 발명에 관하여 상세히 설명한다.

본 발명에 있어서, 사용되어진 활성탄은 산소질원료로 야자탄, 석탄등의 탄소질원료를 탄화하여, 본 발명의 방법으로 부활하는 것에 의해 얻을 수 있다.

이때 부활가스는 수증기 이외에 이산화탄소 가스를 포함하는데, 수증기 함유율은 15％ 이하로 할 필요가 있다.

통상 사용되고 있는 활성탄 부활용 가스의 조성은 수증기 40-60％로 그보다 높은 경우도 많다.

수증기에 의해 탄소질의 부활속도는 이산화탄소 가스보다 꽤 빠르기 때문에 부활가스의 조성은 수증기 분압이 되도록이면 높게 되는 형태로 설정되고 있다.

따라서 본 발명의 조건은 일상적인 방법에 비하여 현저히 부활속도를 늦게 한 마일드한 조건으로 되어 있다.

실제예 23, 24 및 비교예 23-28, 표 9, 10에 나타난 형으로 수증기 함유율이 높은 조건하에서 부활한 경우는 분명 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질의 산화촉매성이 저하하고 있는 것을 알았다.

수증기 함유율이 낮은 부활조건이 활성탄의 산화촉매성을 향상시키는 기구의 메카니즘은 분명하지 않지만 걸리는 조건하에서 얻을 수 있는 허니컴상 또는 판상 활성탄은 그 표면에 결합한 산소원자가 존재하지 않는 형태로 되어 있는 것이 지적되고 있다.

통상의 하니컴상 또는 판상 활성탄은 하니컴상 또는 판상으로 성형한 탄소질원료를 수증기, 연소가스등으로 부활하는 것에 의해 제조되고 있는데, 이런 활성탄을 본 발명에 사용하여도 충분한 산화촉매 성능을 나타내지 않는다.

본 발명의 효과는 전술과 같은 특정의 조성 가스로 부활시킨 후 금속산화물을 첨착시킨 활성탄을 원료로써 성형시킨 하니컴상 또는 판상 활성탄을 사용하는 것에 의해 처음 만들어진 것이다.

이와 같이 하여 얻어진 하니컴상 또는 판상 활성탄은 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질을 재빠리 산화하는 높은 촉매성을 나타낸다.

그러나 본 발명의 원료 활성탄은 부활후 고온 그대로 계외로 취출하고 수증기, 수소가스, 도는 산소가스를 다량으로 함유한 분위기안에 방치하면 산화촉매로써의 능력이 현저히 저하한다.

본 발명의 활성탄은 부활후도 부활가스와 같은 형태의 가스의 것으로 활성탄을 300℃ 이하로 냉각하고 그후 계밖으로 취출할 필요가 있다.

냉각시의 분위기는 부활시에 사용되어진 질소가스, 탄산가스 또는 이들의 혼합가스(산소, 수소, 수증기의 함유량은 규정량 이하)의 분위기로 있으면 좋고, 부활에 사용된 가스와 냉각으로 사용된 가스로는 반드시 동일 조성의 것이 아니더라도 좋다. 본 발명에 있어서(그대로의 분위기로 냉각)한다라고 하는 말은 전술한 조성의 분위기를 가리키고 있다.

부활후의 부활탄을 300℃ 이상으로 공기중에 취출하면 저온 저농도에 대한 산화촉매로써의 능력이 현저히 저하한다.

부활후 질소가스안에서 냉각한 경우와 공기중에 냉각한 경우의 촉매성에 미치는 영향을, 실제예 1, 4, 비교예 2, 5(부활후 통상보다 공기중에서 냉각시킨 것) 및 표 1, 2에 나타냈다.

또 부활후 활성탄이 공기에 접촉하는 온도가 촉매성에 미치는 영향에 관하여 실시예 21, 22, 비교예 12-22 및 7, 8에 나타냈다.

전술과 같이 하여 얻어진 본 발명의 활성탄 비표면적은 1200㎡/g 이상이어야 바람직하고, 1500㎡/g 이상이면 보다 바람직하다.

