KR960005639B1 - 흐르는 매체의 유량 측정장치 - Google Patents

흐르는 매체의 유량 측정장치 Download PDF

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로베르트 보쉬 게엠베하
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Abstract

내용 없음.

Description

흐르는 매체의 유량 측정장치
제1도는 본 발명을 설명하기 위한 개략적인 회로도.
제2도는 본 발명의 흐르는 매체의 유량 측정장치의 제1실시예의 전면의 평면도.
제3도는 상응하는 이면의 평면도.
제4도는 본 발명 장치의 제2실시예의 평면도.
제5도는 제4도를 선 V-V에 따라서 절단한 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
RS: 가열저항 RH: 측정저항
R1: 후막저항 RK1: 박막저항
3 : 저항 검출장치 20 : 기판
21 : 고정부분 25,26 : 슬리트(slit)
31,32,33 : 입술형상부분 39 : 도체로
[산업상의 이용분야]
본 발명은 특허청구의 범위 제1항의 상위개념에 기재한 흐르는 매체의 유량 측정장치로부터 출발하고 있다.
[종래기술]
미국 특허 제4399697호 명세서에는, 지지판 위에 층으로 형성되어 있는 2개의 저항을 구비하고, 그중 제1의 층은 가열저항으로서 사용되는 한편 지지판 위에 직접 고정되어 있고, 한편 제2의 층은 온도에 의존한 측정저항으로 형성되어 있는 한편 전기적인 절연층이 개재되어서 상기 제1의 층위에 설치되어 있는 장치가 이미 공지되어 있다. 가열저항 및 측정저항을 분리하는 절연층은 가열저항으로부터 측정저항으로의 더할나위 없는 열전도율이 가능한 정도로 얇다. 유량의 흐름의 변화는 측정저항 및 지지판의 표면에 전도되는 열량의 변화를 초래하고 또한, 측정저항은 오도에 의존하므로 측정저항의 전기저항의 변화를 초래하는 것이 된다. 이로 인하여 측정회로의 불평형이 발생하고 그것이 가열저항에 있어서의 가열전류의 변화에 의해서 보상된다. 흐르는 매체의 유량에 대한 척도로서 가열저항에 공급되는 전력이 이용된다. 다른 지지판에 설치되어 있는 부가적인 온도에 의존하는 저항이 매체온도의 보상을 위해 사용된다.
[발명이 해결하고자 하는 문제점]
이 주지의 장치에 있어서 적당치 못한 것은 측정해야 할 매체에 대류적으로 방출되는 열의 흐름만이 검출될 뿐만 아니고 지지판으로부터 지지판의 보유부로의 열전도에 의해 이동하는 열의 흐름도 검출되는 것이다. 지지판은 저항과 비교해서 큰 열용량을 소유하고 있으므로 이와 같은 부적합한 열전도 때문에 측정장치의 소요작동 온도에 도달하도록 하는 절환과정의 투입이 지연되게 되고 또 흐르는 매체의 유량의 변화에 대한 응답이 완만해진다. 따라서 이 주지의 장치의 측정저항의 기하한 배치는 최적이라고는 인정할 수 없다. 인정할 수 없다고 하는 것은 지지판으로부터의 측방향에 있어서의 열의 흐름이 측정결과의 정밀도에 부적합하게 작용하기 때문이다. 즉 측정저항의 유량변화에 대한 응답속도가 낮아진다.
또한 주지의 장치는 매우 더러워지기 쉽다고 하는 결점이 있다. 그 이유는 장치를 내연기관의 흡기관에 사용한 경우 흡기관 분위기로부터 이루어지는 더러움의 입자가 측정저항의 앞가장자리에 침적하는 동시에 작동기간이 비교적 길어지면 측정결과에 부적합하게 작용하는 것이 되기 때문이다. 따라서 본 발명의 과제는 기계적 및 전자적으로 간단한 구성이며 투입 접속시간이 짧고 유량의 변화에 대한 응답시간이 짧은 동시에 사용기간이 비교적 길어져도 높은 측정 정밀도를 보유하는 흐르는 매체의 유량 측정장치를 제공하는 것이다.
