KR960004090B1 - Semiconductor package - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 97
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229920006336 epoxy molding compound Polymers 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
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Abstract
Description
제 1 도는 일반적인 수지봉지형 반도체 패키지의 일부 단면을 포함하는 사시도.1 is a perspective view including a partial cross section of a general resin-encapsulated semiconductor package.
제 2 도는 종래 적층형 반도체 패키지의 실시예의 단면도.2 is a cross-sectional view of an embodiment of a conventional stacked semiconductor package.
제 3 도는 이 발명에 따른 반도체 패키지의 일실시예를 나타내는 단면도.3 is a cross-sectional view showing an embodiment of a semiconductor package according to the present invention.
제 4 도는 이 발명에 따른 반도체 패키지의 다른 실시예를 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing another embodiment of a semiconductor package according to the present invention.
이 발명은 반도체 패키지에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 두 개의 반도체 칩을 이방성 도전층을 사용하여 하나의 패키지내에 적층하여 제조공정이 간단하며 메모리 용량의 확대가 용이한 반도체 패키지에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor package, and more particularly, to a semiconductor package in which two semiconductor chips are stacked in one package using an anisotropic conductive layer to simplify a manufacturing process and to easily expand memory capacity.
최근 반도체 장치의 고집적화, 메모리 용량의 증가, 신호 처리속도 및 소비 전력의 증가, 다기능화 및 고밀도 실장의 요구 등이 가속화되는 추세에 따라 반도체 패키지의 중요성이 증가하고 있다.The importance of semiconductor packages is increasing with the recent trend of increasing integration of semiconductor devices, increasing memory capacity, increasing signal processing speed and power consumption, demand for multifunctionalization, and high density mounting.
상기 반도체 장치의 고집적화 및 메모리 용량의 증가로 입출력 단자수가 증가되어 감에 따라 반도체 장치의 외부와의 접속을 위한 입출력 단자인 리이드의 수가 증가되므로 상기 리이드가 미세 피치(fine pitch)화되어 리이드의 설계가 어려워지고 있다.As the number of input / output terminals increases due to the higher integration of the semiconductor device and the increase in memory capacity, the number of leads, which are input / output terminals for connection to the outside of the semiconductor device, increases, so that the leads are fine pitched to design the leads. Is getting harder.
반도체 장치의 신호 처리 속도 및 소비전력이 증가되어 감에 따라 반도체 장치에서 다량의 열이 발생되어, 이 열을 발산시키기 위하여 상기 반도체 패키지의 별도의 열방출용의 히트 싱크를 설치하거나, 열전도율이 높은 재료로 패키지 몸체를 형성한다. 또한 상기 반도체 장치의 다기능화에 따라 여러가지 기능을 갖는 반도체 패키지가 요구되고 있다.As the signal processing speed and power consumption of the semiconductor device are increased, a large amount of heat is generated in the semiconductor device, and in order to dissipate the heat, a heat sink for separate heat dissipation of the semiconductor package is installed or a high thermal conductivity is generated. Form the package body from the material. In addition, as the semiconductor devices become more versatile, semiconductor packages having various functions are required.
일반적으로, IC 또는 LSI 등의 반도체 칩은 반도체 패키지에 밀봉되어 인쇄회로기판에 장착된다. 이러한 반도체 패키지(10)의 기본형은 제 1 도에 도시되어 있는 바와 같이, 반도체 칩(11)이 방열용 금속판인 다이패드(12)상에 Ag 에폭시 등의 접착재나 열압착 방법에 의해 실장되며, 상기 다이패드(12)의 주변에 리이드(14)들이 일정간격으로 형성되어 있으며, 본딩 와이어(13)에 의해 반도체 칩(11)의 전극단자인 본딩패드와 외부회로 접속용의 리이드(14)가 접속되어 있고, 에폭시 몰딩 컴파운드(epoxi moulding compound ; 이하 EMC라 칭함)로 수지봉지되어 성형된 패키지 몸체(15)가 상기 반도체 칩(11)과 와이어(13)를 감싸 보호하는 구조를 갖는다.In general, a semiconductor chip such as an IC or LSI is sealed in a semiconductor package and mounted on a printed circuit board. As shown in FIG. 1, the basic type of the semiconductor package 10 is mounted on the die pad 12, which is a heat dissipating metal plate, by an adhesive such as Ag epoxy or a thermocompression method. Leads 14 are formed at predetermined intervals around the die pad 12. The bonding pad 13, which is an electrode terminal of the semiconductor chip 11, and the lead 14 for connecting an external circuit are formed by the bonding wire 13. The package body 15, which is connected and resin-sealed with an epoxy molding compound (hereinafter referred to as EMC), is formed to surround and protect the semiconductor chip 11 and the wire 13.