특히 본 발명에 있어서도 공기등에 접촉하여 표면이 산화되고 산화촉매성이 저하한 폐활성탄 또는 통상의 방법에 의해 제조된 활성탄을 전술의 부활가스와 같은 조성의 가스안에서, 온도 500℃ 이상으로 처리하고 각 가스안에서 온도 300℃ 이하로 냉각하는 것에 의해 얻어진 활성탄도 촉매를 첨착 성형하는 것에 의해 전술의 하니컴상 또는 판상 활성탄과 같은 모양으로 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질가스에 대한 높은 산화촉매성을 나타내고 있다.

바꾸어 말하면 이 열처리에 의해 하니컴상 또는 판상 활성탄에 높은 산화촉매기능을 부여할 수 있었다.

이 열처리가 적용된 활성탄은 석탄, 야자탄등의 원료에서 얻어진 것이라도 좋고, 또 그 형상도 한정이 없다.

통상의 방법으로 얻어진 활성탄은 어느 것이나 이 방법으로 처리하는 것에 의해 본 발명의 산화촉매로써 적용가능한 활성탄 담체를 얻을 수 있다.

이때 처리온도는 500℃ 이상으로 할 필요가 있다.

처리시간은 온도에 따라 다르지만, 500℃의 경우는 통상 20-100분이 바람직하고 800℃에서는 수분간 처리에 의해 충분히 그 효과를 얻을 수 있다.

열처리온도가 산화촉매성에 영향에 관해서는 실시예 2, 3, 5, 6 비교예 1, 4 및 표 1, 2에 나타냈다.

본 발명에서 사용하는 활성탄, 담체에는 금속산화물을 0.1-20％ 첨착시킬 필요가 있다.

활성탄에 금속산화물을 첨착함에는 산소농도가 0.1-3 규정, 바람직한 것은 0.5-1 규정의 산 수용액에 소정량의 금속염을 용해하고, 그 용액에 활성탄을 넣어 교반하고 금속염을 충분히 흡착시킨 후 액을 분리하여 200℃에서 건조한다.

이것에 의해 금속염을 열분해하며 금속산화물로 할 수가 있다.

금속산화물의 담지량은 0.1-20％로 할 필요가 있지만 담지량이 0.5-2％의 경우가 보다 바람직하다.

금속산화물의 담지량이 0.1％ 이하의 경우는 촉매활성이 불충분하고 또 20％ 이상이 되면 첨착량이 많은 것에 비해 촉매성이 향상되지 않고, 또 활성탄 자체의 흡착성능이 저하되는 것을 고려하면 첨착량은 20％ 이하로 할 필요가 있다.

금속산화물의 담지량의 조절은 산 수용액중의 금속염의 양과 활성탄량의 비를 변경하는 것에 의해 행할 수 있다.

통상 용액중의 금속염은 거의 완전히 활성탄에 흡착되어진다.

이것을 특히 200℃ 정도로 열처리하는 것에 의해 본 발명의 금속산화물 첨착 활성탄을 얻을 수 있다.

이같이 하여 얻어진 금속산화물 활성탄을 하니컴상 또는 판상으로 성형함에 있어서 활성탄의 입도는 입자경 0.1m-4mm 정도까지 여러 종류의 입경이 사용가능하고 사용목적에 맞게 선택할 수 있다.

바인다로써 사용된 프라스틱은 활성탄 분말과 혼합하여 고온으로 가압한 후 성형물을 형성할 수 있는 것이 있으면 광범위하게 사용할 수 있다.

예를 들면 열가소성 수지, 열경화성 수지, 친수성 수지, 도전성 수지등으로 물이나 유기용제를 사용하지 않고 가열융착할 수 있는 것이 적합하다.

열가소성 수지로서는 폴리메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질, 폴리프로필렌, ABS(아크릴니트롤 브타지엔 스칠렌수지), PET(폴리메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질), 나이론, PBT(폴리부칠렌), 메칠메캅탄, 트리메칠아민등 악취물질-아크릴수지, PMMA(폴리메칠메타크리레아드)수지, 메죠피즈피치등이 사용가능하다.

열경화성 수지로서는 프랑수지, 페놀수지등이 사용가능하다.

친수성 수지로써는 폴리비닐알콜수지, 에벨수지등이 사용가능하다.

바인다로써 사용하는 프라스틱의 입자경은 1-50㎛로 할 필요가 있다.

바람직한 것은 5-30㎛이다.

프라스틱 분말의 입자경이 1㎛ 이하의 경우에는 비중이 크게 되고, 강도가 크고, 밀도 높은 성형이 곤란하다.