[문제점을 해결하기 위한 수단 및 발명의 이점]
특허청구의 범위 제1항의 특징부분에 기재한 구성을 갖는 본 발명의 장치가 유량 변화에 대한 응답시간이 짧다는 이점이 있다라고 하는 것은, 가열저항의 측정저항에 대한 크기 및 위치가 지지판으로부터 지지판의 고정부분으로의 열의 흐름이 측정결과에 영향을 주지 않는 동시에 측정저항이 그 면적 전역에 걸쳐서 유량의 정도에 관계없이 거의 같은 온도 프로필을 가지도록 선정되어 있기 때문이다.
특허청구의 범위의 실시양태 항에 기재한 구성에 의해 특허청구의 범위 제1항에 기재한 본 발명의 흐르는 매체의 유량 측정장치의 유리한 실시예 및 개량예가 가능하다. 예컨대 저항으로부터 또는 저항으로의 장애가 되는 열의 흐름을 방해하기 위해 열절연성의 슬리트를 지지판중에 설치하면 유리하다.
다시 측정저항을 지지판의 상류측의 가장자리로부터 가능한 한 멀리 떨어진 곳에 설치하여 측정저항의 영역에 있어서의 더러움의 정도를 될 수 있는 한 낮게 억제하도록 하면 유리하다.
장치의 기타저항은 유리하게는 같은 지지판 위에 수용되는 동시에 열절연성의 슬리트에 의해서 상호 분리된다. 이들의 저항에 있어서의 더러움이 영향은 측정저항의 경우에 비해서 중대하지 않으므로 이들 저항은 측정저항보다 흐름의 상류측에 위치시킬 수가 있다.
저항을 층으로서 형성하는 한편 여러가지의 저항에 대해서 평방센치당 같은 저항을 소유하는 동일 층을 사용하면 본 발명의 장치의 제조는 현저히 간소화된다. 그 경우 각각의 저항 특성은, 예컨대 레이저 가공에 의해 절단되는 저항층의 미앤더(meander) 형상의 형상화 등, 저항재료의 제거에 의해 정확하게 규정할 수 있다.
[실시예]
다음에 본 발명을 도시한 실시예에 대해 도면을 이용하여 상세히 설명한다.
제1도는 본 발명의 회로를 도시하는 것이며 그때 (1)는 액체가 관류하는 관이고, 매체의 흐름의 방향은 화살표(2)에 의해서 표시되어 있다. 관(1)은 예컨대 내연기관의 흡기관으로 할 수 있다. 관(1)의 유량을 검출하기 위하여 사용되는 이하 측정저항이라고 표시하는 저항 RH가 흐르는 매체내에 삽입되어 있다. 이 측정저항 RH는 후막저항 또는 박막저항으로서 제1도에는 도시되어 있지 않은 기판 위에 형성되어 있고, 한편 예컨대 브리지 회로로서 구성되어 있는 저항 검출장치(3)의 구성부분이다. 저항 검출장치(3)에는 기타 저항(R1,RK1,R2,R3)이 설치되어 있고, 전체로서 저항측정 브리지로서 구성되어 있다. 기준점(5)으로부터 출발하여 한쪽에서는 브리지암(arm)에 있어서 저항(R2,RK1및 R1)이 다른쪽에서는 (R3및 RH)가 직렬로 접속되어 있다. 저항(R1및 RH)의 접속선은 회로점(6)에 통합되어 있다. 조정 증폭기(7)에는 저항(RK1및 R2)의 접속점인 회로점(9)의 신호 및 저항(RH및 R3)의 접속점인 회로점(10)의 신호가 공급된다.
조정 증폭기는 예컨대 차동 증폭기로서 형성되어 있으나 본 발명은 이 형식의 차동 증폭기에 한정되지 않고 일반적으로 아나로그이든 디지탈이든 어떤 조정 기능에도 사용가능하다.
조정 증폭기(7)의 출력량은 저항(RS)에 공급되는 이 저항의 다른쪽의 접속선은 회로점(6)에 접속되어 있으므로, 전체로서 폐루프를 이루고 있다. 저항 검출장치(3)는 브리지 회로에 의해서가 아니고 다른 저항 측정회로에 의해 실현해도 좋은 것을 강조해 두고 싶다. 그런고로 본 발명의 실현 때문에 반드시 브리지 회로일 필요는 없고, 브리지에 유사한 측정회로라도 좋다.