이와 같은 수지봉지형 반도체 패키지는 리이드가 패키지 몸체의 양변으로부터 수직아래방향으로 돌출되어 있는 디.아이.피(dual in line package ; 제 1 도에 도시되어 있음) 방식과, 리이드가 패키지의 4변으로 돌출되어 있는 큐.에프.피(quad flat package) 방식이 주류를 이루고 있다. 상기 QFP는 리이드의 수를 DIP보다 비교적 많이 형성할 수 있으므로 고집적메모리소자 등에 적합하다.Such a resin-encapsulated semiconductor package has a dual in line package (shown in FIG. 1) in which the leads protrude vertically downward from both sides of the package body, and the leads have four sides of the package. The quad flat package protruding into the mainstream is the mainstream. Since the QFP can form a relatively larger number of leads than the DIP, the QFP is suitable for a high density memory device.
이러한 반도체 칩의 실장밀도를 위하여 반도체 칩을 직접 인쇄회로기판에 실장하는 방법과 반도체 칩 또는 반도체 패키지를 적층하는 등의 방법이 연구 실행되고 있다.For mounting density of such semiconductor chips, a method of directly mounting a semiconductor chip on a printed circuit board and stacking a semiconductor chip or a semiconductor package has been studied.
특히 메모리용 반도체 칩의 경우 입출력 단자인 리이드를 병렬로 연결하여 메모리 용량을 증가시키는 방법이 있으며, 이를 위하여 동일한 반도체 패키지의 리이드들을 적어도 두개 이상 적층하거나, 두개의 반도체칩을 적층한 후 하나의 패키지 몸체로 수지봉지하는 방법 등이 있다.In particular, in the case of a memory semiconductor chip, there is a method of increasing memory capacity by connecting leads, which are input / output terminals, in parallel. For this purpose, at least two leads of the same semiconductor package are stacked or two semiconductor chips are stacked and then one package is used. And resin encapsulation in a body.
제 2 도는 종래 기술에 따른 반도체 칩의 적층패키지를 나타낸 것으로서, 이를 살펴보면, 제 1 및 제 2 반도체 칩(16),(17)이 상부표면에 탑재되어 있는 제 1 및 제 2 기판(18),(19)이 서로 배면을 맞대로 절연 접착되어 있으며, 그 사이에 일정간격으로 형성되어 있는 리이드(20)들이 개재되어 있다.2 shows a stacked package of a semiconductor chip according to the prior art, in which the first and second substrates 18 and 17 are mounted on the upper surface of the first and second semiconductor chips 16 and 17. 19 are mutually insulated and bonded to the back of each other, and the leads 20 are formed at regular intervals therebetween.
상기 제 1 및 제 2 기판(18)(19)은 유리 또는 에폭시 등과 같은 절연재질로 형성되어 있으며, 그 표면에 랜드패턴이 형성되어 있다. 상기 제 2 반도체 칩(17)은 회로 및 본딩패드가 제 1 반도체 칩(16)과 대칭되도록 형성되어 있는 밀러칩이며, 제 1 및 제 2 반도체 칩(16),(17)은 Ag 에폭시 등의 접착제나 열압착 방법으로 실장된다.The first and second substrates 18 and 19 are formed of an insulating material such as glass or epoxy, and land patterns are formed on the surfaces thereof. The second semiconductor chip 17 is a Miller chip in which a circuit and a bonding pad are formed to be symmetrical with the first semiconductor chip 16, and the first and second semiconductor chips 16 and 17 are made of Ag epoxy or the like. It is mounted by adhesive or thermocompression method.