또 입자경이 50㎛을 초과하는 경우는 점착 강도가 작게 되어, 강도 큰 휠타를 얻을 수 없다.

프라스틱 입자의 입경이 성형체의 강도 및 영향을 실시예 9-16, 비교예 7-16 및 표 3, 4에 나타냈다.

프라스틱 입자의 사용량은 활성탄 100부에 대하여 1-50으로 할 필요가 있다.

바람직한 것은 2-25부이다.

프라스틱의 사용량이 1부 이하에서는 성형체의 강도가 불충분하고, 또 프라스틱 입자의 사용량이 50부로 되면 활성탄의 표면이 프라스틱으로 파괴되기 때문에 촉매성이 저하한다.

프라스틱 입자의 사용량이 성형체의 강도 및 촉매성에 미치는 영향을 실시예 7-16, 비교예 7-16 및 표 3, 4 에 나타냈다.

또 필요에 따라 하니컴 또는 판상의 보조용으로 보강제를 혼용해도 좋다.

보강제로써는 금속, 알루미늄, 철, 동, 청동, 스텐레스등의 금속섬유, 탄화규소, 프롬나이트라이드, 티탄산베리룸, 유리섬유, 탄소섬유, 활성탄 섬유등의 무기섬유 또는 폴리프로필렌, 피니론, 폴리에스텔, 나이론폴리에스텔, 폴리메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질의 콘슈게이트섬유등의 유기섬유가 성형물의 강도를 향상시키기 때문에 바람직하다.

보강제의 형태로써는 길이 0.2mm-20mm, 직경 3㎛-100㎛의 모노필라멘트, 멀티필라멘트의 섬유가 바람직하다.

하니컴상 또는 판상으로 성형하는 경우 활성탄, 바인다등의 혼합방법으로써는 통상의 공업적 혼합방법, 예를 들면 미키사, 리본미키사, 스타딕미키사 볼밀, 샘프르밀, 니다등을 사용할 수 있다.

혼합때 혼합만으로도 프라스틱 입자를 활성탄의 표면에 부착시킬 수 있지만 프라스틱과 흡착제의 접착을 보다 견고히 하기 위하여 간단한 가열을 행하는 것이 좋다.

열원으로써는 마이크로파, 적외선, 원적외선, 고주파등이 이용가능하지만 혼합시 특히 정전기의 발생하에 가열하는 것에 의해 보다 견고히 프라스틱 입자를 활성탄의 표면에 부착시킬 수 있다.

소정의 틀내에 전술의 흡착제, 바인다, 보강제의 혼합물을 충진하고 바인다의 연화점 이상으로 가열한 후 0.1-10kg/cm²의 압력을 걸어 압축 성형한 후 냉각하는 것에 의해 본 발명의 하니컴 또는 판상의 필타를 얻을 수 있다.

본 발명의 성형 금속산화물 첨착 활성탄은 하니컴상 또는 판상이기 때문에 압력손실이 극히 작고 또 상온 또는 저온에 있어서도 산화촉매로써 높은 기능을 갖기 때문에 실내용의 공기청정기에 있어서 메칠멥캅탄등의 악취가스의 제거제로써 우수하다.

[실시예]

이하 실시예를 들어 본 발명을 특히 구체적으로 설명한다.

실시예 1은 10-30메쉬로 분쇄한 석탄을 800℃로 건조한 후, 프로판 연소가스(가스조성 : 질소80%, 산소 0.2%, 탄산가스 9.8%, 수증기 10%)을 사용하여 900℃에서 비표면적 1300m²/g로 될때까지 부활한 후 질소로 치환한 용기내에 활성탄을 취출하고 질소가스안에서 300℃ 이하로 냉각하여 활성탄 담체를 얻는다.

다음에 비교예 1은 실시예 1과 같은 모양으로 하여 비표면적이 1300m²/g으로 될때까지 부활한 활성탄을 질소중에 취출하고 500℃로 될때까지 냉각한 후 공기중에 취출하여 방치 냉각하여 활성탄 담체를 얻었다.

특히 비교예 1의 활성탄 담체를 700℃, N₂50%, CO₂50%의 기류안에서 10분간 처리한 후, 질소중에 취출하고 실온까지 냉각하여 실시예 2의 활성탄 담체를 얻는다.

