KR950013916B1 - 헥토라이트 점토 직물 유연제를 함유하는 세제 조성물 - Google Patents

헥토라이트 점토 직물 유연제를 함유하는 세제 조성물 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

[발명의 명칭]
헥토라이트 점토 직물 유연제를 함유하는 세제 조성물
[발명의 상세한 설명]
본 발명은 세제 조성물에 관한 것이다. 더욱 특히, 본 발명은 직물 유연량의 헥토라이트 점토를 층 전하분포(layer charge distribution)가 좁은 입자 형태로 함유하는 세제 조성물에 관한 것이다.
영국 특허 제1 400 898호에는 직물 유연 성분으로서, 스멕타이트형(smectite- type) 점토를 포함하는 세제 조성물이 기술되어 있다. 양이온 교환능이 50meq/100g 이상인 스멕타이트형 점토라면 어떠한 것이나 적합한 것으로 기술되어 있다. 둘 다 나트륨 몬트모릴로나이트 점토인 겔화이트(Gelwhite) GP 및 볼클레이(Volclay) BC는 색상 및 양이온 교환능으로 인해 바람직한 것으로 기술되어 있다.
현재 세제 산업에서는 영국 특허 제1 400 898호에 기술된 유형의 점토가 세탁용 세제에 사용될 경우, 상당한 직물 유연 장점을 제공하는 것으로 널리 인지되어 있다. 그러나, 이들 점토가 세탁 도중에 직물에 잘 침착되지 않고 ; 사실상 전형적인 유럽의 세탁조건하에 이용가능한 점토의 절반 미만이 직물에 침착될 뿐, 나머지는 후속의 세정단계 동안에 세탁액에 의해 씻겨져 버린다는 것도 마찬가지로 널리 인지되어 있다. 또한, 점토 침착의 결과로서 수득된 유연효과는 미지의 요인에 의해 영향을 받는다.
따라서, 본 발명의 목적은 점토 입자가 세탁 도중에 직물에 보다 효과적으로 침착되는 직물 유연 점토를 포함하는 세제 조성물을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 보강제 시스템을 사용하지 않아도 점토 입자가 효과적으로 침착되는 세제 조성물을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 현재까지 상업적인, 세척을 통한 유연 (softness-through-the-wash) 세제 조성물에 사용된 점토물질 보다 현저하게 우수한 직물 유연성을 제공하는 세제 조성물에 사용하기 위한 점토물질을 선택하는 것이다.
본 발명은 직물 유연량의 직물 유연 점토를 함유하는 세제 조성물에 관한 것이다. 전형적으로, 점토의 양은 세제 조성물의 1 내지 25중량%이다. 직물 유연 점토는 흔히 트리옥타헤드랄 스멕타이트로 언급되는 천연 헥토라이트 점토이다. 당해 점토는 입자 형태로 존재한다. 이들 입자는, 점토의 50% 이상이 0.23 내지 0.31의 층전하를 가질 정도로 층전하분포가 좁다.
본 발명의 세제 조성물은 통상의 세제 계면활성제, 통상의 세제 보강제 및 임의로 다른 통상적인 세제 성분을 포함한다. 조성물은 또한 직물 유연량, 전형적으로 세제 조성물의 1 내지 25중량%의 직물 유연 점토를 포함한다. 스멕타이트형 점토는 이의 층 전하성에 근거하여 선택된다. 본 발명의 세제 조성물에 적합한 천연 헥토라이트 점토는 다음 일반식( I )을 갖는다.
Figure kpo00001
상기식에서, y는 0이거나 ; y가 0이 아닐 경우, MeIII은 Al, Fe 또는 B이고 ; Mn+는, 예를들면 Na, K, Mg, Ca 및 Sr중에서 선택된 1가(n=1) 또는 2가 (n=2) 금속 이온이며 ; (x+y)의 값은 헥토라이트 점토의 층전하이다. 본 발명의 세제 조성물에 적합한 헥토라이트 점토는 50% 이상이 0.23 내지 0.31인 층 전하분포를 갖는다.
65% 이상이 0.23 내지 0.31인 층 전하분포를 갖는 천연 헥토라이트 점토가 바람직하다.
점토물질의 층전하 분포는 쇄길이가 특정한 양이온성 계면활성제의 존재하에 이의 팽윤성을 이용하여 측정할 수 있다. 이 방법은 본 명세서에 참고로 인용된 문헌 [Lagaly and Weiss, Zeitschrift fuer Pflanzenernaehrung und Bpdenkunde, 130(1), 1971, pages 9-24]에 상세히 기술되어 있다.