상기 제 1 및 제 2 반도체 칩(16),(17)의 본딩패드와 상기 제 1 및 제 2 기판(18),(19)상의 랜드패턴과 와이어(21)로 연결되어 있으며, 상기 랜드패턴에서 다시 리이드(20)와 와이어(21)로 연결된다. 이렇게 두번에 걸쳐 와이어 본딩하는 것은 와이어의 길이가 길어져 단락되는 것을 방지하기 위한 것이다.Bonding pads of the first and second semiconductor chips 16 and 17 and land patterns on the first and second substrates 18 and 19 and wires 21 are connected to each other. It is connected to the lead 20 and the wire 21 again. This two-time wire bonding is intended to prevent the wire from being shortened due to its long length.
또한 상기 제 1 및 제 2 반도체 칩(16),(17)과 제 1 및 제 2 기판(18),(19)과 리이드(20) 및 와이어(21)를 감싸 보호하는 패키지 몸체(21)가 EMC 등의 몰딩부재로 성형하여 형성되어 있다.In addition, the package body 21 surrounding and protecting the first and second semiconductor chips 16 and 17, the first and second substrates 18 and 19, the leads 20, and the wires 21 are provided. It is formed by molding with molding members such as EMC.
이러한 반도체 패키지는 메모리 모듈 또는 메모리 카드 등과 같이 일정한 면적에 반수의 반도체 패키지를 사용하여 동일한 메모리 용량을 얻을 수 있어 널리 사용되고 있다.Such semiconductor packages are widely used because they can obtain the same memory capacity by using half the semiconductor packages in a predetermined area such as a memory module or a memory card.
그러나 상술한 종래의 반도체 패키지는 메모리 용량을 증가시키기 위하여 반도체 칩 이외에도 상기 반도체 칩과 본딩패드의 위치가 마주보며 대응되도록 형성되어 있는 밀러칩을 사용하여 하나의 반도체 패키지에 두개의 반도체 칩을 사용하는 방법으로서, 별도의 밀러칩을 제작하여야 하고 와이어 본딩도 두번을 실시하여야 하므로 반도체 패키지의 제작 및 생산에 필요한 시간 및 경비가 증가되는 문제점이 있다.However, the above-described conventional semiconductor package uses two semiconductor chips in one semiconductor package by using a Miller chip which is formed so that the positions of the semiconductor chip and the bonding pad face each other in addition to the semiconductor chip in order to increase memory capacity. As a method, a separate Miller chip must be manufactured and wire bonding must be performed twice, thereby increasing the time and cost required for manufacturing and producing a semiconductor package.
따라서 이 발명의 목적은 반도체 칩의 밀러칩을 사용하지 않고 간단하게 메모리 용량을 증가시킬 수 있어 제작 및 생산에 필요한 시간 및 경비를 절감할 수 있는 반도체 패키지를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor package that can easily increase the memory capacity without using the Miller chip of the semiconductor chip, thereby reducing the time and cost required for manufacturing and production.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 이 발명은 두개의 반도체 칩을 하나의 패키지몸체내에 수용하는 반도체 패키지에 있어서, 일정간격으로 형성되어 일측의 상부에 제 1 반도체 칩의 배면이 실장되어 있는 리이드들과, 상기 제 1 반도체 칩의 본딩패드들과 리이드를 연결하는 와이어들과, 상기 제 1 반도체 칩이 실장되어 있는 리이드들의 하부에 접착되어 상하 방향으로만 전기적으로 도통되는 이방성 도전층과, 상기 제 1 반도체 칩과 대응되도록 형성되어 상기 이방성 도전층의 하부에 실장되어 있는 제 2 반도체 칩과, 상기 제 1 및 제 2 반도체 칩과 와이어를 감싸 보호하는 패키지 몸체를 구비하여 되는 반도체 패키지인 점을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention is a semiconductor package that accommodates two semiconductor chips in one package body, the leads are formed at a predetermined interval and the back surface of the first semiconductor chip is mounted on the upper side of one side Wires connecting the bonding pads and the lead of the first semiconductor chip to each other, an anisotropic conductive layer bonded to the lower portions of the leads on which the first semiconductor chip is mounted and electrically conducting only in the vertical direction; And a second semiconductor chip formed to correspond to the first semiconductor chip and mounted below the anisotropic conductive layer, and a package body surrounding and protecting the first and second semiconductor chips and wires. It is done.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 이 발명에 따른 반도체 패키지를 상세히 설명한다.Hereinafter, a semiconductor package according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