또, 비교예 1의 활성탄 담체를 900℃의 질소중에서 5분간 처리한 후, 질소중에서 실온까지 냉각하여 실시예 3의 활성탄 담체를 얻는다.

이들의 활성탄에 다음처럼 하여 금속산화물을 첨착한다.

금속염 100mg을 함유한 0.5 규정 산용액 200ml로 활성탄 담체 50g 넣어 잘 교반하고 3시간 방치한 후 순수 100ml로 세정하고 200℃에서 건조하여 금속산화물 첨착량 0.2wt%의 금속산화물 첨착 활성탄을 얻는다.

이와 같이 하여 얻어진 금속산화물 첨착 활성탄을 0.1-1mm로 분쇄한 후 활성탄 100부에 대하여 평균입자경 20미크론의 폴리에칠렌등 악취물질을 20부를 사용해 잘 혼합하고 프레스로 셀수 10개/10inch²하니컴상 또는 판상으로 성형했다.

이 성형한 하니컴 또는 판 10g을 1m×1mm×1mm의 상자에 넣고 팬위에 설치하여 휠타로써 사용하고 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질의 제거 테스트를 행했다. 초기 농도 500ppm으로 했을때의 30℃에서의 메칠멥캅탄등의 악취가스 제거속도의 측정결과를 표 1, 2에 나타냈다.

한편 비교예 2는 비표면적 1500m²/g의 일상 방법으로 얻은 시판 활성탄 담체로 금속산화물을 첨착하지 않고 그대로의 상태로 사용한 것이고 비교예 3은 시판의 하니컴상 또는 판상 활성탄에 금속산화물 1.0wt%을 첨착하여 사용한 것이다.

본 발명의 하니컴상 또는 판상 금속산호물 첨착 활성탄(실시예 1-6)은 어느것이나 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질을 단시간에 완전히 제거하고 우수한 제거성능을 나타냈다.

한편 비교예(1-6)에 표시한 것처럼 본 발명 이외의 활성탄 담체 및 일상적인 방법으로 얻어진 시판 활성탄 담체를 사용한 경우는 어느것이나 메칠멥캅탄등의 악취가스 제거속도가 늦었다.

특히 시판 하니컴상 또는 시판 활성탄에 이산화망간을 첨착한 것은 비표면적이 작기 때문에 산화촉매성이 작았다.

활성탄원료의 종류, 바인다로서의 프라스틱 분말의 입자경 및 혼합비율을 바꾸어 실시예 1과 같은 모양의 방법으로 금속산화물을 첨착하여 성형한 하니컴상 또는 판상 활성탄을 얻었다.

이들이 메칠멥캅탄등의 악취가스 제거속도의 측정결과를 표 3, 4(실시예 7-16, 비교예 7-16)에 나타냈다.

한편 비교예 10, 15는 바인다로써 프라스틱 입자대신에 SBR(스칠렌, 브타칠렌, 고무) 라티쿠스를 사용한 것이다.

표 3, 4에 표시한 것처럼 본 발명의 하니컴상 또는 판상 금속산화물 첨착 활성탄(실시예 7-16)은 산화촉매능, 하니컴상 또는 판상 강도 모두 크지만, 바인다의 입자경이 50㎛ 보다 큰 것(비교예 7, 8, 12, 13)은 하니컴상 또는 판상 성형체의 강도가 저하하여 실용할 수 없고 또 바인다를 50부 이상으로 사용하면(비교예 11, 16) 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등 악취물질 제거속도의 저하가 컸다.

표 5, 6에 나타낸 본 발명의 하니컴상 또는 판상 금속산화물 첨착 활성탄 및 비교위한 금속산화물 2.0% 첨착한 시판 하니컴상 또는 판상 활성탄 각 10g을 사용하여실시예 1과 같은 모양의 방법으로 저온에 대하여 메칠멥캅탄등의 악취가스 제거속도를 측정했다.

그 결과 및 시료의 성상을 표 5, 6에 나란히 나타냈다.

표 5, 6에 나타낸 형태로 본 발명의 하니컴상 또는 판상 금속산화물 첨착 활성탄(실시예 17-20)은 저온에서도 극히 빠르게 메칠멥캅탄등의 악취가스를 제거할 수 있는 것을 알았다.

실시예 1에 있어서 부활한 활성탄을 취출할때 N₂안에서 냉각후 공기중에 취출할때의 온도를 바꾼 활성탄을 만들어 실시예 1과 같은 모양의 방법으로 금속산화물을 첨착하고, 하니컴상 또는 판상으로 성형하여 금속산화물 첨착 활성탄을 얻었다.