이 장치의 원리적인 동작은 다음과 같다:조정 증폭기(7)의 출력 전류에 의해서, 이하 가열저항이라 부르는 저항(RS)의 가열이 행하여지고 그때 이 저항에 있어서의 가열 전력은 실질적으로 조정 증폭기(7)에 가해지는 브리지 대각점 전압에 의해서 정해진다. 가열저항(RS)은 측정저항(RH)과 될 수 있는 한 직접적인 열접촉이 발생하도록 구성되어 있다. (RS)와 (RH)와의 사이의 말할나위없는 열접촉에 의해서, 측정저항(RH)은 매체 온도보다 현저하게 위쪽에 있는 과도하게 높은 온도로 된다. 그래서 관내를 관류하는 유량을 변화하면 대류에 의해 열전도가 변화하기 때문에 측정저항(RH)은 영과는 다른 온도계수를 보유함으로 저항검출장치(3)가 불평형이 되고 이에 의거하여 조정 증폭기(7)는 가열저항(RS)에 인도되는 출력전류를 변화시킨다. 따라서 폐루프를 개재하여 방출되는 또는 흘러들어가는 열량 때문에 발생하는 측정저항(RH)의 변화는 가열저항(RS)의 가열 전력의 변화에 의해서 항시 보상되고, 그 결과 측정저항(RH)은 소정의 온도 내지 소정의 저항치에 유지된다. 가열전류 가열전력 내지 조정 증폭기(7)의 출력전압(UA)은 흐르는 매체의 유량에 대한 척도이다.
그러나 가열전류, 가열전력 내지 조정 증폭기(7)의 출력전압(UA)은 부가적으로, 흐르는 매체의 온도에도 의존하므로, 흐르는 매체의 온도변동은 보상되지 않으면 안된다. 이 때문에 같이 흐르는 매체에 들어나게 되는 동시에 직렬 접속된 저항(RK1)과 (R1)을 짜맞춘 보상저항(RK)이 사용된다. 저항(RK1)은 박막저항으로서 형성되어 있는 동시에 측정저항(RH)과 같은 기술 및 같은 공정으로 제조할 수 있으나, 저항(R1)은 후막저항이고, 그 조정은 보상저항(RK) 및 측정저항(RH)의 온도계수가 신호량을 검출하기 위한 평가방식에 따라서 상호 미리 정해진 관계가 성립되도록 예컨대 미앤더(meander) 형상의 절단가공에 의해서 행하여진다.
저항 검출장치(3)는 회로점(5)과 회로점(9) 사이에 있는 제1의 기준저항(R2) 및 회로점(5)과 회로점(10) 사이에 있는 제2의 기준저항(R3)에 의해서 구성된다. 기준저항(R2및 R3)은 흐르는 매체에 들어낼 필요는 없으나 (R2) 및 (R3)는 상호 될 수 있는 한 밀접하게 열접촉되어 있도록 하고, 그렇게 하면 저항(R2및 R3)의 온도계수의 허용 편차에 관한 엄밀한 작업이 생략된다. 제2도 및 제3도는 가열저항(RS), 측정저항(RH), 박막저항(RK1) 및 후막저항(R1)을 소유하는 본 발명의 제1유리한 실시예를 도시한다. 이들 저항은 모두 기판으로서 사용되는 판(plate) 형상의 기판(20) 위에 얇은 층으로서 형성되어 있다. 기판은 대체로 직사각형인 동시에 그 좁은 측면이, 고정부분(21)에 있어서 측정해야 할 매체가 관류하는 관(1)에 고정되어 있다. 화살표(23)에 의해서 도시되어 있는 대체의 흐름의 방향에 대해서 수직으로, 기판(20)에 2개의 슬리트(25,26)가 설치되어 있다. 이들 슬리트는 기판의 고정부분(21)과는 반대측에 시작하여 고정부분(21)의 근방까지 달하고 있다. 슬리트(25,26)에 의해서 기판(20)은 입술형상부분(31), 제2입술형상부분(32) 및 제3입술형상부분(33)으로 분할된다. 그때 제1입술형상부분(31)은 한쪽에 있어서 기판, 흐름의 상류측의 가장자리(35)에 의해서 제한되어 있고, 다른쪽에 있어서 제1슬리트(25)에 의해서 제한되어 있다. 기판의 제2입술형상부분(32)은 한쪽에 있어서 제1슬리트(25)에 의해서 제한되고, 다른쪽에 있어서 제2슬리트(26)에 의해서 제한되어 있는, 기판의 제3입술형상부분(33)은 한쪽에 있어서 제2슬리트(26)에 의해서 제한되어 있고, 다른쪽에 있어서 기판(20)의, 흐름의 하류측의 가장자리(36)에 의해서 제한되어 있다.
