KR950004934B1 - 투자율이 우수한 무방향성 전기 강판 및 그 제조방법 - Google Patents

투자율이 우수한 무방향성 전기 강판 및 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

투자율이 우수한 무방향성 전기 강판 및 그 제조방법
본 발명은 각종 모터, 발전기, 소형 변압기등의 전기기기의 철심으로 사용되는 무방향성 전기 강판에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 투자율이 높은 무방향성 전기 강판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
무방향성 전기 강판은 주로 전기기기의 철심으로 사용되며, 전기기기의 모터 및 발전기에서는 스테이터(Stator)와 로터(Rotor) 사이에 간격이 불가피하게 발생된다. 이 간격이 동일할 때는 투자율이 높은 소재를 쓸수록 모터의 경우 유도자기장이 크게되며, 발전기나 변압기에서는 유도전류가 커질 수 있다. 그러므로 높은 투자율은 각종 전기기기의 크기를 소형화할 수 있으며, 또한 성능을 향상시킬 수 있다.
무방향성 전기강판은 일반적으로 철손을 향상시키기 위해서 Si을 첨가하지만 Si량이 증가되므로서 투자율이 떨어지므로 이를 극복하기 위한 방안이 필요하다.
이와같은 무방향성 전기강판의 제조방법은 풀리프로세스(Fully-process)와 세미프로세스(Semi-process)로 구분되며, 폴리프로세스는 열연판을 산세한 후 냉간압연하고, 소둔한 후 수요가가 가공하는 공정이며, 세미프로세스는 열연판을 산세한 후 냉간압연하고 중간소둔 후 통상 15% 이하의 압하율로 경압연한 후 수요자가 가공하고 응력제거 소둔하는 공정이다.
본 발명은 본 발명자가 발명하여 기 특허출원한 대한민국 특허출원제 91-18622호, 및 제91-18626호를 개량한 것으로서, 기 특허 출원에 제시된 성분계에서 탄소(C)의 함량을 적절히 제어하고, 이에 상응하는 제조조건을 적절히 선정하므로서 자기특성에 유리한 집합조직을 형성시켜 특히 투자율이 우수한 무방향성 전기강판을 제공하고자 하는데, 그 목적이 있다.
이하, 본 발명에 대하여 설명한다.
본 발명은, 중량%로, C : 0.003%, 이하, Si ; 3.5% 이하, Mn : 0.5% 이하, P : 0.15% 이하, S : 0.01% 이하, N : 0.008% 이하, Al : 0.7% 이하, O : 0.005% 이하, Ni : 0.02-1.0%, Cu : 0.02-0.5%, Sn과 Sb중 1종 또는 2종의 합 : 0.02-0.2%, 잔부 Fe 및 기타 불가피하게 함유되는 불순물로 조성되고, 최종 강판의 결정립 크기가 20-250㎛이고, 그리고 호르타식에 의한 집합조직 계수(Tp)가 0.3이상인 투자율이 우수한 무방향성 전기강판에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, 중량%로, C : 0.02%-0.06%, Si : 3.5% 이하, Mn : 0.5% 이하, P : 0.15% 이하, S : 0.01% 이하, N : 0.008% 이하, Al : 0.7% 이하, Ni : 0.02-1.0%, Cu : 0.02-0.5%, O : 0.008% 이하, Sn과 Sb중 1종 또는 2중의 합 : 0.02%-0.2%, 잔부 Fe 및 기타 불가피하게 첨가되는 불순물로 조성되는 강 슬라브를 열간압연한 후, 열연판 소둔하거나 또는 비산화성 분위기에서 상소둔하고, 산세, 1단 냉간압연 혹은 1차 냉간압연하고 중간소둔한 다음 2차 냉간압연을 실시하는 2단 냉간압연을 실시한 후 냉연판을 750℃ 이상 900℃ 이하에서 탈탄소둔하고 최종 고온소둔하는 풀리프로세스 공정에 의해 투자율이 우수한 무방향성 전기강판을 제조하는 방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 상기의 성분으로 조성되는 강슬라브를 열간압연한 후 열연판 소둔하거나 또는 비산화성 분위기에서 상소둔하고, 산세, 1차 냉간압연, 중간소둔 및 경압연한 후 수요가가 가공후 응력제거 소둔하는 세미프로세스 공정중 중간소둔 혹은 응력제거 소둔시 탈탄하는 투자율이 우수한 무방향성 전기강판을 제조하는 방법에 관한 것이다.