최근에, 직물 유연제의 객관적 평가방법이 개발되었다. 이 방법은 세제 산업에 가와바타(Kawabata)의 KES-F시스템으로서 공지된 전지시험으로 이루어진다. 이 방법은 본 명세서에 참고로 인용된 문헌[S. Kawabata, "The Standardization and Analysis of Hand Evaluation", 2nd Ed., Textile Mach. Soc. of Japan, Osaka, 1980]에 기술되어 있다.
KES-F 시스템의 변수중 하나인 전단 히스테리시스 파라미터(shear hysterisis parameter) 2HG5는 직물 유연 점토의 특성화에 특히 유용한 것으로 밝혀졌다. 세제 조성물에 10중량%로 혼입될 경우 세탁된 직물의 전단 히스테리시스를 32% 이상, 더욱 바람직하게는 35% 이상 감소시키는 헥토라이트 점토가 본 발명에 바람직하다. 직물의 전단성은 직물이 직물의 평면내에서 변형될 때 서로에 대해 미끄러질 수 있는 직물의 용이성을 반영한다. 히스테리시스 손실은 섬유 이동의 마찰 저항의 척도이기 때문에 섬유 또는 사표면을 미끄럽게 처리하는 경우 전단 히스테리시스를 감소시킬 것을 예측할 수 있다. 전단 히스테리시스 파라미터 2HG5는 5˚에서 측정한, 변형시 전단응력과 복원시 전단응력 사이의 초기 차이에 대해 정의한 코드이다. 전단 히스테리시스 파라미터 2HG5는 본 명세서에 참고로 인용한 문헌[Finnimore and Koenig, Melliand Textilberichte 67(1986) pages 514-516]에 더욱 상세히 기술되어 있다.
전단 히스테리시스는 시험할 점토 10중량%를 함유하는 세제 조성물을 사용하여 면 테리 타월에 대해 측정한다. 이 시험은 하기 실시예에 더욱 상세히 기술되어 있다
세제 조성물에 사용된 헥토라이트 점토의 또 다른 특징은 직물에 침착하려는 성향이 대단히 크다라는 점이다. 표준 시험에서, 세제 조성물의 청구된 헥토라이트 점토의 직물에 대한 침착률은 통상의 스멕타이트형 점토 또는 합성 헥토라이트의 침착률보다 크다. 적합한 헥토라이트 점토의 예에는 뉴 저지주소재의 NL 케미칼즈로부터 제조된 벤톤(Bentone) EW 및 마칼로이드(Macaloid)와 인디스트리얼 미네랄 벤쳐즈(Industrial Mineral Ventures)로부터 제조된 헥토라이트가 포함된다.
[기타 세제 성분]
[세제 계면활성제]
본 발명의 조성물은 통상적으로 유기 표면활성제(계면활성제)를 함유하여 이러한 물질의 사용과 관련된 통상의 세정효과를 제공한다.
본 발명에 유용한 세제 계면활성제에는 공시된 합성 음이온성, 비이온성, 양쪽이온성 및 쯔비터이온성 계면활성제가 포함된다. 이들중 대표적인 것은 알킬 벤젠 설포네이트, 알킬-및 알킬에테르 설페이트, 파라핀 설포네이트, 올레핀 설포네이트, 알콕시화(특히 에톡시화)알콜 및 알킬 페놀, 아민 옥사이드, 지방산 및 지방산 에스테르의 알파-설포네이트 등이며, 이들은 세정 기술 분야에 널리 공지되어 있다. 일반적으로, 이러한 세제 계면활성제에는 C9-C18의 알킬 그룹을 포함된다. 음이온성 세제 계면활성제는 이의 나트륨, 칼륨 또는 트리에탄올암모늄염의 형태로 사용할 수 있으며 비이온성 물질은 일반적으로 약 5 내지 약 17개의 에틸렌 옥사이드 그룹을 포함한다. 본 명세서에 참고로 인용된 미합중국 특허 제3 995 669호에는 이러한 대표적인 세제 계면활성제의 목록이 자세하게 기재되어 있다. C11-C16알킬 벤젠 설포네이트, C12-C18파라핀 설포네이트 및 알킬 설포네이트, 및 에톡시화 알콜 및 알킬 페놀이 본 발명의 조성물에 특히 바람직하다.