이들의 활성탄을 사용하여 실시예 1과 같은 모양의 방법으로 메칠멥캅탄등의 악취가스 제거속도를 측정했다.

그 결과 및 사용한 활성탄의 특성을 7, 8에 나타냈다.

표 7, 8에 나타난 것처럼 본 발명의 하니컴 또는 판상 금속산화물 첨착 활성탄의 성능은 냉각후 먼저 공기에 접촉하는 온도에 의존하고 300℃ 이상에서는 제거능력이 대폭으로 저하하는 것을 알았다.

석탄 분말을 부활할때 부활가스의 수증기분압이 다른 조건에 대하여 900℃에서 비표면적 100m²/g으로 될 때까지 부활후 질소로 치환한 용기내에 하니컴상 또는 판상 활성탄을 취출하고 질소중에서 300℃ 이하로 냉각하고 특히 실시예 1과 같은 모양의 방법으로 금속산화물을 첨착하여 하니컴상 또는 판상으로 성형한 금속산화물 첨착 활성탄을 사용하여 실시예 1과 같은 모양의 방법으로 메칠멥캅탄등의 악취가스의 제거속도를 측정했다.

그 결과 및 사용한 활성탄의 성상을 9, 10에 나란히 나타냈다.

표 9, 10에 나타낸 것처럼 본 발명의 하니컴상 또는 판상 금속산화물 첨착 활성탄의 성능은 부활시의 수증기 농도에 의존하고 수증기 농도가 15% 이하의 경우에 높은 촉매성을 나타내는 것을 확인할 수 있었다.

본 발명의 성형 금속산화물 첨착 활성탄은 하니컴상 또는 판상이기 때문에 압력손실이 극히 적고 또 상온 또는 저온에 대해서도 산화촉매로써 높은 기능을 가졌기 때문에 메칠멥캅탄, 트리메칠아민등의 악취물질의 산화제거능력이 우수하다.

이 특성을 이용하여 실내용의 공기청정기의 메칠메캅탄등의 악취가스의 제거때에 사용할 수 있다.

Claims (3)

1. 탄소질원료를 입상 또는 섬유상으로 성형하여 탄화하고, 수증기 함유율 15용량% 이하의 분위기에서 부활한 후, 그대로의 분위기에서 300℃ 이하까지 냉각하고 철, 크롬, 닉켈, 코발트, 망간, 동, 마그네슘, 칼슘중 일종 이상의 금속으로 되는 금속산화물을 0.1-20중량% 담지시킨 활성탄 100중량부에 바인다로 입자경 1-50㎛의 프라스틱 분말 1-50중량부를 가해, 하니컴 또는 판상으로 성형시켜 된 탈취제의 제조방법.
2. 제1항에 있어서, 통상의 입상, 섬유 활성탄을 실질적으로 산소 또는 수증기를 함유하지 않은 질소가스 또는 탄산가스중에서 약 500℃ 이상으로 처리한 후 그대로의 분위기안에서 300℃ 이하가지 냉각하고, 특히 금속산화물을 0.1-20중량% 담지한 활성탄 100중량부에 바인다로 입자경 1-50㎛의 프라스틱 분말 1-50중량부를 더해, 하니컴 또는 판상으로 성형한 탈취제의 제조방법.
3. 탄소질원료를 입상 또는 섬유상으로 성형하여 탄화하고, 수증기 함유율 15용량% 이하의 분위기에서 부활한 후, 그대로의 분위기에서 300℃ 이하까지 냉각하고 금속산화물을 0.1-20중량% 된 활성탄 또는 통상의 입상, 하니컴, 섬유 활성탄을 실질적으로 산소 또는 수증기를 함유하지 않은 질소가스 또는 탄산가스중에서 약 500℃ 이상에서 처리한 후 그대로의 분위기안에서 300℃ 이하까지 냉각하고 특히 금속산화물을 0.1-20중량% 담지한 활성탄 100중량부에 바인다로 입자경 1-50㎛의 프라스틱 분말 1-50중량부를 가해, 하니컴 또는 판상으로 성형시켜 된 성형 금속산화물 첨착 활성탄 성형체를 사용하는 것을 특징으로 하는 탈취방법.