고정부분(21)에 있어서 기판(20)에는 접촉면(38)이 설치되어 있다. 이들 접촉면은 한쪽에 있어서, 기판(20)에 부착된 도체로(39)를 개재하여 저항(RH,RS,RK1및 R1)에 접속되어 있고, 다른쪽에 있어서 저항(R2,R3), 조정 증폭기(7) 및 영도체(제1도에 있어서의 회로점 6)에 전기적으로 접속되어 있다. 저항(RS,RH,RK1및 R1)은 각각 고정부분(21)과는 반대측의, 입술형상부분(31,32,33)의 일부분을 피복하고 있는 한편 유리하게는, 제1입술형상부분(31)에는 박막저항(RK1)이 설치되어 있고, 제2입술형상부분(32)에는 후막저항(R1)이 설치되어 있고, 제3입술형상부분(33)에는 측정저항(RH)이 설치되어 있듯이 배치 구성되어 있다. 가열저항(RS)은 제2도 및 제3도의 실시예에서는 기판(20)의 이면에 설치되어 있고, 고정부분(21)과는 반대측의, 제2입술형상부분(33)의 일부분을 피복하고 있다. 따라서 측정저항(RH)은 기판(20)의 제3입술형상부분(33)의 제1측면에 설치되어 있고, 가열저항(RS)은 다른쪽의 측면에 설치되어 있으며, RH및 RS는 기판(20)을 중간 개재하여 열접촉되어 있다.
기판(20)의 크기에 관한 저항의 기하학적인 크기는, 박막저항(RK1) 및 가열저항(RS)이 기판(20)의 고정부분(21)과는 반대측의 대략 절반을 덮듯이 선정되어 있다. 슬리트(25 및 26)의 길이는 그것들이 각각의 저항(RS,RH,RK1및 R1)에서 고정부분(21)에 보다 가깝게 이르도록 선정되어 있으며 이것에 의해 개개의 입술형상부분(31,32,33), 따라서 개개 저하으이 전혀 나무랄데 없는 열절연이 실현된다.
박막저항(RK1) 및 그 측정저항(RH)을 형성하는 저항층을 같은 재료로 제조하는 동시에 그것들이 고정부분(21)의 방향에 거의 같은 거리만큼 뻗어 있도록 하면, 장치의 제조는 현저하게 간소화된다. 박막저항(RK1) 및 측정저항(RH)은 평방센치당 같은 저항치를 소유하는 같은 재료로 제조되므로, 필요한 개별저항을 제조하기 위하여 이들 저항층은 미앤더(meander) 형상의 구조를 구비한다. 이것은 예컨대 제2도에 도시되어 있지 않은 레이저 절단가공에 의해서 행할 수 있다. RK1및 RH를 형성하는 저항층에 대한 재료로서 예커대 플래티나(platina)가 사용된다.