또한, 계면활성제로서 본 발명에 유용한 것은 당해 기술분야에 공지된 수용성 비누, 예를들면, 통상의 나트륨 및 칼륨 코코낫 또는 탈로우(tallow) 비누이다.
계면활성제 성분은 본 발명에 따른 조성물의 1% 정도의 소량으로 함유될 수도 있으나, 바람직하게는 조성물은 계면활성제를 5 내지 40%, 바람직하게는 10 내지 30%로 함유한다. 에톡시화 비이온성 물질과 음이온성 물질(예 : 알킬 벤젠 설포네이트, 알킬 설페이트 및 파라핀 설포네이트)의 혼합물은 직물로부터 광범위한 오물과 얼룩을 드루-더-워시 클리닝(through-the-wash cleaning)하는데 바람직하다. 그러나, 비이온성 계면활성제의 농도가 과도하게 높은 경우 유연 점토를 침착시키는데 역효과를 초래한다. 따라서 조성물이 4% 이하의 비이온성 계면활성제를 함유하는 것이 바람직하다.
[세제 보조제]
본 발명의 조성물은 이의 세정 성능을 보조하는 기타 성분을 함유할 수 있다. 에를들면, 드루-더-워시 세제 조성물이 세제 보강제 및/또는 금속 이온 봉쇄제를 함유하는 것이 매우 바람직하다. 당해 기술분야에 세제 보강제로서 분류 및 공지된 화합물에는 니트릴로트리아세테이트, 폴리카복실레이트, 시트레이트, 카보네이트, 제올라이트, 수용성 포스페이트(예 : 트리-폴리포스페이트 및 나트륨 오르토-및 피로-포스페이트), 실리케이트 및 이들의 혼합물이 포함된다. 금속 이온 봉쇄제에는 상기 모두와 에틸렌디아민테트라아세테이트, 아미노폴리포스네이트(DEQUEST) 및 자세히 언급하기엔 너무 많은 기타 여러 종류의 다작용성 유기산 및 염 등의 물질이 포함된다. 여러가지 세제 조성물에 사용되는 이러한 물질의 전형적인 예는 미합중국 특허 제3 579 454호에 기술되어 있다. 일반적으로, 보강제/봉쇄제는 조성물의 약 0.5 내지 45%로 포함된다. 독일연방공화국 특허 제2 422 655호에 기술된 1 내지 10μ 크기의 제올라이트(예 : 제올라이트 A) 보강제가 저포스페이트 조성물에 사용하기에 특히 바람직하다.
포스페이트를 함유하지 않는 특히 적합한 보강제는 a) 하기 일반식(II)의 타트레이트 모노석시네이트 성분 1 내지 99중량%와 b) 하기 일반식(III)의 타르레이트 디석시네이트 성분 1 내지 99중량%를 포함하는 에테르 카복실레이트 혼합물이다.
Figure kpo00002
상기식에서, X는 H 또는 염형성 양이온이다.
이러한 유형의 보강제 시스템은 본 명세서에 참고로 인용된 부쉬(Busch) 등의 미합중국 특허 제4 663 071호 (1987. 5.5)에 보다 상세히 기술되어 있다.
전형적인 세제 조성물은 보강제를 5 내지 35% 함유한다.
본 발명의 세제 조성물은 또한 다양한 오물 및 얼룩에 대한 이들의 드루-더-워시 클리닝 성능을 강화시키기 위해 효소를 함유하는 것이 바람직하다. 세제에 사용하기에 적합한 아밀라제 및 프로테아제 효소는 당해 기술분야에 널리 공지되어 시판되는 액체 및 과립 세제 형태이다. 시판되는 세제 효소(아밀라제와 프로테아제의 혼합물이 바람직하다)는 전형적으로 본 발명의 조성물에 0.001 내지 2% 이상의 양으로 사용한다. 세제 셀룰라제 효소는 특히 면직물에 대해 세정 및 유연효과를 나타낸다. 이 효소는 본 발명의 세제 조성물에 매우 바람직하다.
본 발명의 조성물은 이들의 세정성능을 보조하는 다른 성분을 함유할 수 있다. 예를들면, 본 발명의 조성물은 유리하게는 표백제, 특히 퍼옥시산 표백제를 함유할 수 있다. 본 발명에 있어서, 용어 퍼옥시산 표백제는 퍼옥시산 자체 및 동일 반응계내에서 퍼옥시산을 제공할 수 있는 시스템 모두를 포함한다.