제 3 도는 이 발명에 따른 반도체 패키지(30)의 일실시예에 따른 단면도로서, 반도체 칩과 연결되는 내부 리이드와, 외부와 연결되는 외부리이드로 구성되어 있는 리이드(33)들이 일정간격으로 형성되어 있으며, 상기 리이드(33)들의 일측 상부에는 제 1 반도체 칩(31)이 상부에 실장되어 있는 절연테이프(32)가 접착되어 있어 상기 리이드(33)들에 의해 지지된다. 상기 리이드(33)들과 상기 제 1 반도체 칩(31)의 본딩패드(도시되지 않음)들은 와이어(34)로 연결되어 있으며, 상기 절연테이프(32)는 폴리이미드 등과 같은 절연재질로 양면에 접착성을 갖는다.3 is a cross-sectional view according to an embodiment of the semiconductor package 30 according to the present invention, in which leads 33 formed of an inner lead connected to the semiconductor chip and an outer lead connected to the outside are formed at predetermined intervals. The insulating tape 32 having the first semiconductor chip 31 mounted thereon is adhered to one side of the leads 33 and supported by the leads 33. Bonding pads (not shown) of the leads 33 and the first semiconductor chip 31 are connected by wires 34, and the insulating tape 32 is adhered to both surfaces by an insulating material such as polyimide. Have sex.
상기 리이드(33)들의 일측 하부에는 상하 방향으로만 전기적으로 도통되는 이방성 도전층(35)이 부착되어 있으며, 상기 이방성 도전층(35)의 하부에는 제 2 반도체 칩(36)이 실장되어 있다. 상기 제 1 및 제 2 반도체 칩(31),(36) 및 와이어(34)를 감싸 보호하도록 EMC 등의 몰딩부재를 성형하여 패키지 몸체(37)가 형성되어 있다.An anisotropic conductive layer 35 that is electrically conductive only in an up and down direction is attached to one lower side of the leads 33, and a second semiconductor chip 36 is mounted below the anisotropic conductive layer 35. The package body 37 is formed by molding a molding member such as EMC to surround and protect the first and second semiconductor chips 31, 36, and the wire 34.
이때 상기 제 2 반도체 칩(36)은 상기 제 1 반도체 칩(31)과 동일한 칩으로서 서로 대응되는 부분의 본딩패드들이 동일한 리이드(33)에 연결되어지며, 따라서 메모리 용량이 2배로 확대되므로, 예를들어 8M DRAM의 반도체 칩 2개를 패키지하여 16M DRAM의 메모리 용량을 갖게 할 수 있다.In this case, the second semiconductor chip 36 is the same chip as the first semiconductor chip 31, and bonding pads of portions corresponding to each other are connected to the same lead 33, so that the memory capacity is doubled. For example, two semiconductor chips of 8M DRAM can be packaged to have a memory capacity of 16M DRAM.
상기 이방성 도전층(35)은 고무 등과 같이 신축성을 갖는 절연 재질의 주재료에 은(Ag) 등과 같은 금속 분말이 고르게 배합 분포되어 있는 것으로서, 상기 제 2 반도체 칩(36)의 실장시 소정의 압력을 가하면 제 2 반도체 칩(36)의 본딩패드 상부의 이방성 도전층(35)이 두께의 10% 정도가 압축되어 그 부분의 금속분말이 서로 압착되어 상하 방향으로만 전기적으로 도통된다.The anisotropic conductive layer 35 is a mixture of metal powders such as silver (Ag) and the like evenly distributed in the main material of the elastic insulating material, such as rubber, etc., the predetermined pressure at the time of mounting the second semiconductor chip 36 When applied, the anisotropic conductive layer 35 on the bonding pad of the second semiconductor chip 36 is compressed by about 10% of the thickness, and the metal powders of the portions are compressed to be electrically connected only in the vertical direction.