이하, 본 발명의 성분범위에 대하여 설명한다.
상기 C은 최종제품에 과다하게 잔류시 자성을 저해하므로 탈탄시 탈탄능력을 고려하여 최대 0.06%까지 첨가하여, 자성에 유리한(110)면 및 (200)면등의 집합조직을 잘 발달시켜 투자율을 향상시키기 위해서는 적어도 0.02% 이상 첨가하는 것이 바람직하다. 풀리프로세스에서 냉간압연판을 탈탄소둔하거나 또는 세미프로세스에서 수요가 응력제거 소둔시 탈탄소둔 후의 잔류 C이 0.003% 이하가 되게 하므로서 C에 의한 자기시효는 억제될 수 있다.
상기 Si이 3.5% 이상 첨가되는 경우에는 냉간압연성이 나빠지며 투자율도 현저하게 감소되므로, 상기 Si의 함량은 3.5% 이하로 제한하는 것이 바람직하다.
상기 Mn은 비저항을 증가시켜 철손을 향상시키지만, S와 결합하여 결정립 성장을 방해하는 MnS를 형성할 수 있으므로, 상기 Mn의 함량은 0.5% 이하로 제한하는 것이 바람직하다.
상기 P는 비저항을 증가시키지만 냉간압연성을 저해하므로 상기 P의 함량은 0.15% 이하로 제한하는 것이 바람직하다.
상기 S는 불순물로서, 가능한한 첨가되지 않는 것이 자성에 유리하며 본 발명에서는 0.01% 이하로 제한하는 것이 바람직하다.
상기 Al은 비저항을 증가시키고, 탈산작용을 하는것 이외에 AIN등의 비금속 개재물을 조대화시켜 투자율을 향상시키기 위하여 첨가되나, 값도 고가이고 자성향상정도를 고려하여 최대 0.7%까지 첨가하는 것이 바람직하다.
상기 N와 O는 불순물이므로 가능한 적게 함유하는 것이 유리하며, 각각 최대 0.008%까지도 허용될 수 있다.
상기 Ni는 단독첨가시에는 그 효과가 적으며, Sn 및 Sb의 단독 또는 복합성분계 및 Cu와 3원소이상이 복합으로 첨가하되, 그 첨가량은 0.02~1.0%로 한정하는 것이 바람직한데, 그 이유는 그 함량이 0.02% 미만인 경우에는 자성향상정도가 적으며, 1.0%를 초과하면 첨가량에 비해 자성향상 적기 때문이다.
상기 Cu는 조대한 유화물을 형성하여 결정립을 쉽게 성장시키고 자성에 유리한 집합 조직을 잘발달시키지만 열간압연시 판표면의 균열을 조장시킬 수 있는 성분으로서 그 함량이 0.02% 미만인 경우에는 자성향상 정도가 적고, 0.5%를 초과하는 경우에는 판표면에 결합이 발생하므로, 상기 Cu의 함량은 0.02~0.5%로 한정하는 것이 바람직하다. 상기 Sn 및 Sb는 단독 또는 복합으로 첨가될 수 있으며, 그 첨가량이 0.02% 미만인 경우에는 그 첨가효과가 적고, 0.2%를 초과하는 경우에는 냉간압연이 곤란해지므로 Sn 및 Sb의 단독 또는 복합첨가량은 0.02~0.2%로 제한하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 무방향성 전기강판의 제조방법에 대하여 설명한다. 제강공정에서 상기한 성분 범위를 조성된 후 슬라브로 주조되고, 이 강 슬라브는 재가열로에 장입되고 열강압연한 후 500℃ 이상에서 권취할 수 있으며, 슬라브의 재가열 온도는 1250℃까지 가능하다.
상기와 같이 열간압연된 열연판은 소둔공정없이 산세후 냉간압연할 수도 있으나, 열연판을 소둔하는 경우 투자율은 더욱 향상될 수 있다. 열연판의 소둔방식이 연속 소둔인 경우에는 700-1100℃ 온도범위에서 10초-20분정도 소둔하는 것이 바람직하고, 상소둔인 경우에는 600-1000℃의 온도범위에서 30분-10시간 동안 소둔하는 것이 바람직하다.
상소둔은 장시간 행하여지므로 판표면의 산화방지를 위하여 질소 혹은 기타의 비산화성 분위기에서 소둔을 행하는 것이 바람직하며, 연속소둔시에는 분위기가 자기특성에 미치는 영향은 그다지 크지 않다.