퍼옥시산 자체는 이의 알칼리 및 알칼리 토금속 염을 포함함을 의미한다. 퍼옥시산 및 디퍼옥시산(예 : 퍼옥시도데칸산(DPDA) 또는 퍼옥시프탈산)을 통상적으로 사용한다.
동일 반응계내에서 과산을 제공할 수 있는 시스템은 퍼옥시겐 표백제 및 이의 활성제로 이루어진다.
퍼옥시겐 표백제는 수용액중에서 과산화수소를 제공할 수 있는 화합물이며, 이들 화합물은 당해 기술분야에 널리 공지되어 있으며, 과산화수소, 알칼리 금속 퍼옥사이드, 유기 퍼옥사이드 표백제(예 : 우레아 퍼옥사이드) 및 무기 과염 표백재( 예 : 알칼리금속 과붕산염, 과탄산염, 과인산염, 과규산염 등)를 포함한다.
1수화물 및 4수화물 형태로 시판되는 과붕산나트륨, 탄산나트륨 과산화수화물, 피로인산나트륨 과산화수화물 및 우레아 과산화수화물이 바람직하다.
유리 과산화수소는 표백 활성제와 반응하여 퍼옥시산 표백제를 생성한다. 표백 활성제의 종류에는 에스테르, 이미드, 이미다졸, 옥심 및 탄산염이 포함된다. 이러한 종류에 있어서, 바람직한 물질에는 메틸 o-아세톡시 벤조에이트 ; 나트륨 -p-아세톡시 벤젠 설포네이트(예 : 나트륨 4-노나노일옥시벤젠 설포네이트, 나트륨-4-옥타노일옥시벤젠 설포네이트, 및 나트륨-4-데카노일옥시벤젠 설포네이트) ; 비오페놀, A 아세테이트 ; 테트라아세틸 에틸렌 디아민, 테트라아세틸 헥사메틸렌 디아민 ; 테트라아세틸 메틸렌 디아민이 포함된다.
본 명세서에 참고로 인용된 미합중국 특허 제4 483 778호 및 제4 539 130호에 기술된 매우 바람직한 다른 퍼옥시겐 표백활성제는 α-치환된 알킬 또는 알케닐 에스테르[예 : 나트륨-4-(2-클로로옥타노일옥시) 벤젠설포네이트, 나트륨 4-(3,5,5-트리메틸 헥사노일옥시)벤젠설포네이트]이다. 공개된 유럽 특허원 제0 116 571호에 기술된 바와같은 퍼옥시겐 표백 활성제 즉, 일반식 RXAOOH 및 RXAL의 화합물(여기서, R은 하이드로카빌그룹이고, X는 헤테로원자이며, A는 카보닐 가교 그룹이고, L은 이탈그룹이다), 특히 옥시벤젠설포네이트가 또한 적합한 퍼옥시산이다.
본 발명의 세제 조성물에 사용하기에 매우 바람직한 다른 세제 성분은 일반식 R4R5R6R7N+X-의 4급 암모늄 화합물[여기서, R4는 탄소수 약 8 내지 20, 바람직하게는 12 내지 18의 알킬이고, R5는 탄소수 1 내지 10의 알킬이며, R6및 R7은 각각 C1-C4알킬, 바람직하게는 메틸이고, X-는 음이온(예 : 염화물)이다]이다. 이러한 4급 암모늄 화합물의 예에는 C12-C14알킬 트리메틸 암모늄 클로라이드 및 코코알킬 트리메틸 암모늄 메토설페이트가 포함된다. 4급 암모늄 화합물은 0.5 내지 5%의 농도로 사용될 수 있다.
[부가 유연성분]
본 발명의 세제 조성물은 점토물질 이외에 다른 유연 성분을 추가로 함유할 수 있다. 적합 에로는 R1은 C6-C20하이드로카빌이고, R2는 C1-C20하이드로카빌이며, R3은 C1-C10하이드로카빌 또는 수소인 일반식 R1R2R3N의 아민을 들 수 있다. 이러한 형태의 바람직한 아민은 디탈로우메틸아민이다.
바람직하게는, 유연 아민은 R이 C9-C20알킬 또는 알케닐인 일반식 RCOOH의 지방산과의 착화합물로서 존재한다. 아민/지방산 착화합물은 입자 크기가, 예를들면, 0.1 내지 20㎛인 미립자의 형태로 존재하는 것이 바람직하다. 이들 아민/지방산 착화합물은 본 명세서에 참고로 인용된 유럽 특허원 제0 133 804호에 보다 상세하게 기술되어 있다. 1 내지 10%의 아민을 함유하는 조성물이 바람직하다.
전술한 아민과 하기 일반식의 인산 에스테르와의 착화물도 또한 적합하다.
Figure kpo00003
상기식에서, R8및 R9는 C1-C20알킬, 또는 일반식 알킬-(OCH2CH2)y의 에톡시화 알킬 그룹(여기에서, 알킬 치환체는 C1-C20, 바람직하게는 C8-C16이며, y는 1 내지 15, 바람직하게는 2 내지 10, 가장 바람직하게는 2 내지 5이다)이다. 이러한 형태의 아민/인산염 에스테르 착화합물은 본 명세서에 참고로 인용된 유럽 특허원 제0,168,889호에 보다 상세하게 기술되어 있다.
또한, 임의의 유연성분의 예로는 일반식 R10R11NCOR12의 유연 아미드[여기에서, R10및 R11은 독립적으로 C1-C22알킬, 알케닐, 하이드록시알킬, 아릴 및 알킬-아릴 그룹 중에서 선택되고, R12는 수소 또는 C1-C22알킬 또는 알케닐, 아릴 또는 알킬-아릴 그룹이거나, O-R13(여기서, R13은 C1-C22알킬 또는 알케닐, 아릴 또는 알킬-아릴 그룹이다)이다]를 들 수 있다. 이들 아미드의 바람직한 예는 디탈로우 아세트아미드 및 디탈로우 벤즈아미드이다. 아미드가 유연 아민에 대해 전술한 바와같이 조성물내에 지방산 또는 인산염 에스테르와의 착화합물 형태로 존재할 경우 우수한 결과가 수득된다.
아미드는 조성물중에 1 내지 10중량%로 존재한다. 아민 및 아미드 유연 성분은 크러쳐 혼합기에 가하고 분무 건조시키거나, 건조 분말로서 세제 과립에 가하거나, 용융 또는 용해된 형태로 세제 과립 또는 담체에 분무시킬 수 있다. 적합한 담체의 에는 과붕산 1수화물이다.
적합한 유연 성분은 또한 본 발명에 참고로 인용된 영국 특허원 제2 173 827호에 기술되어 있는 아민, 특히 본원에 기술되어 있는 치환된 사이클릭 아민이다. 일반식 1-(고급알킬)아미도(저급알킬)-2-(고급알킬)이미다졸린(여기에서, 고급 알킬은 탄소수 12 내지 22의 알킬이며, 저급 알킬은 탄소수 1 내지 4의 알킬이다)의 이미다졸린이 적합하다. 이러한 형태의 유연제 물질은 본 명세서에 참고로 인용된 베이커(Baker)등의 미합중국 특허원 제922 912호(1986.10.24.)에 기술된 바와 같이 입자 또는 응집체로서 조성물에 가하는 것이 바람직하다.
바람직한 사이클릭 아민은 1-탈로우아미도에틸-2-탈로우이미다졸린이다. 바람직한 조성물은 1 내지 10%의 치환된 사이클릭 아민을 함유한다.
또한, 본 발명의 조성물은 이미 언급한 성분들 이외에 미적 잇점 또는 추가의 생성물 성능 잇점을 제공하기 위해 시판 생성물에 전형적으로 사용되는 다양한 다른 임의 성분들을 함유할 수 있다. 대표적 성분들로는 pH 조절제, 향료, 염료, 표백제, 형광증백제, 오물현탁제, 하이드로트로프제 및 겔-조절제, 동결-융해 안정화제, 살균제, 방부제, 거품 조절제, 표백 활성제 등이 있다.
드루-더-워시 방식에 있어서, 조성물은 전형적으로 pH 7 내지 11의 수성 세탁욕중에서 세탁 직물에 500ppm 이상, 바람직하게는 0.10 내지 1.5%의 농도로 사용된다. 세탁을 5℃ 내지 비점에서 수행하여 우수한 결과를 수득할 수 있다.
[산업적 적용]
본 발명의 세제 조성물은 괴립 또는 액체 세제로 제형화될 수 있다. 고팽윤성 점토는 상 안정성을 유지하면서 액체 세제 조성물에 쉽게 혼입될 수 있는 것으로 밝혀져 있다.
점토물질은 단순 혼합, 바람직하게는 고전단 혼합기를 사용하여 액체 세제 조성물에 혼입시킬 수 있다.
과립 세제에 점토를 혼입하기 위해 몇가지 기술을 이용할 수 있다.
예를들면, 점토를 통상의 세제 성분의 크러쳐 혼합기에 분말 또는 슬러리로 가하고, 혼합하고 분무 건조시켜 세제 과립을 형성할 수 있다.
또는 점토 분말을 원하는 응집체 크기로 응집화한 후,다른 세제 성분을 함유하는 과립과 혼합할 수 있다. 또한 건조 혼합용 점토 과립은 천연 응집체를 적당한게 체 분별하거나 점토 슬러리를 적합한 미립자로 체에 분무하거나, 점토 입자를 탄산나트륨으로 응집체화하거나, 점토 슬러리를 분무건조시킴으로써 수득할 수 있다.
점토 입자는 또한 파우치(pouch) 또는 시트(sheet)와 같은 기재에 임의의 다른 유연성분과 함께 혼입시킬 수 있다. 이러한 종류의 기재는 통상의 세탁 세제와 함께 세탁물에 가할 수 있다.
바람직한 기재는 점토 입자 및 상술한 형태의 알킬아미도 알킬-2-알킬이미다졸린의 입자를 포함하는 파우치이다.
[실시예 I 내지 V]
하기 과립 세제 조성물을 제조한다 :
Figure kpo00004
*벤톤 이더블유(Bentone EW), 헥터 씨에이(Hector CA)로부터 고도로 정제된 헥토라이트[제조원 : 뉴 저지주 소재의 NL Chemicals]. 점토 형상이 홀쪽하고, 길이 : 폭의 비율은 10 : 1 이상이다(TEM 데이타). 층 전하분포 : 65% 이상이 0.23 내지 0.31임.
시판용 물질은 습윤제로 처리하여 왔다. 이들 물질을 습윤제로 처리하지 않는 경우도 마찬가지로 적합하다. 헥터 씨에이로부터의 헥토라이트인 마칼로이드(제조원 : 엔엘 케미칼즈 ; 소재지 : 뉴 저지주) 또한 적당하다.
점토 및 디스테아릴 메틸 아민을 포함하지 않는다는 것을 제외하고는 실시예 I과 동일한 세제 조성물에 각종 스멕타이트 점토를 10%의 농도로 가한다. 참조용 조성물에는 스멕타이트 점토가 함유되지 않고 대신 10% Na-황산염이 포함된다.
각 조성물을 하기와 같은 세탁 시험에 사용한다 : 3kg의 세탁물 및 목적하는 시험 견본(면 테리타월)[제조원 : 벨기에 왕국 소재의 산텐스(Santens) ; Lopez 유형, 340g/㎡]을 60℃에서 1회 세척 사이클을 사용하여 통상의 자동 드럼 세탁기(MIELE W726)에서 세탁한다. 세제 조성물은 0.308g CaCO3/ℓ의 수경도로 1.12%의 농도에서 사용한다. 세탁물을 20℃/65%의 상대습도에서 일련-건조시킨다. 이어서, 시험 견본을 기구로 가와바타 KES-F 시스템(5등급 2HG5에서 전단 히스테리시스는 KES-F-1 기구에 대해 파라미터와 유연성이 최적 상관관계를 가짐)을 사용하여 유연성에 대해 평가한다. 샘플 크기는 20×20㎝이고, 이에 의해 실제로 전단응력을 받게 되는 샘플 면적은 20×5㎝이다. 전단각도에 대한 전단응력의 곡선으로부터 전단히스테리시스를 5˚(2HG5)에서 N/m로 계산한다. 측정을 각각 8회 반복하여 95%의 신뢰도에서 평균 신뢰구간을 계산한다.
본 발명의 헥토라이트 점토는 전단 히스테리시스를 평균 40% 감소시킨다.
직물을 상기 세제 조성물을 사용하여 통상적인 방법으로 세탁한다. 세탁된 직물을 가와바타 평가 시스템-직물기(KES-F ; 직물의 유연성과 태깔을 결정하는 파라미터를 측정하기 위한 일련의 시험 기구)로 태깔과 유연성에 대해 평가한다. 본 발명의 목적을 위해서는 전단 히스테리시스(2HG5)가 특히 중요하다. 이 시험방법은 문헌[Melliand Textilberichte 67 (1986) pp 509-516]에 보다 상세하게 설명되어 있다.
[실시예 VI]
하기 액체 세제 조성물을 제조한다.
Figure kpo00005
* 실시예 I 내지 V에서와 같다.
[실시예 VII 내지 XI]
하기 과립 세제 조성물을 제조한다 :
Figure kpo00006
* 실시예 I 내지 V와 같다.

Claims (12)

  1. 세제 계면활성제 1% 이상, 세제 보강제 5 내지 35% 및 하기 일반식 ( I )의 천연 헥토라이트 점토 1 내지 25% [이는 층전하의 50% 이상이 0.23 내지 0.31로 되도록 하는 층 전하(x+y)분포를 갖는다]를 포함함을 특징으로 하는 세제 조성물.
    Figure kpo00007
    상기식에서, y는 0이거나 ; y가 0이 아닐 경우, MeIII은 Al, Fe 또는 B이고 ; Mn+는 1가(n=1) 또는 2가(n=2) 금속 이온이다.
  2. 제 1 항에 있어서, 헥토라이트 점토가 층전하의 65% 이상이 0.23 내지 0.31인 층전하(x+y) 분포를 갖는 세제 조성물.
  3. 제 2 항에 있어서, 10중량%의 점토를 함유하는 세제 조성물로 세탁하는 경우 면 테리 타월의 전단 히스테리시스 2HG5가 32% 이상 감소됨을 특징으로 하는, 1 내지 25%의 천연헥토라이트 점토를 함유하는 세제 조성물.
  4. 제 3 항에 있어서, 점토가 전단 히스테리시스파라미터를 35% 이상 감소시킴을 특징으로 하는 세제 조성물.
  5. 제 4 항에 있어서, 추가의 유연성분으로서 일반식 R1R2R3N의 아민(여기서, R1은 C6-C20하이드로카빌이고, R2는 C1-C20하이드로카빌이며, R3은 C1-C10하이드로카빌 또는 수소이다) 1 내지 10%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
  6. 제 5 항에 있어서, R1및 R2가 각각 탄소수 12 내지 18의 알킬이고, R3이 메틸인 세제 조성물.
  7. 제 6 항에 있어서, 아민이 일반식 RCOOH의 지방산(여기서, R은 C9-C20알킬 또는 알케닐이다)의 착화합물 형태로 존재하는 세제 조성물.
  8. 제 7 항에 있어서, 아민이 하기 일반식의 인산염 에스테르와의 착화합물 형태로 존재하는 세제 조성물.
    Figure kpo00008
    상기식에서, R8및 R9는 C1-C20알킬이거나, 알킬-(OCH2CH2)y의 에톡시화 알킬 그룹 (여기서, 알킬 치환체는 C1-C20이고, y는 1 내지 15의 정수이다)이다.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중의 어느 한 항에 있어서, 일반식 R10R11NCOR12의 아미드[여기서, R10및 R11은 독립적으로 C1-D22알킬, 알케닐, 하이드록시알킬, 아릴 및 알킬-아릴 그룹 중에서 선택되고 ; R12는 수소 또는 C1-C22알킬 또는 알케닐, 아릴 또는 알킬-아릴 그룹이거나, O-R13(여기서, R13은 C1-C22알킬 또는 알케닐, 아릴 또는 알킬-아릴 그룹이다)이다] 1 내지 10%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
  10. 제 9 항에 있어서, 아미드가 제 7 항의 지방산과의 착화합물 형태로 존재하는 세제 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 1 내지 10%의 1-(고급 알킬) 아미도(저급 알킬)-2-(고급 알킬)이미다졸린(여기서, 고급 알킬은 C12-C22의 알킬이고, 저급 알킬은 C1-C4의 알킬이다)을 추가로 포함하는 세제 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 하기 일반식(II)의 타트레이트모노석시네이트 성분 1 내지 99중량%와 하기 일반식(III)의 타트레이트 디석시네이트 성분 1 내지 99중량%를 포함하는 보강제 시스템 5 내지 35%를 추가로 포함함을 특징으로 하는 세제 조성물.
    Figure kpo00009
    상기식에서, X는 H 또는 염 형성 양이온이다.
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