이러한 이방성 도전층이 신축성을 갖는 재질의 주재료에 금속분말이 배합되어 있는 구조가 아닌 다른 방법으로 구성되는 실시예는 제 4 도에 도시되어 있는 바와 같이, 리이드(33)의 하부에 부착되어 있는 이방성 도전층(40)은 신축성을 갖는 고무 등과 같은 절연박막이 제 2 반도체 칩(36)의 본딩패드에 대응되는 부분에 관통공이 형성되어 있으며, 상기 관통공의 내부 및 외부에는 상하 방향으로 도통되도록 도전기둥(41)이 형성되어 있는 것으로서, 본딩패드상에 범프(42)가 형성되어 있는 제 2 반도체 칩(36)이 상기 도전기둥(41)상에 압착 실장되어 있다. 이때 상기 도전기둥(41)은 고무 등 신축성을 갖는 재질의 기둥 표면에 금(Au) 등의 도전물질이 도포되어 구성되는 것으로서, 상기 범프(42)는 상기 제 2 반도체 칩(36)의 본딩패드의 깨짐을 방지하기 위한 것이다.An embodiment in which the anisotropic conductive layer is formed by a method other than the structure in which the metal powder is blended with the main material of the elastic material is shown in FIG. The conductive layer 40 has a through hole formed in a portion of the insulating thin film, such as rubber having elasticity, that corresponds to the bonding pad of the second semiconductor chip 36. The conductive layer 40 conducts the conductive hole 40 in the vertical direction. The pillar 41 is formed, and the 2nd semiconductor chip 36 in which the bump 42 is formed on the bonding pad is crimp-mounted on the said conductive pillar 41. In this case, the conductive pillar 41 is formed by coating a conductive material such as gold (Au) on the surface of a pillar made of elastic material such as rubber, and the bump 42 is a bonding pad of the second semiconductor chip 36. Is to prevent the breakage.
상술한 바와 같이 이 발명은 2개의 동일한 메모리용 반도체 칩이 하나의 패키지 몸체에 실장되는 반도체 패키지에서 다이패드가 형성되어 있지 않은 리이드 프레임을 사용하여 리이드의 일측 상하부에 제 1 및 제 2 반도체 칩을 실장하였다. 즉 제 1 반도체 칩은 상기 리이드의 일측 상부에 실장하여 상기 리이드와 와이어 본딩으로 연결하였으며, 제 2 반도체 칩은 상하방향으로만 전기적으로 도통되는 이방성 도전층으로 실장하여 상기 리이드와 연결하였다. 그다음 상기 제 1 및 제 2 반도체 칩과 와이어 등을 감싸 보호하도록 몰딩부재로 패키지 몸체를 형성하였다.As described above, in the semiconductor package in which two identical memory semiconductor chips are mounted on one package body, the first and second semiconductor chips are disposed on upper and lower sides of the lead using a lead frame without a die pad. Mounted. That is, the first semiconductor chip is mounted on one side of the lead and connected to the lead by wire bonding, and the second semiconductor chip is mounted on the lead and connected to the lead by an anisotropic conductive layer which is electrically conductive only in the vertical direction. Then, the package body was formed of a molding member to surround and protect the first and second semiconductor chips, wires, and the like.
따라서 이 발명은 동일한 두개의 메모리용 반도체 칩을 하나의 반도체 패키지에 실장하므로 별도의 밀러칩이 필요치 않아 적층 패키지의 연구 및 생산에 필요한 시간 및 경비를 절감할 수 있으며, 용이하게 메모리 용량을 증가시킬 수 있는 이점이 있다.Therefore, the present invention mounts the same two memory semiconductor chips in one semiconductor package, so that no separate Miller chip is required, thereby reducing the time and cost required for the research and production of the multilayer package, and easily increasing the memory capacity. There is an advantage to this.
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019930003274A KR960004090B1 (en) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | Semiconductor package |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019930003274A KR960004090B1 (en) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | Semiconductor package |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR940022756A KR940022756A (en) | 1994-10-21 |
KR960004090B1 true KR960004090B1 (en) | 1996-03-26 |
Family
ID=19351665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019930003274A KR960004090B1 (en) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | Semiconductor package |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR960004090B1 (en) |
-
1993
- 1993-03-05 KR KR1019930003274A patent/KR960004090B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR940022756A (en) | 1994-10-21 |
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