상기와 같이 연속소둔 또는 상소둔된 열연판은 산세후 냉간압연되는데, 폴리프로세스인 경우에는 1단 냉간압연하거나 또는 1차 냉간압연후 통상 700-1000℃의 온도범위로 중간소둔후 2차 냉간압연하는 2단 냉간압연을 실시하며, 냉간압연판은 탈탄소둔후 고온소둔된다.
이때, 탈탄소둔은 700-900℃의 온도범위에서 1-10분 이내로 실시하는 것이 바람직하며, 고온소둔은 700-1100℃의 범위에서 10분이내로 실시하는 것이 바람직하다.
또한 상기 탈탄소둔은 60-90%의 질소와 40-10%의 수소 혼합분위기에서 이슬점 30-60℃로 하여 1-10분 동안 연속소둔방식에 의해 실시하는 것이 바람직하다.
상기 질소 및 수소의 함량이 너무 많거나 너무 적으면 탈탄이 불충분하고, 이슬점이 너무 높거나 낮아도 탈탄후의 잔류 C의 함량이 많아지게 된다. 그리고, 고온소둔시 소운온도가 700℃ 이하인 경우에는 소둔시간이 길어지며, 1100℃ 이상인 경우에는 산화층이 판표면에서 깊게 발생되어 자성이 열화되므로, 고온소둔시의 온도는 700-1100℃로 선정하는 것이 바람직하다.
세미프로세스인 경우에는 1차 강냉간압연한 후, 중간소둔을 행하는데, 중간 소둔은 통상 650~950℃의 온도범위에서 10분 이하로 실시하는 것이 바람직하다. 상기와 같이 중간소둔된 냉간압연판은 2~15%로 경압연된 후 수요가가 가공하게 된다.
세미프로세스인 경우에는 상기 중간소둔시 또는 수요가 응력제거소둔시 탈탄소둔할 수 있는데, 중간소둔시 탈탄소둔은 질소와 수소의 혼합분위기 및 750-950℃의 온도범위에서 1-10분 동안 연속소둔하여 탈탄하는 것이 바람직하다.
그리고, 상기와 같이 중간 소둔시 탈탄소둔할 경우 탈탄분위기는 60-90%의 질소와 40-10%의 수소의 혼합분위기에서 30-60℃의 이슬점온도로 행하는 것이 바람직한데, 질소 및 수소의 함량이 너무 많거나 적으면 탈탄이 불충분하며, 이슬점도 너무 높거나 낮아도 탈탄후 C의 함량이 많아지게 된다.
한편, 수요가 응력제거소둔시 탈탄소둔하는 경우에는 60-90%의 질소와 40-10%의 수소의 혼합분위기에서 750~850℃의 소둔온도 및 30-60℃의 이슬점 조건으로 탈탄소둔하는 것이 바람직한데, 이때, 질소 및 수소의 함량이 너무 많거나 적으면 탈탄이 불충분하고, 이슬점이 너무 높거나 낮으면, 탈탄후의 잔류 c의 함량이 많아지게 된다.
폴리프로세스에 의해 무방향성 전기강판을 제조하는 경우에는 강판의 결정립 크기가 20㎛이상, 바람직하게는 20-180㎛, 보다 바람직하게는 30-150㎛ 이고, 그리고 호르타식에 의해 계산된 집합조직계수가 0.3이상, 바람직하게는 0.5이상이 되도록 제조공정조건을 제어하는 것이 바람직하다.
한편, 세미프로세스에 의해 무방향성 전기강판을 제조하는 경우에는 강판의 결정립크기가 50㎛ 이상, 바람직하게는 50-250㎛, 보다 바람직하게는 80-200㎛이고, 그리고 호르타식에 의해 계산된 집합조직계수가 0.3이상, 바람직하게는, 0.5이상이 되도록 제조공정조건을 제어하는 것이 바람직하다.
