KR960012341A - 탄화규소(SiC) 재질 보트의 세정방법 - Google Patents
탄화규소(SiC) 재질 보트의 세정방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960012341A KR960012341A KR1019940022785A KR19940022785A KR960012341A KR 960012341 A KR960012341 A KR 960012341A KR 1019940022785 A KR1019940022785 A KR 1019940022785A KR 19940022785 A KR19940022785 A KR 19940022785A KR 960012341 A KR960012341 A KR 960012341A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- sic
- silicon carbide
- boat
- mixed
- cleaning
- Prior art date
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
본 발명은 반도체 제조공정 중 웰 드라이브인 프로세스를 수행하는 장비내의 탄화규소(SiC) 재질 보트의 세정방법에 관한 것으로, 불화수소와 순수가 적정비율로 혼합된 석영 크리닝 조건에 염산을 혼합시킨 혼합액으로 세정하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (2)
- 반도체 제조공정 중 웰 드라이브인 프로세스를 수행하는 장비 내의 탄화규소(SiC) 재질 보트의 세정방법에 있어서, 불화수소와 순수가 적정비율로 혼합된 석영 크리닝 조건에 염산을 혼합시킨 혼합액으로 세정하는 것을 특징으로 하는 탄화규소(SiC) 재질 보트의 세정방법.
- 제1항에 있어서, 상기 불화수소, 순수 및 염산의 혼합비는 4 대 4대 1인 것을 특징으로 하는 탄화규소(SiC) 재질 보트의 세정방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940022785A KR0134731B1 (ko) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | 탄화규소(SiC) 재질 보트의 세정방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940022785A KR0134731B1 (ko) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | 탄화규소(SiC) 재질 보트의 세정방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960012341A true KR960012341A (ko) | 1996-04-20 |
| KR0134731B1 KR0134731B1 (ko) | 1998-04-20 |
Family
ID=19392439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940022785A KR0134731B1 (ko) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | 탄화규소(SiC) 재질 보트의 세정방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0134731B1 (ko) |
-
1994
- 1994-09-09 KR KR1019940022785A patent/KR0134731B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR0134731B1 (ko) | 1998-04-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR960012341A (ko) | 탄화규소(SiC) 재질 보트의 세정방법 | |
| HUP0302066A2 (hu) | Eljárás szövetanyag tisztítására | |
| KR960005820A (ko) | 반도체 소자의 폴리실리콘막 세정방법 | |
| KR950027976A (ko) | 반도체 소자의 트렌치 세정 방법 | |
| KR980005900A (ko) | 반도체 장치의 웨이퍼 세정방법 | |
| KR960042993A (ko) | 반도체 장치의 세정방법 | |
| KR960026326A (ko) | 웨이퍼 세정방법 | |
| KR100373307B1 (ko) | 반도체소자의세정방법 | |
| KR970003584A (ko) | 반도체 기판의 세정방법 | |
| KR890005847A (ko) | 실리콘 반도체 장치의 표면 매탈증착전 처리방법 | |
| KR970052694A (ko) | 웨이퍼 세정방법 | |
| KR920005273A (ko) | 반도체기판의 표면 세정방법 | |
| KR960002677A (ko) | 반도체 소자용 실리사이드막 형성방법 | |
| KR950007006A (ko) | 반도체 소자의 웰 크린닝 공정방법 | |
| KR950021181A (ko) | 웨이퍼 세정방법 | |
| KR970049082A (ko) | 습식 식각 장비 및 이를 이용한 습식 식각 방법 | |
| KR960019560A (ko) | 폴리실리콘막 세정 방법 | |
| KR970013080A (ko) | 불산(hf)용액을 사용한 습식세정시 파티를 감소방법 | |
| KR930008981A (ko) | 반도체 제조공정중 세정방법 | |
| KR970052687A (ko) | 식각 및 세정용 화학처리제의 제조방법 | |
| KR950009955A (ko) | 반도체 소자의 금속배선 형성방법 | |
| KR960019551A (ko) | 웨이퍼 세정방법 | |
| KR950015625A (ko) | 웨이퍼 세정방법 | |
| KR970052662A (ko) | 반도체 소자의 불순물 제거방법 | |
| KR970003569A (ko) | 자외선/오존(uv/o_3)세정과 hf용액 세정을 혼합한 실리콘기판상에 금속불순물의 세정방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20061211 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |