KR950011424A - 신규한 옥사디아졸 카르본아미드 화합물, 이들의 제조방법 및 제초제로서 이들의 사용 - Google Patents

신규한 옥사디아졸 카르본아미드 화합물, 이들의 제조방법 및 제초제로서 이들의 사용 Download PDF

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Abstract

본 발명은 하기 일반식의 화합물을 기재한다 :
상기식에서, A는 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 아릴, 헤테로아릴 또는 아르알킬기, 또는 X-Y-(CH2)n-의 기로서, 이때 X는 임의로 치환된 알킬 또는 아릴기를 나타내고, n은 1 또는 2를 나타내며 Y는 산소 원자 또는 식 -S(0)m-(여기서 m은 0, 1 또는 2임)의 기를 나타내고; R1은 수소 원자 또는 알킬기를 나타내고; 그리고 R2는 수소 원자 또는 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬 또는 헤테로아르알킬기틀 나타낸다. 또한, 제조 방법 및 신규 중간체를 기재한다.

Description

신규한 옥사디아졸 카르본아미드 화합물, 이들의 제조방법 및 제초제로서 이들의 사용
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (25)

  1. 하기 일반식의 화합물 :
    상기식에서, A는 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 아릴, 헤테로아릴 또는 아르알킬기, 또는 X-Y-(CH2)n-의 기로서, 이때 X는 임의로 치환된 알킬 또는 아릴기를 나타내고, n은 1 또는 2를 나타내며 Y는 산소 원자 또는 식 -S(0)m-(여기서 m은 0, 1 또는 2임)의 기를 나타내고; R1은 수소 원자 또는 알킬기를 나타내고; 그리고 R2는 수소 원자 또는 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 알키닐, 시클로알킬, 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬 또는 헤테로아르알킬기틀 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, A는 임의로 치환된 알킬, 시클로알킬, 알케닐, 페닐, 피리딜 또는 티에닐 기, 또는 식 X-S(0)m-(CH2)m-의 기(여기서 X는 임의로 치환된 알킬 또는 페닐기를 나타내고, m은 0.1 또는 2를 나타내며 n는 1 또는 2를 나타냄), 또는 식 X-0-(CH2)n-의 기(여기서 X는 임의로 치환된 알킬 기를 나타내며; n은 1 또는 2를 나타냄)를 나타내는 화합물.
  3. 제2항에 있어서, A가 알킬 할로알킬 기, 또는 알케일 기, 임의로 치환된 페닐기, 또는 피리딜 기 또는 티에닐 기를 나타내는 화합물.
  4. 제3항에 있어서, A가 C3-6알킬기, 치환되지 않는 페닐, 또는 할로겐 원자로부터 독립적으로 선택된 1 또는 2개의 성분에 의해 치환된 페닐기, 및 알킬 및 할로알킬기, 또는 2-티에닐, 2-피리딜 또는 3-피리딜 기인 화합물.
  5. 제1 내지 4항 중 어느 한 항에 있어서, R1이 수소 원자를 나타내는 화합물.
  6. 제1 내지 5항 중 어느 한 항에 있어서, R2가 임의로 치환된 알킬기, 알케닐기, 또는 임의로 치환된 아릴, 아르알킬 또는 헤테로아르알킬 기인 화합물.
  7. 제6항에 있어서, R2가 Cl-8알킬기, 치환되지 않는 또는 치환된 C3-6시클로알킬, 또는 Cl-4알콕시 또는 프로파르길; 또는 알릴기; 또는 할로겐 원자 또는 Cl-4알킬기로부터 독립적으로 선택된 1또는 2개의 성분에 의해 임의로 치환된 페닐; 또는 식 R4-Cl-4알킬렌 기(여기서, R4는 피리딜, 푸릴 또는 티에닐 기, 또는 할로겐 및 Cl-4알킬로부터 독립적으로 선택된 1 또는 2개의 성분에 의해 임의로 치환된 페닐기를 나타냄)를 나타내는 화합물.
  8. 하기 일반식(III) 또는 (IV)의 각각의 화합물을 :
    (상기 식에서, X는 할로겐 원자 또는 C1-4알콕시 기를 나타냄) 일반식 HNR1R2의 화합물(V) (식에서, A, R1및 R2는 임의의 전술한 항에서 정의한 바와 같음)과 반응시키는 것으로 구성되는, 일반식(I) 또는 (II)의 화합물의 제조 방법.
  9. 제8항에 청구된 바의 방법에 의해 제조되는 제 1 내지 7항 중 어느 한 항에 정의된 바의 일반식(I) 또는 (II)의 화합물.
  10. 제8항에 정의된 바의 그 자체로서 일반식(III) 또는 (IV)의 화합물.
  11. 일반식 A-C0-NH-CH2-CN의 화합물(VI)을 일반식 R5-ONO의 화합물(VII) (식에서, R5는 알킬기일)로, 및 알탄올 XOH로 처리하는 것으로, 구성된 제10항에 청구된 바의 일반식(III)의 에스테르 화합물의 제조 방법.
  12. 옥심 아미드 A-C(NH2)=NOH(IX)를 일반식 Hal COCOOX의 호합물(X) (식에서, Hal은 할로겐 원자를 나타냄)과 반응시키는 것으로 구성된, 제10항에 청구된 바의 일반식(IV)의 에스테르 화합물의 제조 방법.
  13. 제11항에 청구된 바의 방법에 의해 제조되는, 제8항에 정의된 바의 일반식 (III)의 에스테르 화합물.
  14. 제12항에 청구된 바의 방법에 의해 제조되는, 제8항에 정의된 바의 일반식 (IV)의 에스테르 화합물.
  15. 제10, 13또는 14항에 청구된 바의 일반식(III) 또는 (IV)이 에스테르 화합물을 유도시킴에 의한 제 10항에 청구된 바의 일반식(III) 또는 (IV)의 산 할로겐화물 화합물의 제조 방법.
  16. 제15항에 청구된 바의 방법에 의해 제조되는, 제8항에 정의된 바의 일반식 (III) 또는 (IV)의 산 할로겐화물 화합물.
  17. 담체와 함께 제1 내지 7항, 또는 제9항 중 어느 한 항에 청구된 바의 일반식(I) 또는 (II)의 화합물로 구성되는 제초 조성물.
  18. 제17항에 있어서, 적어도 2개의 담체를 포함하며, 이들 중 적어도 하나는 계면 활성제인 조성물.
  19. 제1 내지 7항, 또는 제9항 중 어느 한 항에 청구된 바의 일반식(I) 또는 (II)의 화합물, 또는 제17 또는 18항에 청구된 바의 조성물을 특정 장소에 적용하는 것으로 구성되는, 특정 장소에서 원치않는 식물 성장을 퇴치하는 방법.
  20. 제초제로서 제1 내지 7항, 또는 제9항 중 어느 한 항에 청구된 바의 일반식 (I) 또는 (II)의 화합물, 또는 제17 또는 18항에 청구된 바의 조성물의이용.
  21. 담체와 함께 제 10, 13, 14 및 제16항 중 어느 한 항에 청구된 바의 일반식 (III) 또는 (IV)의 화합물로 구성된 제초 조성물.
  22. 제21항에 있어서, 적어도 2개의 담체를 포함하며, 이들 중 적어도 하나는 표면 활성제인 조성물.
  23. 제 10, 13, 14 및 제16항 중 어느 한 항에 청구된 바의 일반식(III) 또는 (IV)의 화합물을 특정 장소에 적용하는 것으로 구성되는, 특정 장소에서원치않는 식물 성장을 퇴치하는 방법.
  24. 제초제로서 제 10, 13, 14 및 제16항 중 어느 한 항에 청구된 바의 일반식 (III) 또는 (IV)의 화합물의 이용.
  25. 일반식(I), (II), (III) 또는 (IV)의 호합물, 또는 그의 제초 방법; 또는 이리하여 제조된 화합물; 또는 상기 화합물이 관련된 제초 방법, 조성물 또는 이용: 실질적으로 앞서 정의한 바와 같거나 특정 실시예를 참고로 정의된 임의의 상기 양태.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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