박막저항(RK1)과 측정저항(RH) 사이에 있어서 기판(20)의 제2입술형상부분(32) 위에 후막저항(R1)이 예컨대 후막방법으로 피복되어 있다. 측정저항(RH)의 영역에서 고정부분(21) 방향으로의 열의 흐름을 방해하기 위해, 가열저항(RS)은 측정저항(RH)에서 고정부분(21)에 보다 가까이까지 뻗어 있다. 측정저항(RH)을 형성하는 저항층의, 고정부분(21)과는 반대측의 부분만을 적당히 미앤더(meander) 형상으로 구성하여 도전성으로 하고, 한편이 저항층의 고정부분쪽의 측면부분을 전기적으로는 작용하지 않도록 하여, 전기적으로 접속되어 있지 않은 층(40)을 형성하도록 하면 측정저항(RH)의 유효면적의 이미 기술한 제한이 실현된다. 측정저항(RH)의 유효면적의 이와 같은 기하학적인 구성은 다음과 같이하여 실현된다. 즉, 가열저항(RS)의 넓어짐에 결정되는 기판(20)이 가열되어 대역이, 측정저항(RH)에서 고정부분(21)의 방향에 보다 돌출하고, 측정저항(RH)의 영역에서 고정부분(21)에 향하는 장해가 되는 열방출이 이와 같이하여 방해되고, 따라서 측정저항(RH)의 유량변화에 대한 응답속도가 양호하게 된다. 그것은 유량변화시 그때마다 측정저항(RH)에 있어서의 새로운 온도 프로필이 설정조정될 필요가 없기 때문이다.
개개의 저항을 조정하기 위해 층형상의 저항(RS)을 미앤더(meander) 형상으로 할 수도 있다.
제3도는 제3의 입술형상부(33)에 부착된 가열저항(RS)을 소유하는 본 발명 장치의 이면을 도시한다. 이 저항은 예컨대 고정부분(21)의 방향으로 열을 절단면(41)이 있고, 따라서 U자 형상을 하고 있다. 기판(20)의 이면에도 도체로(39)를 개재하여 U자형의 가열저항(RS)의 각부에 접속되어 있는 접점 영역(38)이 있다. 기판(20)의 이면에 있어서 제1입술형상부분(31) 및 제2입술형상부분(32)의 영역에는 전기적인 구성부분은 존재하지 않는다.
본 발명의 다른 실시예는 제4도 및 제5도에는 그 단면도가 도시되어 있다. 아 실시예에서는 측정저항(RH) 및 가열저항(RS)은 기판(20)의 달라진 면에 설치되어 있지 않고 양쪽 공히 박막저항(RK1) 및 후막저항(R1)과 동일하게 기판(20)의 표면에서는 가열저항(RS) 및 측정저항(RH)층은 상하방향으로 겹쳐 장착되어 있다. 기판으로서 사용되는 기판(20)에 직접 가열저항(RS)이 설치되어 있고, 그위에 전기적으로는 절연성이나 열전도성이 양호한 층(43), 예컨대 유리층을 중간 개재하여 측정저항(RH)이 장착되어 있다. 개개의 전기적인 구성부분의 구성높이를 보상하는 한편 제조기술상의 이유에서 기판(20)의 제3입술형상부분(33) 뿐만이 아니고 기타 2개의 입술형상부분(31 및 32)에도 층(43)이 덮어 씌워지고, 그 결과 기판(20)과는 반대측에 있어서 층(43)은 1개의 면내에 끝난다. 층(43)에는 측정저항(RH)외에 후막저항(R1) 및 박막저항(RK1)이 설치되어 있다. 저항을 더러움 및 손상으로부터 보다 좋게 보호하기 위하여 기판(20) 및 저항에는 부가적인 보호층(44)을 덮어 씌울 수 있다.
제2도 및 제3도의 제1실시예와 제4도 및 제5도의 제2실시예와의 차이는 첫째로 측정저항(RH)과 가열저항(RS) 사이의 전기적인 절연이 다른 것이다. 즉 제1실시예에서는 기판(20) 자체가 절연츠으로서 사용되고 이것에 대해서 제2실시예에서는 층(43)이 절연층으로서 사용된다. 물론 가열저항(RS) 및 측정저항(RH)이 층(43)에 의해서만이 분리되어 있지 않을때는 이들 저항에 인도되는 도체로(39)도 상호 전기적으로 절연되지 않으면 안된다. 이때는 같은 층(43)을 사용하여 실현할 수 있다.
도시한 양쪽의 실시예에 공통하고 있는 것은 측정저항(RH)이 흐름의 방향으로 보아 기판(20)의 후방부분에 있고, 이것에 의해 이 형식의 장치의 전방부분에는 대단히 심착하기 쉬운 더로운 침착물이 측정결과에 불과 얼마안되는 영향밖에 미치지 않는다고 하는 중요한 특징이다. 슬리트(25,26)에 의해 저항에는 또는 저항으로의 열의 흐름이 대폭으로 회피되고, 다시 슬리트(25,26)는 부가적인 "오물 집합소"로서 이용된다. 그것은 슬리트에는 더러움 입자가 침착하기 때문이다.

Claims (14)

  1. 측정해야 할 유체중에 고정부분을 사용하여 보유되어 있는 기판을 구비하고, 그 기판위에 막형상의, 온도에 의존하는 저항 및 저항 검출장치를 개재하여 흐르는 매체의 유량에 의존하여 폐루프 제어가능한 가열저항이 설치되어 있고, 그 가열저항은 동일한 막 형상인 동시에 상기 측정저항과는 전기적으로 절연되어서 겹쳐있는, 흐르는 매체의 유량 측정장치에 있어서, 가열저항(RS)의 면적이 측정저항(RH)의 면적보다 크게하는 동시에 가열저항(RS)이 측정저항(RH)에서 더 길게 고정부분(21)의 방향으로 뻗어 있도록 한 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  2. 제1항에 있어서, 측정저항(RH) 및 가열저항(RS)은 기판(20)의 흐름의 방향에 대해서 수직으로 기판(20)을 통해서 뻗어 있는 슬리트(26)에서 흐름의 하류측에 존재하고 있는 부분상에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  3. 제2항에 있어서, 기판(20)은 한쪽의 측면이 고정되어 있는 동시에 슬리트(26)는 기판(20)의 고정부분과는 반대의 측면으로부터 시작하여 고정부분(21)의 방향으로 뻗어 있는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  4. 제3항에 있어서, 가열저항(RS)은 흐름의 상류 측면에 있어서 슬리트(26)에 의해서 제한되어 있는 동시에 흐름의 하류 측면에 있어서 기판(20)의 흐름의 하류 측면의 가장자리(36)에 의해서 제한되어 있는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  5. 제4항에 있어서, 기판(20)에 있어서 슬리트(26)에서 흐름의 상류 측면에 보상저항(RK)이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  6. 제5항에 있어서, 기판(20)는 슬리트(26)에서 흐름의 상류측에 있어서 그 슬리트(26)에 대해서 평행으로 뻗어 있는 다른 슬리트(25)를 구비하고 있는 동시에 그 다른 슬리트(25)의 한쪽의 측면에 온도에 의존하는 박막저항(RK1)이 또다른 쪽의 측면에 후막저항(R1)이 기판위에 장착되어 있는 동시에 상기 박막저항(RK1) 및 후막저항(R1)은 함께 보상저항(RK)을 형성하는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  7. 제6항에 있어서, 박막저항(RK1)은 슬리트(25) 내지 기판(20)의 흐름의 하류 측면의 가장자리(35)에 의해서 끝나 있는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  8. 제7항에 있어서, 가열저항(RS) 및 박막저항(RK1)은 기판(20)의 고정부분(21)과는 반대측의 부분에 존재하는 동시에 기판(20)의 고정부분(21)과 반대측의 가장자리까지 이르고 있는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  9. 제8항에 있어서, 측정저항(RH)도 기판(20)의 고정부분과는 반대측의 가장자리까지 이르고 있는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  10. 제1항 내지 제9항중 어느 한항에 있어서, 측정저항(RH) 및 박막저항(RK1)은 평방센치당 동일한 저항치를 소유하는 한편 기판(20)의 동일 측면의 평면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  11. 제6항 내지 제9항중 어느 한항에 있어서, 저항군(RH,RS,RK1,R1)의 개개의 저항은 미앤더(meander) 형상의 절단가공에 의해서 정해져 있는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  12. 제1항 내지 제9항중 어느 한항에 있어서, 측정저항(RH) 및 가열저항(RS)은 각각 기판(20)의 다른 측면의 평면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  13. 제1항 내지 제9항중 어느 한항에 있어서, 측정저항(RH)의 가열저항(RS)은 기판(20)의 동일측면의 평면에 형성되어 있는 동시에 측정저항(RH)은 가열저항(RS)의 하측면에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
  14. 제12항에 있어서, 적어도 측정저항(RH), 박막저항(RK1), 후막저항(R1)에는 보호층(44)이 피복되어 있는 것을 특징으로 하는 흐르는 매체의 유량 측정장치.
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