상기한 호르타(Horta)식에 의해 계산된 집합조직계수(Texture parameter)는, 하기식(1)과 (2)로 표현된다. 하기식(1)은 측정된 강판에서 임의의(hk1)면의 면강도를 나타내며, 하기식(2)는 집합조직계수로서 각각의 면강도중에서 자성에 유리한 결정면인(200),(110) 및 (310)면의 면강도와 자성에 불리한 결정면인 (211),(222) 및 (321)면의 면강도의 비로 나타내어진다. 하기식(1)에서 Ihkl은 측정시료의 집합조직 지수(Texture inetensity), IRohkl은 표준시료의 집합조직 지수(Random intensity)를 그리고 Nhkl다중도(Multiplicity factor)를 의미한다. (200), (100) 및 (310)면의 면강도는 클수록, 그리고, (211), (222) 및 (321)면의 면강도는 작을수록 즉, 집합조직계수가 클수록 자기특성이 향상된다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.
[실시예 1]
제강공정에서 제조된 하기 표 1과 같은 성분의 강슬라브를 1200℃에서 가열하고 열간 마무리압연시 종료온도를 850℃가 되게 열간압연하여 2.0㎜ 열연판으로 한 후 600℃로 권취하였다. 열연판은 하기 표 2와 같은 조건으로는 소둔 혹은 소둔없이 산세하고 0.5㎜의 두께로 냉간압연하였다. 이때 열연판을 상소둔한 경우에는 100% 질소 분위기로 하므로서 표면산화물 억제하였다.
연속소둔은 대기분위기로 실시하였다.
상기와 같이 냉간압연된 냉연판을 30%의 수소와 70% 질소의 혼합가스분위기 및 이슬점 40℃에서 하기표 2와 같이 3분간 탈탄소둔하고 고온소둔하였다. 고온소둔은 20% 수소와 80% 질소의 혼합분위기에서 3분간 실시되었다. 상기와 같이 고온소둔한 소둔판을 절단한 후 투자율을 측정하고, 그 측정 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
[표 1]
[표 2]
(*) μ1.5 : 50㎐에서 1.5Tesla의 자속밀도가 얻어지도록 자화했을 때의 투자율
상기 표 2에 나타난 바와 같이, 본 발명의 성분범위에 해당하는 발명강(a,b 및 c)을 본 발명에 부합되는 제조조건으로 제조한 발명재(1-9)는 본 발명의 성분범위 및/또는 제조조건을 벗어나는 비교재(1-8)에 비하여 투자율이 높게 나타남을 알 수 있다.
상기 표 2의 발명재(1-3)에 대한 집합조직을 관찰한 결과(110) 면 및 (200)면 지수 값이 각각 1.2~1.7 수준이었으나, 비교재(6,7)에 대한 집합조직을 관찰한 결과 상기 면지수값이 0.6~1.0수준으로 나타났다. 이때, 집합조직의 면지수 값은 Horta 집합조직강도를 나타낸다. 그리고, 탈탄소둔후 잔류하는 C의 함량을 조사한 결과 본 발명재(1-9)의 경우 0.001~0.003% 범위이었다.
[실시예 2]
하기 표 3과 같은 성분계의 강을 1230℃로 재가열한 후, 850℃에서 열간마무리압연 한 다음, 750℃로 권취하였다.
상기와 같이 권취된 열간압연판을 하기 표 4의 제조조건으로 제조한 다음, 투자율을 측정하고, 그 측정결과를 하기 표 4에 나타내었다.
하기 표 4에서의 비교재(1-2) 및 발명재(1-3)는 풀리프로세스 공정으로 제조된 것으로서, 발명재(1-3)의 경우에는 냉연판 탈탄소둔시 각각의 온도에서 20% 수소와 80%의 질소의 혼합분위기에서 이슬점(Dew Point)을 45℃로 하여 4분간 실시하고, 고온소둔은 30% 수소와 70% 질소의 분위기에서 각각의 온도로 3분간 행한것이며, 비교재(1) 및 (2)에 있어서, 탈탄소둔시의 노내 분위기는 질소가 50%인 수소가 50%인 혼합분위기이고, 이슬점은 80℃이었다.
비교재(2)의 경우에는 잔류 C의 함량이 0.006%이었으며, 발명재(2)의 경우에는 잔류 C의 함량이 0.0023%이었다.
비교재(3-4) 및 발명재(4-6)은 세미프로세스 공정으로 제조된것으로서, 비교재(3) 및 발명재(4-5)의 경우에는 중간소둔후 응력제거 소둔시 각각의 온도에서 질소 70%와 수소 30%의 혼합분위기에서 이슬점 40℃로 하여 2시간동안 탈탄소둔후 노냉한 것이다.
비교재(4)는 질소 40%와 수소 60%의 혼합분위기에서 이슬점 10℃로 하여 2시간동안 탈탄소둔후 노냉하한 것이며, 발명재(6)은 탈탄소둔을 중간소둔에서 질소 20%와 수소 80%의 혼합분위기에서 이슬점 45℃로 탈탄한 것이다. 탈탄소둔은 중간소둔공정과 응력제거 소둔시에도 가능한 것으로 조사되었다.
[표 3]
[표 4]
상기 표 4에 나타난 바와같이, 본 발명의 성분범위 및 제조조건에 부합되는 발명재(1-6)이 본 발명의 성분범위에 포함되더라도 제조조건이 본 발명을 벗어나는 비교재(1-4)에 비하여 투자율이 훨씬 우수하게 나타남을 알 수 있다.
또한, 세미프로세스로 제조된 비교재(3) 및 (4)의 경우 결정립 크기는 각각 80㎛ 및 75㎛이였고, 호르타식에 의한 집합조직계수는 0.40 및 0.25이였다.
이에 비하여 발명재(4)의 경우 결정립 크기는 120㎛이였고, 집합조직계수는 0.68이였다.
한편, 폴리프로세스로 제조된 발명재(1)의 경우 결정립 크기는 75㎛이였고, 집합조직계수는 0.5이였다.
상술한 바와같이, 본 발명은 자기특성중 특히 투자율이 우수한 무방향성 전기강판을 제공하므로서 각종 전기기기의 크기를 소형화하고 그 성능을 향상시킬 수 있어 각종 모터, 발전기, 소형변압기등의 전기기기 분야에 널리 적용될 수 있는 효과가 있는 것이다.

Claims (6)

  1. 중량%로, C : 0.003%, 이하, Si ; 3.5% 이하, Mn : 0.5% 이하, P : 0.15% 이하, S : 0.01% 이하, N : 0.008% 이하, Al : 0.7% 이하, O : 0.005% 이하, Ni : 0.02-1.0%, Cu : 0.02-0.5%, Sn과 Sb중 1종 또는 2종의 합 : 0.02-0.2%, 잔부 Fe 및 기타 불가피하게 함유되는 불순물로 조성되고, 최종강판의 결정립 크기가 20-250㎛이고, 그리고 호르타식에 의한 집합조직 계수(Tp)가 0.3이상임을 특징으로 하는 투자율이 우수한 무방향성 전기강판.
  2. 강슬라브를 열간압연, 산세, 1단 냉각 압연 혹은 1차 냉간압연하고 중간소둔한 후 2차 냉간압연을 실시하는 2단 내안압연을 실시한 다음, 냉간압연판을 탈탄소둔한 후 최종 고온 소둔하는 풀리프로세스에 의해 무방향성 전기강판을 제조하는 방법에 있어서, 상기 강슬라브가 중량%로, C : 0.02-0.06%, Si : 3.5% 이하, Mn : 0.5% 이하, P : 0.15% 이하, S : 0.01% 이하, N : 0.008% 이하, Al : 0.7% 이하, O : 0.005% 이하, Ni : 0.02-1.0%, Cu : 0.02-0.5%, Sn과 Sb중 1종 또는 2종의 합 : 0.02%-0.2%, 잔부 Fe 및 기타 불가피하게 함유되는 불순물로 조성되고, 그리고 상기 냉간압연판의 탈탄소둔이 750-900℃의 소둔온도, 60-90%의 질소와 40-10%의 수소와의 혼합분위기 및 30-60℃의 이슬점에서 1-10분동안 행하여지는 것을 특징으로 하는 투자율이 우수한 무방향 전기강판의 제조방법.
  3. 강슬라브를 열간압연, 열연판 소둔, 산세, 1단 냉간압연 혹은 1차 냉간압연하고 중간소둔한 후 2차 냉간압연을 실시하는 2단 냉간압연을 실시한 다음, 냉간압연판을 탈탄소둔한 후 최종 고온소둔하는 풀리프로세스에 의해 무방향성 전기강판을 제조하는 방법에 있어서 상기 강슬라브가 중량%로 C : 0.02-0.06%, Si : 3.5% 이하, Mn : 0.5% 이하, P : 0.15% 이하, S : 0.01% 이하, N : 0.008% 이하, Al : 0.7% 이하, O : 0.005% 이하, Ni : 0.02-1.0%, Cu : 0.02-0.5%, Sn과 Sb중 1종 또는 2종의 합 : 0.02%-0.2%, 잔부 Fe 및 기타 불가피하게 함유되는 불순물로 조성되고, 상기 열연판의 소둔이 700-1100℃의 온도범위에서 10초-20분동안 연속소둔되거나 또는 비산화성 분위기에서 600-1000℃의 온도범위에서 30분-10시간 동안 상소둔되고, 그리고 상기 냉간압연판의 탈탄소둔이 750-900℃의 소둔온도, 60-90%의 질소와 40-10%의 수소와의 혼합분위기 및 30-60℃의 이슬점에서 1-10분 동안 행하여지는 것을 특징으로 하는 투자율이 우수한 무방향성 전기강판의 제조방법.
  4. 강슬라브를 열간압연, 산세, 1단 냉간압연, 중간소둔 및 경압연한 후, 수요가가 가공한 다음, 응력제거 소둔하는 세미프로세스에 의해 무방향성 전기강판을 제조하는 방법에 있어서 상기 강슬라브가 중량%로, C : 0.02-0.06%, Si : 3.5% 이하, Mn : 0.5% 이하, P : 0.15% 이하, S : 0.01% 이하, N : 0.008% 이하, Al : 0.7% 이하, O : 0.005% 이하, Sn과 Sb중 1종 또는 2종의 합 : 0.02%-0.2%, Ni : 0.02-1.0%, Cu : 0.02-0.5%, 잔부 Fe 및 기타 불가피하게 함유되는 불순물로 조성되고 ; 그리고 상기 1차 냉간압연한 후의 중간소둔시 냉연판을 750-900℃의 소둔온도, 60-90%의 질소와 40-10%의 수소와의 혼합분위기 및 30-60℃의 이슬점에서 1-10분동안 탈탄소둔하는 것을 특징으로 하는 투자율이 우수한 무방향 전기강판의 제조방법.
  5. 강슬라브를 열간압연, 산세, 1차 냉간압연, 중간소둔 및 경압연한 후, 수요가가 가공한 다음, 응력제거 소둔하는 세미프로세스에 의해 무방향성 전기강판을 제조하는 방법에 있어서 상기 강슬라브가 중량%로, C : 0.02-0.06%, Si : 3.5% 이하, Mn : 0.5% 이하, P : 0.15% 이하, S : 0.01% 이하, N : 0.008% 이하, Al : 0.7% 이하, O : 0.005% 이하, Sn과 Sb중 1종 도는 2종의 합 : 0.02%-0.2%, Ni : 0.02-1.0%, Cu : 0.02-0.5%, 잔부 Fe 및 기타 불가피하게 함유되는 불순물로 조성되고 ; 그리고 수요가 가공후 행하는 응력제거 소둔시 750-850℃의 소둔온도, 60-90%의 질소와 40-10%의 수소와의 혼합분위기 및 30-60℃의 이슬점에서 1-10분동안 탈탄소둔하는 것을 특징으로 하는 투자율이 우수한 무방향 전기강판의 제조방법.
  6. 강슬라브를 열간압연, 열연판소둔, 산세, 1차 냉간압연, 중간소둔 및 경압연한 후, 수요가가 가공한 다음, 응력제거 소둔하는 세미프로세스에 의해 무방향성 전기강판을 제조하는 방법에 있어서 상기 강슬라브가 중량%로, C : 0.02-0.06%, Si : 3.5% 이하, Mn : 0.5% 이하, P : 0.15% 이하, S : 0.01% 이하, N : 0.008% 이하, Al : 0.7% 이하, O : 0.005% 이하, Sn과 Sb중 1종 또는 2종의 합 : 0.02%-0.2%, Ni : 0.02-1.0%, Cu : 0.02-0.5%, 잔부 Fe 및 기타 불가피하게 함유되는 불순물로 조성되고 ; 상기 열연판 소둔이 700-1100℃의 온도범위에서 10초-20초 동안 연속 소둔되거나 또는 비산화성 분위기에서 600-1000℃의 온도범위 범위에서 30분-10시간 동안 상소둔되고 ; 그리고 상기 1차 냉간압연한 후의 중간소둔시 냉연판을 750-900℃의 소둔온도, 60-90%의 질소와 40-10%의 수소와의 혼합분위기 및 30-60℃의 이슬점에서 1-10분동안 탈탄소둔하는 것을 특징으로 하는 투자율이 우수한 무방향 전기강판의 제조방법.
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